一种自吸式真空馈能结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种自吸式真空馈能结构，包括一底座法兰，一真空帽，一橡胶密封圈，一压盖，所述底座法兰镶嵌于一真空密封腔的腔壁上，所述真空帽从所述真空密封腔体外向内嵌入底座法兰内并通过所述压盖及若干螺丝将所述真空帽压紧于底座法兰的密封面上，所述压盖上开有真空馈能口，所述橡胶密封圈设于底座法兰的密封面上，与所述真空帽配合将所述真空密封腔与外部隔离。上述技术方案的采用使得本实用新型专利技术消除了内部螺丝，一方面消除了真空下微波放电的隐患，另一方面消除了卫生死角，便于清洁，提高了设备的卫生性；同时，由于真空帽从外部向内嵌入，真空形成后，在外界压力作用下，真空帽与密封圈的配合会越来越紧，从而杜绝了真空渗漏。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种微波能馈送结构，更具体地说是指一种自吸式真空馈能结 构，该结构可以将微波能从常压环境馈送入真空环境。
技术介绍
很多工艺技术(比如干燥)，要求在真空状态下，用微波处理被处理对象。这涉及 到将微波能馈送入真空腔体，进一步而言，如何将微波能安全、有效地送入真空腔体就成为 一个关键性技术。老一代设计采用的真空馈能结构，是从腔体内用螺丝将真空帽紧固在密封面上， 真空帽材质为PP(聚炳烯)或PTFE(聚四氟乙烯)。其构造如说明书附图1所示，这一结构 存在如下问题首先，由于微波是一种电磁波，在真空状态下容易产生弧光放电，也即高电压下相 邻的金属部件间，空气击穿形成电弧。一旦出现这一现象，微波就不能有效馈送，甚至损坏 微波元件。这种结构的真空帽用螺丝与密封面紧固在真空腔内，微波进入后，螺丝端头之间 非常容易产生弧光放电，一旦放电发生，真空帽会被迅速烧毁。因此，这一结构存在安全性 问题。其次，这一结构由于真空容器外部是常压，内部是真空，外部压力高于内部压力， 其密封面在腔体内部，因此真空状态下非常容易形成真空渗漏。而螺丝松动、密封圈老化等 问题会进一步加剧真空渗漏。这样，设备就不能达到工艺要求的真空度数值，可能对产品造 成损害。因此，这一结构存在密封性问题。另外，很多工艺下，要求腔体内部与产品物料接触的部位需要得到有效清洁，如果 存在得不到清洁的死角，容易造成物料污染，严重影响产品品质。上述螺丝结构，无疑是一 种死角结构，同时由于其存在于腔体内部，很容易接触到物料，对于食品、医药、精细化工产 品而言是不可接受的。因此，这一结构存在卫生问题。
技术实现思路
本技术的目的是针对上述老一代微波真空馈能结构存在的缺点，提出一种自 吸式真空馈能结构，兼顾到安全性，卫生性，以及密封性的问题。为了实现上述目的，本技术采用如下技术方案一种自吸式真空馈能结构，包括一底座法兰，一真空帽，一橡胶密封圈，一压盖，所 述底座法兰镶嵌于一真空密封腔的腔壁上，所述真空帽从所述真空密封腔体外向内嵌入底 座法兰内并通过所述压盖及若干螺丝将所述真空帽压紧于底座法兰的密封面上，所述压盖 上开有真空馈能口，所述橡胶密封圈设于底座法兰的密封面上，与所述真空帽配合将所述 真空密封腔与外部隔离。上述技术方案的采用使得本技术在结构上消除了内部螺丝，一方面消除了真 空下微波放电的隐患，另一方面消除了卫生死角，便于清洁，提高了设备的卫生性；同时，由于真空帽从外部向内嵌入，真空形成后，在外界压力作用下，真空帽与密封圈的配合会越来 越紧，从而杜绝了真空渗漏。附图说明图1为传统的真空馈能结构示意图。图2为本技术的自吸式真空馈能结构示意图。