反射折射投影光学系统、扫描曝光装置、微元件的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术是有关于一种反射折射投影光学系统，把配置于第1面的第1物体的放大像形成在配置于第2面的第2物体上，所述反射折射投影光学系统的特征在于包括：光束传送部，从所述第1面发出并沿着与所述第1面正交的方向行进的光，是在沿着所述第1面的第1方向传送，并使在所述第1方向已传送的光沿着与所述第1面正交的方向行进，并引导往所述第2面。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术关于一种反射折射投影光学系统、反射折射光学装置、扫描曝光装置、以及使用该扫描曝光装置的微元件的制造方法，上述反射折射投影光学系统将第1物体(光罩 (mask)、标线片(reticle)等)的像投影至第2物体(基板等)上，上述扫描曝光装置将第 1物体的像投影曝光于第2物体上。
技术介绍
制造例如半导体元件或液晶显示元件等时，使用投影曝光装置，该投影曝光装置利用投影光学系统，将光罩(reticle、photomask等)的图案投影至涂敷着光阻(resist) 的板(玻璃板(glass plate)或半导体晶圆等)上。先前多使用投影曝光装置(步进式曝光机(stepper))，上述投影曝光装置以分步重复(st印and repeat)方式，将各个光罩的图案一并曝光于板上的各曝光照射(shot)区域。近年来提出了步进扫描(St印and scan)方式的投影曝光装置，上述步进扫描方式的投影曝光装置代替使用1个大的投影光学系统，沿着扫描方向并以规定间隔，将具有相等倍率的小的多个部分投影光学系统配置为多行，且一边对光罩及板进行扫描，一边利用各部分投影光学系统将各个光罩的图案曝光于板上。近年本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种反射折射投影光学系统，把配置于第１面的第１物体的放大像形成在配置于第２面的第２物体上，所述反射折射投影光学系统的特征在于包括：光束传送部，从所述第１面发出并沿着与所述第１面正交的方向行进的光，是在沿着所述第１面的第１方向传送，并使在所述第１方向已传送的光沿着与所述第１面正交的方向行进，并引导往所述第２面。

【技术特征摘要】
2006.03.20 JP 2006-076011;2007.01.16 JP 2007-006651.一种反射折射投影光学系统，把配置于第1面的第1物体的放大像形成在配置于第 2面的第2物体上，所述反射折射投影光学系统的特征在于包括光束传送部，从所述第1面发出并沿着与所述第1面正交的方向行进的光，是在沿着所述第1面的第1方向传送，并使在所述第1方向已传送的光沿着与所述第1面正交的方向行进，并引导往所述第2面。2.根据权利要求1所述的反射折射投影光学系统，其特征在于所述光束传送部包括 第1偏向构件，把沿着与所述第1面正交的方向行进的光，偏向到所述第1方向；第2偏向构件，使从所述第1偏向构件而来、往所述第1方向行进的光，沿与所述第1 面正交的方向行进，并引导往所述第2面。3.根据权利要求2所述的反射折射投影光学系统，其特征在于所述反射折射投影光学系统包括凹面反射镜，配置于所述第1面与所述第2面之间的光路中； 第1透镜群，配置于所述第1面与所述凹面反射镜之间的光路中； 第2透镜群，配置于所述第1透镜群与所述凹面反射镜之间的光路中；以及第3透镜群，配置于所述第2偏向构件与所述第2面之间的光路中，且具有与所述第1 透镜群的光轴大致平行的光轴，其中，所述第1偏向构件配置在所述第2透镜群与所述第2面之间的光路中，使从所述第2透镜群而来、沿着与所述第1面正交的方向而往所述第1面侧的光，偏向到所述第1方向，且所述第2偏向构件配置在所述第1偏向构件与所述第2面之间的光路中，使从所述第 1偏向构件而来、沿着所述第1方向行进的光，沿与所述第1面正交的方向偏向到所述第2 面侧。4.根据权利要求3所述的反射折射投影光学系统，其特征在于所述第1面与所述第2面的距离大于所述第1面与所述凹面反射镜的距离。5.根据权利要求3所述的反射折射投影光学系统，其特征在于构成所述第1透镜群、所述第2透镜群、以及所述第3透镜群，且具有折射能力的光学构件，是以其光轴与重力方向平行的方式而配置着。6.根据权利要求3所述的反射折射投影光学系统，其特征在于还包括孔径光圈，所述孔径光圈配置于所述凹面反射镜与所述第2透镜群之间的光路中，用以规定所述反射折射投影光学系统的所述第2面侧数值孔径，且所述孔...

【专利技术属性】
技术研发人员：加藤正纪，
申请(专利权)人：株式会社尼康，
类型：发明
国别省市：JP