【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及光刻机调整装置,尤其涉及一种投影光刻物镜的精密调整装置。
技术介绍
在大规模半导体集成电路的前端制造设备中,光刻机是最复杂、要求最高的设备, 集光机电技术于一身,尤其是对机械系统的精密性与稳定性的要求几乎达到了极限。为了达到这样的要求,在光刻机的设计和生产过程中,需要重视很多方面的问题,尤其是各个透镜的空间相对位置的确定。当前,投影光刻物镜对镜片的空间相对位置要求非常高,现有的机械加工精度已经不能满足高精度的相对位置要求,因此,各个镜片的空间相对位置都是依靠调整机构来进行调节的。使用调整螺钉来调整零件的空间相对位置是一种常见的方法,现有技术的调整螺钉都是具有单一螺距的螺钉,当螺距大的时候调整精度不够,螺距小的时候调整速度慢。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种投影光刻物镜的精密调整装置,具有多螺距,可以使用大螺距进行粗调,使用小螺距进行精调,调节速度快且精度高。为了达到上述的目的,本专利技术提供一种投影光刻物镜的精密调整装置,包括一多螺距调整螺钉,所述多螺距调整螺钉包括一圆柱和一圆筒;所述圆筒套在所述圆柱上,所述圆柱比所述圆筒长;所述圆筒的外 ...
【技术保护点】
1.一种投影光刻物镜的精密调整装置,其特征在于,包括一多螺距调整螺钉,所述多螺距调整螺钉包括一圆柱和一圆筒;所述圆筒套在所述圆柱上,所述圆柱比所述圆筒长;所述圆筒的外壁上设有外螺纹,所述圆筒的内壁上设有内螺纹;所述圆柱的外壁上设有外螺纹,所述圆柱外壁上的外螺纹与所述圆筒内壁上的内螺纹相匹配,转动所述圆柱,该圆柱在所述圆筒内旋转移动;所述圆筒外壁上的外螺纹的螺距大于所述圆柱外壁上的外螺纹的螺距。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:方杨,
申请(专利权)人:上海微电子装备有限公司,
类型:发明
国别省市:31
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