具体实施方式为了使本技术的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结 合附图，进一步阐述本技术。如图2所示，本技术的自吸式真空馈能结构，包括底座法兰1，真空帽2，压盖 3，橡胶密封圈4，底座法兰1镶嵌于真空密封腔的腔壁7上，真空帽2为半圆球形结构，边 缘部分设有帽檐，其从真空密封腔体外向内嵌入底座法兰1内，其帽檐与底座法兰1的密封 面配合，压盖3将真空帽2压紧于底座法兰1的密封面上，螺丝5将压盖3固定于底座法兰 1上，压盖3上开有真空馈能口 6，橡胶密封圈4设于底座法兰1的密封面上，与真空帽2配 合将真空密封腔与外部隔离。上述技术方案的采用使得本技术在结构上消除了内部螺丝，一方面消除了真 空下微波放电的隐患，另一方面消除了卫生死角，便于清洁，提高了设备的卫生性；同时，由 于真空帽从外部向内嵌入，真空形成后，在外界压力作用下，真空帽与密封圈的配合会越来 越紧，从而杜绝了真空渗漏。本技术采用上述技术方案可以取得很好的结果，但本技术不限于上述方 案，如本技术中真空帽可以是圆球面结构，也可以是其它结构，本
中的普通技 术人员应当认识到，以上的实施例仅是用来说明本技术，而并非用作为对本技术 的限定，只要在本技术的实质精神范围内，对以上所述实施例的变化、变型都将落在本 技术的权利要求书范围内。权利要求1. 一种自吸式真空馈能结构，包括一底座法兰，一真空帽，一橡胶密封圈，一压盖，其特 征在于，所述底座法兰镶嵌于一真空密封腔的腔壁上，所述真空帽从所述真空密封腔体外 向内嵌入底座法兰内并通过所述压盖及螺丝将所述真空帽压紧于底座法兰的密封面上，所 述压盖上开有真空馈能口，所述橡胶密封圈设于底座法兰的密封面上，与所述真空帽配合 将所述真空密封腔与外部隔离。专利摘要本技术公开了一种自吸式真空馈能结构，包括一底座法兰，一真空帽，一橡胶密封圈，一压盖，所述底座法兰镶嵌于一真空密封腔的腔壁上，所述真空帽从所述真空密封腔体外向内嵌入底座法兰内并通过所述压盖及若干螺丝将所述真空帽压紧于底座法兰的密封面上，所述压盖上开有真空馈能口，所述橡胶密封圈设于底座法兰的密封面上，与所述真空帽配合将所述真空密封腔与外部隔离。上述技术方案的采用使得本技术消除了内部螺丝，一方面消除了真空下微波放电的隐患，另一方面消除了卫生死角，便于清洁，提高了设备的卫生性；同时，由于真空帽从外部向内嵌入，真空形成后，在外界压力作用下，真空帽与密封圈的配合会越来越紧，从而杜绝了真空渗漏。文档编号H01J23/36GK201859829SQ20102054176公开日2011年6月8日 申请日期2010年9月25日 优先权日2010年9月25日专利技术者汤大卫, 王波, 颜志红 申请人:上海远跃轻工机械有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种自吸式真空馈能结构，包括一底座法兰，一真空帽，一橡胶密封圈，一压盖，其特征在于，所述底座法兰镶嵌于一真空密封腔的腔壁上，所述真空帽从所述真空密封腔体外向内嵌入底座法兰内并通过所述压盖及螺丝将所述真空帽压紧于底座法兰的密封面上，所述压盖上开有真空馈能口，所述橡胶密封圈设于底座法兰的密封面上，与所述真空帽配合将所述真空密封腔与外部隔离。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：汤大卫，王波，颜志红，
申请(专利权)人：上海远跃轻工机械有限公司，
类型：实用新型
国别省市：31