光学浮雕幻影釉面砖的制备方法及其中间产物技术

一种光学浮雕幻影釉面砖的制备方法，其包括以下步骤：A.特殊基础釉粉的制备：B.特殊花釉釉料的制备：C.特殊花釉印釉的制备：D.特殊花釉印花：E.产品烧成制度。通过优化特殊基础釉粉、特殊花釉釉料、印油以及特殊花釉印釉的组成、烧成工艺等，采用优化设计的专用胶辊或优化丝网目数的印花丝网版，将该特殊花釉印制在施了底釉、面釉和普通花釉的坯体上，并经高温烧成使特殊花釉图案沉入普通的面釉和花釉中，得到的产品从正面看不到特殊花釉的图案，但从侧面能够清楚的看出具有浮雕幻影效果的精美图案，从而达到似梦似幻的幻影效果，特殊花釉透明性能良好，没有破坏原有的装饰图案，突破了目前釉面砖装饰风格单一的不足。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学浮雕幻影釉面砖的制备方法及其中间产物。
技术介绍
我国是一个建筑陶瓷生产和消费大国，釉面砖是陶瓷砖家族中的一个大类，它所具有的多色彩、多变化等优势，使其在家居装修中担任着极为重要的角色，是厨房、卫生间、 阳台等空间装饰的主要用材，是主力军，这些私密空间更追求艺术品位，更追求装饰多样化、个性化，但是釉面砖的单一平面装饰效果相对于现代人的越来越高生活需求而言，还是略显不足，与实际需要还是存在了一些差距。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服上述缺点，提供一种光学浮雕幻影釉面砖的制备方法及其中间产物，在不对现有釉面砖配方及生产工艺参数做出重大改变的基础上，重点对特殊基础釉粉、特殊花釉釉料、印油以及特殊花釉印釉的组成、烧成工艺等进行调整与优化，使该技术具备较强的普适性，易于在行业内推广。为解决上述问题，本专利技术通过以下技术方案实现本专利技术的一种光学浮雕幻影釉面砖的制备方法，其包括以下步骤A.特殊基础釉粉的制备a.熔块的制备钾长石粉26-34份、碳酸钙15-23份、硼酸2-8份、石英粉 24-32份、硝酸钾1-6份、氧化锌2-7份、铅丹0. 5-4份、锂瓷石:1_7份；将上述原料按重量份混合均勻，在熔块炉内于1480_1M0°C下熔制，水淬成透明的玻璃体，烘干备用；b.釉粉的制备将步骤a制成的熔块100份外加1-5份高岭土、0. 05-0. 25份甲基、0. 15-0. 45份三聚磷酸钠与37-50份的水磨成细度为325目筛，筛余为0. 1 %-0. 5%的釉浆，烘干打粉， 得到特殊基础釉粉；B.特殊花釉釉料的制备步骤A中制备得到的特殊基础釉粉100份，与氧化锌0. 5-8份、碳酸锶0. 2-6份、 硅酸锆0. 2-6份、氧化锡0. 2-4份、氧化铈0. 2-4份混合，得到特殊花釉釉料；C.特殊花釉印釉的制备a.专用印油的配置专用印油包括以下组份乙二醇10-30份、甘油15-35份、甲基0. 5-6. 5份、二乙醇胺10-30份、植物油8-25份、水5-25份、高分子聚合物0. 5-6. 5份；b.步骤B中制备得到的特殊花釉釉料与适量专用印油混合，经球磨制备得到适用专用胶辊或优化了目数的丝网版印刷的特殊花釉印釉；D.特殊花釉印花在正常施了底、面釉和用胶辊或丝网版印刷好普通花釉的砖坯上，通过专用胶辊或优化了目数的丝网版将步骤C得到的特殊花釉印釉根据设计的图案印在普通花釉上，且胶辊与丝网版可交替印刷；E.