【技术实现步骤摘要】
本技术是一种上料盘，特别涉及一种用于烫钻机的上料盘。
技术介绍
现有技术中的用于烫钻机的上料盘，盘体的边缘设有用于盛放钻体的圆槽，一个圆槽一次只能存放一个钻体，生产效率低，同时不能保证在每次操作时都能烫到钻体，增加了生产的工序。
技术实现思路
技术主要是解决现有技术中存在的不足，提供一种改变上料盘的结构，解决现有上料成品效率低的用于烫钻机的上料盘。本技术的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的一种用于烫钻机的上料盘，包括盘体，所述的盘体的中间设有固定轴孔，所述的盘体的边缘设有均勻斜向分布的上料凹槽，所述的盘体中设有二个卡位孔。上料凹槽能放置多个钻体，保证上料盘转动时，每个上料凹槽中有一颗钻体烫钻成功，不仅增加了使用的效率，加快了生产效率。作为优选，所述的上料凹槽为长槽，上料凹槽的两端为圆弧状，所述的盘体的正面和反面分别设有上料凹槽。上料凹槽的两端为圆弧状，可以使钻体得到保护，同时钻体不易出上料凹槽。作为优选，所述的上料凹槽呈逆时针或顺时针分布在盘体边缘。作为优选，所述的盘体的外侧壁中部设有内凹环槽。因此，本技术提供的用于烫钻机的上料盘，结构相对简单，烫钻成功率高，提高生产的效率。附图说明图1是本技术的结构示意图；图2是图1的A-A剖视结构示意图；图3是本技术中的上料凹槽呈顺时针分布时的结构示意图。 具体实施方式下面通过实施例，并结合附图，对本技术的技术方案作进一步具体的说明。实施例如图1、图2和图3所示，一种用于烫钻机的上料盘，包括盘体1，所述的盘体1的中间设有固定轴孔2，所述的盘体1的边缘设有均勻斜向分布的上料凹槽3，所述的盘体1中设有二个卡位孔4...
【技术保护点】
１．一种用于烫钻机的上料盘，其特征在于：包括盘体（１），所述的盘体（１）的中间设有固定轴孔（２），所述的盘体（１）的边缘设有均匀斜向分布的上料凹槽（３），所述的盘体（１）中设有二个卡位孔（４）。
【技术特征摘要】
1.一种用于烫钻机的上料盘，其特征在于包括盘体(1)，所述的盘体(1)的中间设有固定轴孔O)，所述的盘体(1)的边缘设有均勻斜向分布的上料凹槽(3)，所述的盘体(1) 中设有二个卡位孔(4)。2.根据权利要求1所述的用于烫钻机的上料盘，其特征在于所述的上料凹槽(3)为长槽，上料凹槽C3)的...
【专利技术属性】
技术研发人员：应明锋，
申请(专利权)人：杭州华桂机电制造有限公司，
类型：实用新型
国别省市：86
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