双室高压气淬真空炉制造技术

技术编号:7075812 阅读:245 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种双室高压气淬真空炉,包括炉架、设置于炉架上的第一工作室与第二工作室,第一工作室与第二工作室之间通道,炉架上活动地设置有将通道封闭的封盖,双室高压气淬真空炉还包括驱动封盖运动的驱动机构、控制驱动机构的控制箱,第一工作室内设置有用于检测其真空度的第一检测器,第二工作室内设置有用于检测其真空度的第二检测器,控制箱上具有控制器,第一检测器与控制器相电连接,第二检测器与控制器相电连接,控制器与驱动机构相电连接。通过第一检测器与第二检测器分别检测第一工作室与第二工作室的真空度,再通过控制器将检测结果对比从而判断是否打开封盖,使用较安全。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种双室高压气淬真空炉
技术介绍
现有技术中的双室高压气淬真空炉,包括炉架、设置于所述的炉架上的第一工作室与第二工作室,所述的第一工作室与所述的第二工作室之间通道,所述的炉架上活动地设置有将所述的通道封闭的封盖,所述的双室高压气淬真空炉还包括驱动所述的封盖运动的驱动机构、控制所述的驱动机构的控制箱,通常开启封盖时直接通过控制箱控制驱动机构将封盖打开,由于第一工作室与第二工作室的真空度不同,即存在压强差,易发生危险。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种双室高压气淬真空炉。为了解决上述技术问题,本专利技术采用的一种技术方案是一种双室高压气淬真空炉,包括炉架、设置于所述的炉架上的第一工作室与第二工作室,所述的第一工作室与所述的第二工作室之间通道,所述的炉架上活动地设置有将所述的通道封闭的封盖,所述的双室高压气淬真空炉还包括驱动所述的封盖运动的驱动机构、控制所述的驱动机构的控制箱,所述的第一工作室内设置有用于检测其真空度的第一检测器,所述的第二工作室内设置有用于检测其真空度的第二检测器,所述的控制箱上具有控制器,所述的第一检测器与所述的控制器相电连接,所述的第二检测器与所述的控制器相电连接,所述的控制器与所述的驱动机构相电连接,所述的控制器用于控制驱动机构是否将所述的封盖从所述的通道处移除,当所述的第一检测器的检测数据与所述的第二检测器的检测数据的差值在 0PA-10PA之间,所述的控制器控制所述的驱动机构将所述的封盖从所述的通道处移除。在某些实施方式中,所述的封盖与所述的炉架相转动地设置。在某些实施方式中,所述的封盖上设置有用于密封的胶圈。本专利技术的范围,并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案,同时也应涵盖由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案等。由于上述技术方案运用,本专利技术与现有技术相比具有下列优点通过第一检测器与第二检测器分别检测第一工作室与第二工作室的真空度,再通过控制器将检测结果对比从而判断是否打开封盖,使用较安全。附图说明附图1为本专利技术的主视图。其中1、炉架;2、第一工作室;3、第二工作室;4、封盖;5、控制箱;6、第一检测器; 7、第二检测器;8、胶圈。具体实施例方式如附图1所示,一种双室高压气淬真空炉,包括炉架1、设置于所述的炉架1上的第一工作室2与第二工作室3,所述的第一工作室2与所述的第二工作室3之间通道,所述的炉架1上转动地设置有将所述的通道封闭的封盖4,所述的双室高压气淬真空炉还包括驱动所述的封盖4运动的驱动机构、控制所述的驱动机构的控制箱5,所述的第一工作室2内设置有用于检测其真空度的第一检测器6,所述的第二工作室3内设置有用于检测其真空度的第二检测器7,所述的控制箱5上具有控制器,所述的第一检测器6与所述的控制器相电连接,所述的第二检测器7与所述的控制器相电连接,所述的控制器与所述的驱动机构相电连接,所述的控制器用于控制驱动机构是否将所述的封盖4从所述的通道处移除,当所述的第一检测器6的检测数据与所述的第二检测器7的检测数据的差值在0PA-10PA之间,所述的控制器控制所述的驱动机构将所述的封盖4从所述的通道处移除。如附图1所示,所述的封盖4上设置有用于密封的胶圈8。开启封盖4前,通过第一检测器6检测第一工作室2的真空度,通过第二检测器6检测第二工作室3的真空度,通过检测器将两个工作室的真空度进行对比,当差值在 0PA-10PA之间时,可以启动驱动机构将封盖4打开,当差值大于IOPA时,将不会启动驱动机构将封盖4打开。如上所述,我们完全按照本专利技术的宗旨进行了说明,但本专利技术并非局限于上述实施例和实施方法。相关