产品的烧成工艺将步骤D得到的产品在1080-1250°C，保温3_8分钟，再降至1070_1230°C，再保温 3-8分钟。所述的专用胶辊的网点孔径为0. 5-2. 5mm，深度为0. 5-1. 5mm ；优化了目数的丝网版为80-120目的印花丝网版。本专利技术还涉及一种通过上述的光学浮雕幻影釉面砖的制备方法制备得到的光学浮雕幻影釉面砖。本专利技术还涉及一种特殊基础釉粉，其特征在于其包括以下组份100份熔块、1-5份高岭土、0. 05-0. 25份甲基、0. 15-0. 45份三聚磷酸钠、37-50份的水和0. 1-0. 5%的釉浆；其中熔块包括以下组分钾长石粉26-34份、碳酸钙15_23份、硼酸2_8份、石英粉24-32份、硝酸钾1-6份、氧化锌2-7份、铅丹0. 5-4份、锂瓷石:1_7份。本专利技术还涉及一种特殊花釉釉料，其包括以下组份上面所述的特殊基础釉粉 100份、氧化锌0. 5-8份、碳酸锶0. 2-6份、硅酸锆0. 2-6份、氧化锡0. 2-4份、氧化铈0. 2-4 份。本专利技术还涉及一种特殊花釉印釉，其包括上面所述的特殊花釉釉料和专用印油， 其中专用印油包括以下组份乙二醇10-30份、甘油15-35份、甲基0. 5-6. 5份、二乙醇胺:10-30份、植物油8-25份、水5-25份、高分子聚合物0. 5-6. 5份。本专利技术的光学浮雕幻影釉面砖的制备方法及其中间产物，通过优化特殊基础釉粉、特殊花釉釉料、印油以及特殊花釉印釉的组成、烧成工艺等，采用优化设计的专用胶辊或优化了目数的丝网版将该特殊花釉印制在施了底釉、面釉和普通花釉的坯体上，并经高温烧成使特殊花釉图案沉入普通的面釉和花釉中，得到的产品从正面看不到特殊花釉的图案，但从侧面能够清楚的看出具有浮雕幻影效果的精美图案，从而达到似梦似幻的幻影效果，突破了目前釉面砖装饰风格单一的不足。特殊花釉印釉组成的优化研究，使印釉具有合适的粘度和表面张力(聚合力)、良好的填充性和润湿性；由于普通雕刻方式的胶辊网点孔径细、深度浅，印花图案厚度达不到要求，因此需通过优化胶辊雕刻网点孔径和深度，有效提高了胶辊印花图案厚度和图案清晰度，从而在侧光条件下更有利于呈现浮雕幻影效果； 而丝网目数太大的印花丝网版，在印刷时，特殊花釉印釉的透过量少，使印花图案厚度也达不到要求，因此通过优化丝网目数的印花丝网版有效提高了丝网印花图案的厚度和清晰度，从而在侧光条件下更有利于呈现浮雕幻影效果，在印特殊花釉的地方，不论在透明釉、 乳浊釉还是亚光釉上都能达到正面看不出图案，用手触摸面砖表面特殊花釉印花处，无明显凹凸感，但从侧光看这些特殊花釉印刷的图案清晰，像浮雕一样凸浮在砖面上，且特殊花釉透明性能良好，没有破坏原有的装饰图案，同时胶辊与丝网版可交替印刷。附图说明图1为本专利技术光学浮雕幻影釉面砖的制备方法及其中间产物的工艺流程具体实施例方式下面结合实施例对本专利技术作进一步详细说明。本专利技术的光学浮雕幻影釉面砖的制备方法，其包括以下步骤A.特殊基础釉粉的制备a.熔块的制备熔块的组份见表1 :表1 熔块的组成成分(重量份)权利要求1.一种光学浮雕幻影釉面砖的制备方法，其特征在于其包括以下步骤A.特殊基础釉粉的制备a.熔块的制备钾长石粉26-34份、碳酸钙15-23份、硼酸2_8份、石英粉24-32 份、硝酸钾1-6份、氧化锌2-7份、铅丹0. 