【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种靶材基座及采用该靶材基座的镀膜装置。
技术介绍
现有的真空镀膜技术一般是通过高压电极发射Ar+粒子，Ar+粒子在真空室内撞击靶材，使得靶材分离出金属原子，金属原子被打到被镀物体的表面上而形成膜层。然而，由于靶材原子向多个方向溅射，如果在同一个真空腔内设置多个不同材料的靶材，将会使得靶材相互污染，从而影响镀膜质量。为了避免靶材之间的污染，在同一个真空腔中通常只设置一种靶材。然而，镀多层膜时，每次需要打开真空腔更换靶材，效率低下，且容易使靶材被空气氧化。
技术实现思路
有鉴于此，有必要提供一种能够避免靶材受污染的靶材基座及采用该靶材基座的镀膜装置。一种靶材基座，用于一镀膜装置。该靶材基座包括基台，固定在该镀膜装置内； 旋转载台，设置在基台上且能够相对该基台旋转；多个靶座，环设在该旋转载台周围，每个靶座面向该旋转载台的一面开设有一收纳空间；以及多个靶材部件，其分别通过一旋转轴对应设置在多个靶座上，所述旋转轴与一旋转马达连接且均收容在收纳空间内，所述旋转马达用于控制该旋转轴带动该靶材部件收容在收纳空间内或从收纳空间中伸出。一种镀膜装置，其包括屏蔽罩，其内...
【技术保护点】
１．一种靶材基座，用于一镀膜装置，该靶材基座包括：基台，固定在该镀膜装置内；旋转载台，设置在基台上且能够相对该基台旋转；多个靶座，环设在该旋转载台周围，每个靶座面向该旋转载台的一面开设有一收纳空间；以及多个靶材部件，其分别通过一旋转轴对应设置在多个靶座上，所述旋转轴与一旋转马达连接且均收容在收纳空间内，所述旋转马达用于控制该旋转轴带动该靶材部件收容在收纳空间内或从收纳空间中伸出。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：裴绍凯，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：94
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。