可光催化净化空气及杀菌的有机基底双层膜及其制法制造技术

本发明专利技术涉及半导体光催化剂技术领域，特别涉及可光催化净化空气及杀菌的有机基底双层膜及其制法。这种有机基底双层膜特征在于在有机物基底上涂抹惰性氧化物涂层，再在惰性氧化物涂层上涂抹半导体光催化剂涂层。其中惰性氧化物涂层厚度在０．１～１００微米，半导体光催化剂涂层厚度为０．１～１００微米。其制法是用旋转涂膜法先制备有机物基底表面惰性氧化物涂层，再在上面用旋转涂膜法涂覆半导体涂层即制得本发明专利技术的有机基底双层膜。这种膜能够有效降解表面有机污垢，并对有机物基底没有任何破坏作用。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于半导体光催化剂
，特别是涉及具有光催化功能的有机基底的双层膜及其制法。近年来，半导体材料的光催化性能的研究取得了很大的进展，许多半导体材料，如二氧化钛、二氧化锡、三氧化钨、氧化锌等被发现能够有效地降解有机物、杀死细菌；半导体材料，尤其是二氧化钛，作为水相、气相有机污染物处理材料及灭菌材料已得到了多方面的应用研究。日本专利JP 09,301,740将二氧化钛薄膜涂抹窗户或头盔的挡风玻璃上，日本专利JP09,300,515将二氧化钛与吸附剂、粘结剂一起涂抹在建筑材料表面作为去污剂、除臭剂、灭菌剂等得以应用。日本专利JP09,290,165将二氧化钛作为光催化剂应用于水污染的处理，用以有效去除水中的有机氯污染物。日本专利JP 10 43,539利用二氧化钛制备了一种去除氮氧化物的光催化剂。日本专利JP 09,294,919将半导体纳米粒子和可发射光电子的基底复合制成了一种可去除空气中有害气体及微尘的光催化剂。日本专利JP09,299,937将半导体纳米粒子附载在光纤上用于处理自来水及气体。在许多材料表面涂抹半导体材料作为光催化剂用以去污、除臭、杀菌、分解水相及气相本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可光催化净化空气及杀菌的有机基底双层膜，其特征在于在有机物基底上涂抹惰性氧化物涂层，再在惰性氧化物涂层上涂抹半导体光催化剂涂层；其中惰性氧化物涂层厚度为０．１～１００微米，半导体光催化剂涂层厚度为０．１～１００微米。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：赵进才，陈锋，
申请(专利权)人：中国科学院感光化学研究所，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]