消毒方法及等离子体消毒装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种消毒方法。将被消毒体配置于真空容器内并将真空容器内减压（Ｓ１００）。判断是否到达了３Ｐａ（Ｓ１０２），如果已经到达，则将配置于真空容器与真空泵之间的断流阀关闭（Ｓ１０４）。向电极供给高频功率（Ｓ１０６），持续０．１秒钟地向真空容器内导入氧气（Ｓ１０８），其后用３秒钟将压力保持恒定（Ｓ１１０），判断真空容器内是否到达１０ｋＰａ（Ｓ１１２），重复进行Ｓ１０８～Ｓ１１２，直至变为１０ｋＰａ。到达了１０ｋＰａ后，将断流阀打开而将真空容器内减压（Ｓ１１４），停止高频功率的供给（Ｓ１１６）。重复Ｓ１００～Ｓ１１８，经过９０分钟后，将真空容器内恢复到大气压（Ｓ１２０）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及使用了等离子体的消毒方法及其消毒装置，特别涉及医疗 器具等的消毒中所用的方法及装置。
技术介绍
在将医疗器具等消毒处理之时，使用了等离子体的消毒方法是有效的。作为以往的等离子体消毒方法，已知有在原料气体中使用过氧化氢并 将其等离子体化而进行消毒处理的方法。但是，由于过氧化氢在常温下为 液体，因此在向低压的等离子体容器内导入液体的情况下，装置结构及压 力调整都会复杂化，并且由于过氧化氢价格高，因此具有成本升高的问题。 另外，由于过氧化氢属于刺激物，因此还有无法根绝漏液或飞溅等人身(烧 伤)事故的问题。所以，下述专利文献1中公布有取代过氧化氢而使用了含有氧气的混 合气体的方案。但是，利用将混合气体等离子体化后的物质很难将对象物 可靠地消毒处理，无法充分地发挥消毒的效果。另外，因使用气体的种类 增加而使装置构成变得复杂。作为考虑到此种情况的方案，已知有下述专利文献2中记载的方法，其要点在于，作为使用气体不是采用混合气体， 而仅采用了氧气。专利文献1:日本专利第2774193号公报专利文献2:日本特开2004—267524号公报但是，上述专利文献2的方法中，由于在将02气体向本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种消毒方法，其中，将规定的被消毒对象物收纳于真空容器内，将上述真空容器内减压至规定压力，使规定的气体流入上述真空容器内，在上述真空容器内生成具有消毒作用的等离子体，一边调整上述真空容器内的压力，一边使用上述所生成的等离子体将上述规定的被消毒对象物消毒，其特征是，　如下调整上述真空容器内的压力，即，每隔规定的压力间隔设置加压区间及恒压待机区间而进行加压。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2006-1-11 004166/20061.一种消毒方法，其中，将规定的被消毒对象物收纳于真空容器内，将上述真空容器内减压至规定压力，使规定的气体流入上述真空容器内，在上述真空容器内生成具有消毒作用的等离子体，一边调整上述真空容器内的压力，一边使用上述所生成的等离子体将上述规定的被消毒对象物消毒，其特征是，如下调整上述真空容器内的压力，即，每隔规定的压力间隔设置加压区间及恒压待机区间而进行加压。2. 根据权利要求1所述的消毒方法，其特征是，将上述规定的压力 间隔设为10Pa lkPa的范围内的值。3. 根据权利要求1或2所述的消毒方法，其特征是，将上述恒压待 机区间设为0.3 10秒。4. 根据权利要求1至3中任意一项所述的消毒方法，其特征是，上 述规定的气体由氧气构成，上述加压区间分别被设为0.01 1.5秒之间的 时间。5. —种等离子体消毒装...

【专利技术属性】
技术研发人员：花田康史，林信哉，
申请(专利权)人：爱鹿克株式会社，国立大学法人佐贺大学，
类型：发明
国别省市：JP[日本]