阱制造技术

本发明专利技术提供一种热阱装置（１），其包括具有至少一个进气口（３）、至少一个出气口（５）的壳体（２）、至少一个加热装置（７）及至少一个收集装置（１０），用以将反应副产物转化成产物。其中，收集装置设置于壳体内，位于进气口与出气口之间，其直径实质符合壳体的直径，且其具有至少一个开孔（１８）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及热阱的领域，是指真空处理系统中为清洁从处理区排放的气体所使用 的装置。具体而言，本专利技术揭示包含收集装置的新颖热阱装置，可有效转化反应副产物。通 过收集装置的几何形状、间距及温度，可以达到此种高效率的转化。
技术介绍
真空处理系统在所属
中已广为人知，并用于多种应用中，例如，在光电工 业或在显示器工业中，分别用于生产薄膜太阳能电池或TFT(薄膜晶体管)显示器。真空处 理系统通常包括真空环境中的基板输送路径。沿着上述输送路径，可设置各种对基板起作 用的处理装置(处理站或处理模块)，例如加热装置、冷却装置、通过化学气相沉积(CVD)等 进行层沉积的装置、进行蚀刻或品质管控的装置等等。EP 0575055及US 4，358，472号专 利均显示所谓的直列式(inline)真空处理系统。通常，真空处理系统的各个模块是通过阀 件或闸门彼此分隔，以免交叉污染；同时，上述模块内的压力是利用真空泵(诸如初期(低 度)真空泵或高度真空泵)设定为低于环境压力(亦即大气压力)。在真空处理系统操作期间，将处理气体馈入处理环境，例如，将二乙基锌(diethyl zinc,DEZ)馈入P本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种气相沉积热阱装置（１），其包括：壳体（２），包括至少一个进气口（３）及至少一个出气口（５）；至少一个加热装置（７）；以及至少一个收集装置（１０），用以将反应副产物转化成沉积在所述收集装置及／或所述壳体的内表面上的产物；其中，所述收集装置设置于所述壳体内，位于所述进气口与所述出气口之间，以及其中，所述收集装置的直径实质符合所述壳体的直径，且具有至少一个开孔（１８）。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：T·费舍尔，
申请(专利权)人：欧瑞康太阳能处贝区市公司，
类型：发明
国别省市：CH