【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及用于抑制烯键式不饱和烃的聚合的水溶性苯二胺组合物和方法。
技术介绍
在精制方法中，烃物流经常暴露在高温下，这会导致所需单体早期聚合。早期聚合 导致所需单体最终产物的量减少，以及由于在加工装置中形成污垢和沉积物而导致的效率 损失。为了减少或阻止聚合物的形成，已经在可能发生聚合的位置(例如进行蒸馏的位 置)或该位置的上游将稳定或抑制剂组合物引入烃物流中。苯二胺类(PDA)广泛用作抗氧化剂和聚合抑制剂。但是，它们的用途限于烃物流， 其中PDA是可溶的。许多专利涉及多种PDA、不同PDA的组合以及PDA与其他抑制剂的组合 的用途，用于稳定烃流体。在这些专利中，Eldin的美国专利No. 6，200, 461描述了通过添加氨基苯酚化合 物与PDA或羟基胺的组合来抑制在处理和储存条件下烯键式不饱和烃的聚合的方法和组 合物。还使用了其他组合。所述组合包括含有PDA与肟化合物和羟基胺的抑制剂组合，如 Arhancet的美国专利5，489，718所述。其他实例包括PDA和羟基胺的组合，如Arhancet的 美国专利No. 5，396，004所述，以及PDA与羟基甲苯化合物的组合，如Arhancet等的美国专 利 No. 5，416，258 所述。Roling的美国专利No. 4，拟9，778中提供了具体PDA化合物的实例，该专利描 述了包括PDA化合物与受阻酚的组合物，其中PDA化合物具有至少一个N-H键，所述 组合物用于抑制在高温处理、存储和运输期间苯乙烯的聚合。Abruscato等的美国专利 No. 4，774，374公开了通过氧和N-芳基-N’ -烷...
【技术保护点】
减少或抑制烃处理期间形成污垢和沉积物的方法，包括以下步骤：在会形成所述污垢和／或所述沉积物的位置或该位置的上游向烃物流提供有效量的包含具有以下通式的一种或多种水溶性化合物的聚合抑制剂组合物： ＊＊＊ 其中Ｒ↑［１］、Ｒ↑［２］和Ｒ↑［３］中的至少之一是＊； Ｒ↑［１］、Ｒ↑［２］和Ｒ↑［３］独立地选自Ｈ、Ｃ↓［１］－Ｃ↓［１８］烷基、羟烷基、－Ｏ－Ｒ↑［６］、－Ｓ－Ｒ↑［６］、－Ｎ－（Ｒ↑［７］）（Ｒ↑［８］）、芳基，以及＊； Ｒ↑［５］选自Ｈ、烷基、羟烷基、－Ｏ－Ｒ↑［６］、－Ｓ－Ｒ↑［６］、－Ｎ－（Ｒ↑［７］）（Ｒ↑［８］）和芳基； Ｚ包含一个或多个选自以下的取代基：氢、烷基、链烯基、炔基、环烷基、环烯基、芳基、杂环、－ＣＮ、－ＮＯ↓［２］、－Ｏ－Ｒ↑［６］、－Ｓ－Ｒ↑［６］和－Ｎ（Ｒ↑［７］）（Ｒ↑［８］）；以及 Ｒ↑［６］、Ｒ↑［７］和Ｒ↑［８］独立地选自氢、烷基、链烯基、炔基、环烷基、环烯基、芳基和杂环；且其中所述组合物是水溶性的。
【技术特征摘要】
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