微浮雕结构制造技术

本发明专利技术提供了一种形成作为分层结构体一部分的浮雕图案的方法，包括在所述结构体的一层的表面上形成浮雕图案，随后在所述浮雕图案的至少一部分上形成保护固定层，用于在所述结构体的任何后续加工中保护下面的浮雕图案；由此也提供了一种分层结构体，通常包括表面形成有浮雕图案的基板，其中，所述浮雕的至少一部分设置有保护固定层，用于在该结构体的任何后续加工中，例如在形成设置有浮雕图像的层压结构体时，保持浮雕的特征。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及微浮雕结构、采用嵌入薄膜的结构体以及他们的制造方法。
技术介绍
有多种技术可以将微米级或甚至纳米级的浮雕(relief)凸印(emboss)在各种材料中。然而，在进一步机械(凸印、压印)处理，或者，例如，在相对高的温度下、特别是在热塑性材料情况下进行层压时，在浮雕基本上被扰乱或完全擦掉时或存在浮雕图案可能被同样地损坏的危险时，维持浮雕是一个常见难题。由于衍射指数匹配或者由于浮雕的机械性和/或热塑性破坏，任何已知层压技术都可能彻底擦掉衍射或类似微浮雕，因此，将衍射浮雕嵌入像聚碳酸酯等材料已成为长期存在的问题。在安全全息信息被嵌入或埋入热塑体内的情况下，对材料的任何干扰都可能使金属元件轻易地从塑料中移除，随后再用于仿造的安全装置或相关工具中。因此，本专利技术旨在提供一种方案解决这些问题，其中任何仿造或拆卸尝试都会导致原始法律特征(forensic feature)发生不可逆的分解。
技术实现思路
本专利技术涉及在能够接受例如微浮雕图案的材料(例如在表面凸印有微浮雕的热塑性材料)上沉积相对薄的金属或非金属膜，然后固定该浮雕。之后可以提供一种保护层， 它也可以包括热塑性材料，或者例如硅基材料。还应明白的是，该另一种层同样可以包括在各种材料间具有适当粘附力的套印(over-painted)层或过沉积(over-d印osited)层。同样可以与另一种膜进行层压。在浮雕上这种薄层的出现从本质上改变了其机械性能。另外，无论是否包括任何另外的保护层，所要求的元件/特征可以完全埋在该结构体体内或者可以简单地布置为由结构体最外围表面构成。这意味着浮雕可以有利地通过薄层固定以用于热塑性材料被暴露于甚至达到或超过其熔点的高温下的其它应用或技术步骤，而此时微浮雕本身可能会消失或者被严重地修改或以某种方式被扰乱。这可有利地用于浮雕的其他应用，例如，用于安全装置。因此， 在进一步的生产步骤中，可以按照以下的方式将凸印材料与另一热塑性膜进行层压使得一些没有进行浮雕固定的浮雕部分将会丢失任何关于原微浮雕的信息，同时，通过本专利技术说明的方式固定的部分在层压后被保留。这通常这可以用于当带有衍射图形(diffractive motif)的某种材料(例如金属板)位于另一材料内、通常被埋在热塑体内时的任务。本专利技术还涉及含有新安全装置的物品的制造和构成，即当嵌入的薄膜箔状离散元件携带有全息及空间信息时。另外，这些元件以能够通过电磁辐射进行读取或检测的方式组织和分散在空间内，或者所述箔部分以可以通过例如光学断层成像或雷达辅助技术进行检测的方式布置。因此，能够理解的是，根据本专利技术的一个方面，提供了一种通过在诸如衍射和/或5全息结构的、相关于基体形成的微浮雕结构上提供保护层/膜材料来固定该结构的方法。 有利的是，该保护层/膜对浮雕结构的光学特性没有影响或仅有有限的影响。具体地，基板可以包括热塑性材料，保护层/膜可包括有利地在基板材料的浮雕结构上生长的金属层膜。有利的是，本专利技术还可考虑提供一种选择性定位的固定层，它包括例如生长层或去金属化层，并且它用于以要求形式固定浮雕图案并提供后续保护，尤其是在可能的进一步加工步骤中。本专利技术还提供一种在块体(bulk body)内形成诸如薄金属膜/层结构、或有机或无机材料层等薄固定层结构的方法，包括在对块体第二层进行进一步加工之前(根据需要)以图案化方式在块体的中间裸露表面上选择性沉积金属层/膜。有利的是，所述进一步加工包括层压，具体地，进一步加工可用于将块体的两个部分一体化为单一构件，并且使金属层/膜最终埋入和/或嵌入该单一构件中。