具紫外线吸收官能基的高分子微粒及含该高分子微粒的化妆料制造技术

技术编号:6844114 阅读:221 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种具紫外线吸收官能基的高分子微粒,其为使用反应型紫外线吸收剂与反应性单体进行微粒合成。该微粒具有抗紫外线功能。此微粒为平均粒径0.5~100μm的球状高分子微粒,该球状高分子微粒为交联结构并含有吸收紫外线的官能基。本发明专利技术还涉及含该高分子微粒的化妆料。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
1.一种具紫外线吸收官能基的高分子微粒,其特征在于:该高分子微粒是通过反应型紫外线吸收剂、交联剂与反应性单体进行微粒合成而获得。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:林明贤林宏昌
申请(专利权)人:品青企业股份有限公司双键化工股份有限公司
类型:发明
国别省市:71

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1