光学器件及其制造方法和母板的制造方法技术

本发明专利技术提供了光学器件及其制造方法、以及母板的制造方法。其中，具有防反射功能的光学器件，包括：基底；以及多个结构体，由凸部或凹部形成，以等于或小于可见光波长的微小节距配置在基底的表面上。多个结构体被配置为在基底的表面上形成多列轨迹，并且形成准六方点阵图案、四方点阵图案或准四方点阵图案，并且结构体对基底表面的填充率等于或高于６５％。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学器件及其制造方法、以及在光学器件中使用的母板的制造方法， 具体而言，涉及具有在其上以等于或小于可见光波长的微小节距配置通过凸部或凹部所形 成的多个结构体的表面的光学器件。
技术介绍
通常，在使用由玻璃、塑料等构成的透明基板的一些光学器件中，执行表面处理， 从而抑制光线的表面反射。作为这种类型的表面处理，存在在光学器件的表面上形成微 小致密的凹凸(蛾眼)的处理(例如，见“Optical and Electro-Optical Engineering Contact”，Vol. 43，No. 11(2005)，ρ 630—637)。通常，在周期性凹凸形状被配置在光学器件的表面上的情况下，当光透射通过凹 凸形状时，发生衍射。因此，透射光的直线传播组分大量减少。但是，在凹凸形状的节距小 于透射光的波长的情况下，不发生衍射。因此，例如，如随后所述，当凹凸形状形成为矩形形 状时，对于相应于节距、深度等的单一波长的光能够获取有效的防反射效果。作为通过使用电子束曝光所制备的蛾眼结构，披露了具有微小帐篷形状的蛾眼 结构(节距约为300nm ；深度约为400nm)(例如，见网上NTT Advanced Technology Corporation "Molding DieMaster for Antireflection Bodies(Moth Eye)That Do Not HaveDependency on the Wavelength", 2008 年 2 月 27 日检索，网址 http //keytech. ntt-at. co. jp/nano/prd_0033.html)。根据这种蛾眼结构，能够获取具有等于或小于的 反射率的高性能的防反射特性。
技术实现思路
但是，近来，为了改进诸如液晶显示装置的各种显示装置的可视性，期望实现更好 的防反射特性。另外，在CCD(电荷耦合器件)图像传感器件、CMOS(互补金属氧化物半导 体)图像传感器件、光电二极管(PD)等的封装件中，使用盖玻片。因此，也期望改进盖玻片 的防反射特性。期望提供一种具有优异的防反射特性的光学器件及其制造方法、及在该光学器件 中使用的母板的制造方法。根据本专利技术的一个实施方式，提供了一种具有防反射功能的光学器件。该光学器 件包括基底；以及多个结构体，由凸部或凹部构成，以等于或小于可见光波长的微小节距 配置在基底的表面上。多个结构体被配置为在基底表面上形成多列轨迹，并形成准六方 点阵图案、四方点阵图案或准四方点阵图案，并且结构体对基底表面的填充率等于或高于65%。根据本专利技术的另一实施方式，提供了一种具有防反射功能的光学器件。该光学器 件包括基底；以及多个结构体，由凸部或凹部构成，以等于或小于可见光波长的微小节距 配置在基底的表面上。多个结构体被配置为在基底表面上形成多列轨迹，并形成准六方点 阵图案，并且当同一轨迹内的多个结构体的配置节距为Pl并且结构体的底面在轨迹方向 上的直径为2r时，直径2r与配置节距Pl的比率((2r/Pl) X 100)等于或高于85%。根据本专利技术的另一实施方式，提供了一种具有防反射功能的光学器件。该光学器 件包括基底；以及多个结构体，由凸部或凹部构成，以等于或小于可见光波长的微小节距 配置在基底的表面上。多个结构体被配置为在基底表面上形成多列轨迹，并形成四方点阵图案或准四方 点阵图案，并且当同一轨迹内的多个结构体的配置节距为Pi并且结构体的底面在轨迹方 向上的直径为2r时，直径2r与配置节距Pl的比率((2r/Pl) X 100)等于或高于90%。根据本专利技术的另一实施方式，提供了一种具有防反射功能的光学器件的母板的制 造方法。