有利的是，金属层/膜可以按照上述方式与块基体的浮雕结构关联地形成或者在其上形成。能够理解的是，在浮雕结构上提供例如金属化层/膜不仅在基板的进一步加工/ 层压中用于保护浮雕结构，还同样地用于选择性提供一种专利衍射结构，尤其当基板的进一步加工/层压专门设计为考虑到不具这样的保护性的浮雕结构区域的破坏。该方法还提供明显可识别图形和/或绘制(graphical)字符的形成，包括多个空间定位的嵌入层/膜片段并且具有预定的空间定位，该空间定位可以通过采用适当的辐射而探询。有利的是，每个所述层/膜元件可以根据诸如上文提及的进一步的步骤形成。当然，还应当理解的是，本专利技术可提供任何加工步骤的组合，当然对于提供诸如按照这种方法形成的结构，其中层/膜结构可以是诸如上文讨论的结构。首先，必须应用金属膜，或其它任何适当的非-非金属材料，作为另一实例，金属元件可以在表面上生长而不是从表面上移除(W0 2005/078530)。它们可以留在表面上并且将使浮雕固定。因为金属体不必自我支撑(自立)，因此，电镀层可以实质上比先前已知的薄。其薄到可以复制浮雕即可。当然也可使用更厚的元件。然而，提供特别薄的层也会带来另外一些有利影响和特征。例如，用一个相对厚的层，即一个高度略高于结构体的浮雕图案高度的层，所要求的浮雕图案将被精确地复制在界面的一侧，然而，该层的另一侧将不能承载浮雕图案任何这样的细节，基本上是以平面呈现的。然而，如果沉积层的厚度与浮雕的高度/深度相适应，即，例如，不超过深度的两倍或三倍，就可以按照由层形成的两个界面都复制出浮雕结构的方式在沉积层的两侧复制浮雕。另外，也可以通过另外的技术而不是上述电镀技术提供沉积，例如，可以包括“套印”步骤，带有颜色、非金属层的凸印浮雕。这可以通过这种方式实现使得平面基板被层覆盖，随后进行凸印。颜色有助于进一步金属化。优选完成所有这些步骤以实现进一步层压，其中当两个热塑体即时连接时全息图 (凸印表面)位于界面中。本专利技术有利地采用受控的层沉积以在进一步加工时固定或维持浮雕。这可以通过直接在凸印表面顶部沉积来完成，所沉积的层将复制浮雕。另一种方式是沉积一个专用层， 然后对其进行凸印和进一步加工。当然，可以提供具有被曝光和显影的凹部的任何适当的掩膜技术，或适当限定要求的屏蔽物(14)和其边界的任何适当的印刷技术。本专利技术涉及呈现浮雕的方式。在其它情况下，浮雕肯定会丢失，或在层压时熔化， 或者将没有折射率对比，因此浮雕将具有零光学特性。本专利技术还涉及层的受控分布，由此层能够薄至几十纳米，就上述申请而言它还是全新的。有利的是，该层厚至“凝固(freeze)” 浮雕以显示出一些光学特性变化即可。附图说明下文将参考附图对本专利技术进行进一步说明，这些说明仅作为例子，其中图1是穿过用于形成根据本专利技术实施方式的结构体的凸印基板的示意性横截面图；图2a_2c是如图1所示基板的示意性平面图，并示出了本专利技术实施方式的不同加工步骤；图3a_3c示出了图2a_2c所示结构体的另外的加工步骤；图4是基板的平面图，示出了根据本专利技术实施方式可设置在基板内的形状和绘制图形的不同形式；图5更详细地示出了图4所示的一个图形；图6示出了根据本专利技术实施方式的各种形式的天线配置；图7示出了根据本专利技术的基板内形成的不同图案的实例；以及图fe和图8b示出了根据本专利技术实施方式的基板内在不同层级或位置上简单元件的形成。具体实施例方式能够理解的是，本专利技术的一个具体方面涉及提供一种“固定的”微浮雕结构，该结构很容易以离散和独立的方式在例如热塑性基板的主体内提供。在诸如实施方式所示的本专利技术实施例中，能够理解的是，优选地，基板被设置为包括至本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种形成作为分层结构体的一部分的浮雕图案的方法，包括：在所述结构体的一层的表面形成浮雕图案，随后在所述浮雕图案的至少一部分上形成保护固定层，用于在所述结构体的任何后续加工中保护下面的浮雕图案。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：尹戈尔·杰拉莫拉杰夫，
申请(专利权)人：奥普泰格立奥有限公司，
类型：发明
国别省市：CZ