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本发明涉及半导体光催化剂技术领域，特别涉及可光催化净化空气及杀菌的有机基底双层膜及其制法。这种有机基底双层膜特征在于在有机物基底上涂抹惰性氧化物涂层，再在惰性氧化物涂层上涂抹半导体光催化剂涂层。其中惰性氧化物涂层厚度在０．１～１００微米，半...
该专利属于中国科学院感光化学研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院感光化学研究所授权不得商用。

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