的从业者可在本专利技术的技术思想许可的范围内进行不同的变化及实施。权利要求1.一种双室高压气淬真空炉,包括炉架(1)、设置于所述的炉架(1)上的第一工作室 (2)与第二工作室(3),所述的第一工作室(2)与所述的第二工作室(3)之间通道,所述的炉架(1)上活动地设置有将所述的通道封闭的封盖(4),所述的双室高压气淬真空炉还包括驱动所述的封盖(4)运动的驱动机构、控制所述的驱动机构的控制箱(5),其特征在于所述的第一工作室(2)内设置有用于检测其真空度的第一检测器(6),所述的第二工作室(3) 内设置有用于检测其真空度的第二检测器(7),所述的控制箱(5)上具有控制器,所述的第一检测器(6)与所述的控制器相电连接,所述的第二检测器(7)与所述的控制器相电连接, 所述的控制器与所述的驱动机构相电连接,所述的控制器用于控制驱动机构是否将所述的封盖(4)从所述的通道处移除,当所述的第一检测器(6)的检测数据与所述的第二检测器 (7)的检测数据的差值在0PA-10PA之间,所述的控制器控制所述的驱动机构将所述的封盖 (4)从所述的通道处移除。2.根据权利要求1所述的双室高压气淬真空炉,其特征在于所述的封盖(4)与所述的炉架(1)相转动地设置。3.根据权利要求1所述的双室高压气淬真空炉,其特征在于所述的封盖(4)上设置有用于密封的胶圈(8)。全文摘要一种双室高压气淬真空炉,包括炉架、设置于炉架上的第一工作室与第二工作室,第一工作室与第二工作室之间通道,炉架上活动地设置有将通道封闭的封盖,双室高压气淬真空炉还包括驱动封盖运动的驱动机构、控制驱动机构的控制箱,第一工作室内设置有用于检测其真空度的第一检测器,第二工作室内设置有用于检测其真空度的第二检测器,控制箱上具有控制器,第一检测器与控制器相电连接,第二检测器与控制器相电连接,控制器与驱动机构相电连接。通过第一检测器与第二检测器分别检测第一工作室与第二工作室的真空度,再通过控制器将检测结果对比从而判断是否打开封盖,使用较安全。文档编号C21D1/62GK102329936SQ20111021204公开日2012年1月25日 申请日期2011年7月27日 优先权日2011年7月27日专利技术者郑铁克 申请人:太仓市华瑞真空炉业有限公司本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种双室高压气淬真空炉,包括炉架(1)、设置于所述的炉架(1)上的第一工作室(2)与第二工作室(3),所述的第一工作室(2)与所述的第二工作室(3)之间通道,所述的炉架(1)上活动地设置有将所述的通道封闭的封盖(4),所述的双室高压气淬真空炉还包括驱动所述的封盖(4)运动的驱动机构、控制所述的驱动机构的控制箱(5),其特征在于:所述的第一工作室(2)内设置有用于检测其真空度的第一检测器(6),所述的第二工作室(3)内设置有用于检测其真空度的第二检测器(7),所述的控制箱(5)上具有控制器,所述的第一检测器(6)与所述的控制器相电连接,所述的第二检测器(7)与所述的控制器相电连接,所述的控制器与所述的驱动机构相电连接,所述的控制器用于控制驱动机构是否将所述的封盖(4)从所述的通道处移除,当所述的第一检测器(6)的检测数据与所述的第二检测器(7)的检测数据的差值在0PA-10PA之间,所述的控制器控制所述的驱动机构将所述的封盖(4)从所述的通道处移除。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:郑铁克
申请(专利权)人:太仓市华瑞真空炉业有限公司
类型:发明
国别省市:32

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