【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及根据权利要求1前序所述的反应室，尤其是涉及用于原子层沉积反应器的反应室，该反应室包括用于在反应室内部提供反应空间的外壁。
技术介绍
传统地，用于ALD反应器(即在原子层沉积工艺中使用的反应器)的反应室由若干厚重板构成，其中，例如通过铣或钻来提供必要的流动通道。为了获得三维通道系统，多个这样的板彼此叠置。可选地，提供厚重且刚性的凸缘，凸缘上进一步焊接或用螺钉固定其它必要的部件。另一个现有技术的方案是使用供基体插入的管状反应室。上述装置的问题是，尽管现有技术反应室的温度平衡很好且易控，并且是自支撑结构，但是制造成本高，这是因为在制造过程中反应室部件的大量材料被机加工去除，这意味着材料成本也变高。为了获得期望的精度，机加工还很缓慢和麻烦。此外，当反应室的尺寸增大时，由于重量导致的应力，出现的另一个问题是这些厚重结构的耐用性和形状保持能力。为了防止反应室的部件被损坏，必须极精确地匹配反应室的厚重刚性部件的相对运动。这使得反应室的结构复杂化。同时，对于大型基体来说管状反应室的实施很麻烦；此外，在管状反应室中，难以实现良好的气流控制和材料效率。
技术实现思路
因此...
【技术保护点】
１．一种用于原子层沉积反应器的反应室，该反应室包括用于在反应室内部提供反应空间的外壁（２、４；４０、４２、４４、４６），其特征在于，反应室的至少一个外壁（２、４；４０、４２、４４、４６）由柔性薄板构成。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
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