该方法包括以下步骤在具有圆柱体形状或空心圆柱体形状的母板的圆周面上形 成抗蚀层；通过在旋转其中形成了抗蚀层的母板并且平行于具有圆柱体形状或空心圆柱体 形状的母板的中心轴相对移动激光束的光点的同时，将激光束间歇照射在抗蚀层上，从而 形成具有小于可见光波长的节距的潜像；通过显影抗蚀层而在母板的表面上形成抗蚀图 案；并且通过使用抗蚀图案作为掩模执行蚀刻处理在母板表面上形成具有凹状或凸状的结 构体。在形成潜像时，潜像被配置为在母板表面上形成多列轨迹，并形成准六方点阵图案、 四方点阵图案或准四方点阵图案，并且结构体对母板表面的填充率等于或高于65%。根据本专利技术的另一实施方式，提供了一种具有防反射功能的光学器件的母板的制 造方法。该方法包括以下步骤在具有圆柱体形状或空心圆柱体形状的母板的圆周面上形 成抗蚀层；通过在旋转其中形成了抗蚀层的母板并且平行于具有圆柱体形状或空心圆柱体 形状的母板的中心轴相对移动激光束的光点的同时，将激光束间歇照射在抗蚀层上，从而 形成具有小于可见光波长的节距的潜像；通过显影抗蚀层而在母板的表面上形成抗蚀图 案；并且通过使用抗蚀图案作为掩模执行蚀刻处理在母板表面上形成具有凹状或凸状的结 构体。在形成潜像时，潜像被配置为在母板表面上形成多列轨迹，并形成准六方点阵图案， 并且当同一轨迹内的多个结构体的配置节距为Pl并且结构体在轨迹方向上的直径为2r 时，直径2r与配置节距Pl的比率((2r/Pl)X100)等于或高于85%。根据本专利技术的另一实施方式，提供了一种具有防反射功能的光学器件的母板的制 造方法。该方法包括以下步骤在具有圆柱体形状或空心圆柱体形状的母板的表面上形成 抗蚀层；通过在旋转其中形成了抗蚀层的母板并且平行于具有圆柱体形状或空心圆柱体形 状的母板的中心轴相对移动激光束的光点的同时，将激光束间歇照射在抗蚀层上，从而形 成具有小于可见光波长的节距的潜像；通过显影抗蚀层而在母板的表面上形成抗蚀图案； 并且通过使用抗蚀图案作为掩模执行蚀刻处理在母板表面上形成具有凹状或凸状的结构 体。在形成潜像时，潜像被配置为在基底表面上形成多列轨迹，并形成四方点阵图案或准四 方点阵图案，并且当同一轨迹内的多个结构体的配置节距为Pl并且结构体在轨迹方向上 的直径为2r时，直径2r与配置节距Pl的比率((2r/Pl) X 100)等于或高于64%。根据本专利技术另一实施方式，提供了一种具有防反射功能的光学器件的制造方法。6该方法包括以下步骤在具有圆柱体形状或空心圆柱体形状的母板的圆周面上形成抗蚀 层；通过在旋转其中形成了抗蚀层的母板并且平行于具有圆柱体形状或空心圆柱体形状的 母板的中心轴相对移动激光束的光点的同时，将激光束间歇照射在抗蚀层上，从而形成具 有小于可见光波长的节距的潜像；通过显影抗蚀层而在母板的表面上形成抗蚀图案；通过 使用抗蚀图案作为掩模执行蚀刻处理在母板表面上形成具有凹状或凸状的结构体；并且通 过使用形成了结构体的母板来制备其上转印有结构体的光学器件。在形成潜像时，潜像被 配置为在母板表面上形成多列轨迹，并形成准六方点阵图案、四方点阵图案或准四方点阵 图案，结构体的转印包括在基底上形成包含硅氧烷树脂的树脂层，并且通过将母板压向树 脂层而转印母板的结构体，并且结构体对母板表面的填充率等于或高于65%。根据本专利技术的实施方式，优选以四方点阵形状或准四方点阵形状周期性地配置主 结构体。此处，四方点阵形状表示具有正方形形状的点阵。与四方点阵形状不同，准四方点 阵形状表示具有扭曲的正方本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光学器件，具有防反射功能，所述光学器件包括：基底；以及多个结构体，由凸部或凹部形成，以等于或小于可见光波长的微小节距配置在所述基底的表面上，其中，所述多个结构体被配置为在所述基底的表面上形成多列轨迹，并且形成准六方点阵图案、四方点阵图案或准四方点阵图案，并且其中，所述结构体对所述基底的表面的填充率等于或高于６５％。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：远藤惣铭，林部和弥，
申请(专利权)人：索尼公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]