非球面模仁的制造方法技术

一种非球面模仁的制造方法，其包括以下步骤：提供一模仁基底；在所述模仁基底上形成正光阻层；利用直写技术在所述正光阻层上形成微小阶梯状结构，所述微小阶梯状结构整体呈类非球面形状；加热所述正光阻层，使其回流形成光滑非球面结构。该制造方法制程简单，提高了生产效率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，特别是涉及一种用于压印成型的非球面模仁的 制造方法。
技术介绍
压印成型技术(请参见Liang Ying-xin， Wang Tai-hong，A New Technique for Fabrication of Nanodevices—Nanoimprint Lithography ， Micronanoelectronic Technology, 2003， Vol. 4-5)主要分为热压印成型及光照固化压印成型技术，特别适用于 大批量、重复性、精确制备微结构。压印成型技术为先制造具有微结构的模仁，然后利用该 模仁进行压印过程，最后进行图形转移。现有技术中用于压印制程的模仁制造方法包括如下步骤提供一透光基底；在该透光基 底一表面涂覆光阻层；曝光显影；蚀刻该基板形成微结构图案；晶种层金属化；对该基板进 行电铸；脱模并去除晶种层，形成模仁。然而，这种制造方法中需要经过蚀刻、电铸、脱模等步骤才可以完成模仁的制造，制程 繁琐，生产效率低。
技术实现思路
有鉴于此，提供一种制程相对简单容易、生产效率高的非球面模仁的制备方法实为必要一种，其包括以下步骤提供一模仁基底；本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种非球面模仁的制造方法，其包括以下步骤：　提供一模仁基底；　在所述模仁基底上形成正光阻层；　利用直写技术在所述正光阻层上形成微小阶梯状结构，所述微小阶梯状结构整体呈类非球面形状；　加热所述正光阻层，使其回流形成光滑 非球面结构。

【技术特征摘要】
1.一种非球面模仁的制造方法，其包括以下步骤提供一模仁基底；在所述模仁基底上形成正光阻层；利用直写技术在所述正光阻层上形成微小阶梯状结构，所述微小阶梯状结构整体呈类非球面形状；加热所述正光阻层，使其回流形成光滑非球面结构。2 如权利要求l所述的非球面模仁的制造方法， 仁基底为塑料、石英玻璃、碳化硅、碳化鸭或金属。3 如权利要求l所述的非球面模仁的制造方法， 光阻层采用旋涂方法或喷涂方法形成。4 如权利要求l所述的非球面模仁的制造方法， 写技术为激光直写技术或电子束直写技术。5 如权利要求l所述的非球...

【专利技术属性】
技术研发人员：骆世平，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]