5-4份、锂瓷石1-7份；将上述原料按重量份混合均勻，在熔块炉内于1480-1M0°C下熔制，水淬成透明的玻璃体，烘干备用；b.釉粉的制备将步骤a制成的熔块100份外加1-5份高岭土、0. 05-0. 25份甲基、0. 15-0. 45份三聚磷酸钠与37-50份的水磨成细度为325目筛，筛余为0. 1 %-0. 5 %的釉浆，烘干打粉，得到特殊基础釉粉；B.特殊花釉釉料的制备步骤A中制备得到的特殊基础釉粉100份，与氧化锌0. 5-8份、碳酸锶0. 2-6份、硅酸锆0. 2-6份、氧化锡0. 2-4份、氧化铈0. 2-4份混合，得到特殊花釉釉料；C.特殊花釉印釉的制备a.专用印油的配置专用印油包括以下组份乙二醇10-30份、甘油15-35份、甲基0. 5-6. 5份、二乙醇胺:10-30份、植物油8-25份、水5-25份、高分子聚合物0. 5-6. 5份；b.步骤B中制备得到的特殊花釉釉料与适量专用印油混合，经球磨制备得到适合专用胶辊或优化了目数的丝网版印刷的特殊花釉印釉；D.特殊花釉印花在正常施了底、面釉和用胶辊或丝网版印刷好普通花釉的砖坯上，通过专用胶辊或优化了目数的丝网版将步骤C得到的特殊花釉印釉根据设计的图案印在普通花釉上，且胶辊与丝网版式可交替印刷；E.产品的烧成工艺将步骤D得到的产品在1080-1250°C，保温3_8分钟，再降至1070_1本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种光学浮雕幻影釉面砖的制备方法，其特征在于：其包括以下步骤：Ａ．特殊基础釉粉的制备：ａ．熔块的制备：钾长石粉：２６－３４份、碳酸钙：１５－２３份、硼酸：２－８份、石英粉：２４－３２份、硝酸钾：１－６份、氧化锌：２－７份、铅丹：０．５－４份、锂瓷石：１－７份；将上述原料按重量份混合均匀，在熔块炉内于１４８０－１５４０℃下熔制，水淬成透明的玻璃体，烘干备用；ｂ．釉粉的制备：将步骤ａ制成的熔块１００份外加１－５份高岭土、０．０５－０．２５份甲基、０．１５－０．４５份三聚磷酸钠与３７－５０份的水磨成细度为３２５目筛，筛余为０．１％－０．５％的釉浆，烘干打粉，得到特殊基础釉粉；Ｂ．特殊花釉釉料的制备：步骤Ａ中制备得到的特殊基础釉粉１００份，与氧化锌０．５－８份、碳酸锶０．２－６份、硅酸锆０．２－６份、氧化锡０．２－４份、氧化铈０．２－４份混合，得到特殊花釉釉料；Ｃ．特殊花釉印釉的制备：ａ．专用印油的配置：专用印油包括以下组份：乙二醇：１０－３０份、甘油：１５－３５份、甲基：０．５－６．５份、二乙醇胺：１０－３０份、植物油：８－２５份、水：５－２５份、高分子聚合物０．５－６．５份；ｂ．步骤Ｂ中制备得到的特殊花釉釉料与适量专用印油混合，经球磨制备得到适合专用胶辊或优化了目数的丝网版印刷的特殊花釉印釉；Ｄ．特殊花釉印花：在正常施了底、面釉和用胶辊或丝网版印刷好普通花釉的砖坯上，通过专用胶辊或优化了目数的丝网版将步骤Ｃ得到的特殊花釉印釉根据设计的图案印在普通花釉上，且胶辊与丝网版式可交替印刷；Ｅ．产品的烧成工艺：将步骤Ｄ得到的产品在１０８０－１２５０℃，保温３－８分钟，再降至１０７０－１２３０℃，再保温３－８分钟。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：余国明，李少平，王贵生，
申请(专利权)人：广东宏陶陶瓷有限公司，广东宏威陶瓷实业有限公司，
类型：发明
国别省市：44