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一种靶材基座，用于一镀膜装置。该靶材基座包括：基台，固定在该镀膜装置内；旋转载台，设置在基台上且能够相对该基台旋转；多个靶座，环设在该旋转载台周围，每个靶座面向该旋转载台的一面开设有一收纳空间；以及多个靶材部件，其分别通过一旋转轴对应设置在...该专利属于鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司授权不得商用。