电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备制造技术

本发明专利技术涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。一种电子照相感光构件，其具有支承体和在所述支承体上形成的感光层，其中所述感光层含有硼配合物，所述硼配合物是具有酚羟基和羰基的化合物与卤化硼的反应产物。还公开的是具有此类电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及电子照相感光构件，以及具有所述电子照相感光构件的处理盒和电子 照相设备。
技术介绍
用于电子照相设备如复印机和激光束打印机中的电子照相感光构件需要具有充 分的对图像曝光光的感光度，已提出用于改进电子照相感光构件的感光度的技术开发。在 日本专利申请特开S59-31962、H01-183663、H10-67946和H09-34149中公开了通过在电子 照相感光构件的感光层中使用高感光性的电荷产生材料(charge generating materials) 如偶氮颜料和酞菁颜料来改进电子照相感光构件的感光度的技术。然而，随着此种对电子照相感光构件的感光度的改进，形成的电荷(光载流子)更 趋于残留在感光层中，从而作为一种存储器趋于引起电势的变化。具体地说，在连续打印时亮区电势和残留电势趋于降低。例如，在电子照相感光 构件用于显影过程中的情况下，在早期打印时已施用图像曝光光至其的区域产生良好的感 光度，在所述显影过程中，使暗区电势部分用作非显影部分和亮区电势部分用作显影部分 (所谓反转显影系统)。因此，所谓正重影可能不必要地出现，这是如下一种现象当在下次 打印时再现整面白图像时，在早期打印时暴露于图像曝光光的部分模糊地出现黑色。相反 地，在打印的初始阶段亮区电势趋于增大。例如，在电子照相感光构件用于反转显影系统中 的情况下，在早期打印时施用图像曝光光至其的区域出现差的感光度。因此，所谓负重影可 能不必要地出现，这是如下一种现象当在下次打印时再现整面黑图像时，在早期打印时暴 露于图像曝光光的部分模糊地出现白色。特别地，在支承体和感光层之间设置具有阻挡功能等的中间层的情况下，中间层 在低温低湿环境下具有如此高的体积电阻率以致电荷可趋于残留在感光层中，从而趋于使 重影现象明显地出现。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供能使重影现象不容易出现的电子照相感光构件，和具有此类 电子照相感光构件的处理盒与电子照相设备。本专利技术是具有支承体和在所述支承体上形成的感光层的电子照相感光构件，其中 所述感光层含有硼配合物，所述硼配合物是具有酚羟基和羰基的化合物与商化硼的反应产 物。本专利技术也是一体化支承上述电子照相感光构件和选自由以下组成的组中的至少 一种装置的处理盒充电装置，其用于使电子照相感光构件的表面静电充电；显影装置，其 用于用调色剂显影在电子照相感光构件的表面上形成的静电潜像，从而在电子照相感光构 件的表面上形成调色剂图像；和清洁装置，其用于除去在调色剂图像转印后残留在电子照 相感光构件的表面上的调色剂，所述处理盒可拆卸地安装在电子照相设备主体上。本专利技术还是包括以下的电子照相设备上述电子照相感光构件；充电装置，其用 于使电子照相感光构件的表面静电充电；图像曝光装置，其用于将如此充电的电子照相感 光构件的表面暴露于图像曝光光，从而在电子照相感光构件的表面上形成静电潜像；显影 装置，其用于用调色剂显影在电子照相感光构件的表面上形成的静电潜像，从而在电子照 相感光构件的表面上形成调色剂图像；和转印装置，其用于将在电子照相感光构件的表面 上形成的调色剂图像转印至转印材料。根据本专利技术，可提供能使重影现象不容易出现的电子照相感光构件，和具有此类 电子照相感光构件的处理盒与电子照相设备。参照附图，从以下示例性实施方案的描述中，本专利技术的进一步特征将变得显而易 见。附图说明图1是示意性示出具有设置有本专利技术的电子照相感光构件的处理盒的电子照相 设备的构造实例的图。具体实施例方式参照附图，现在将具体描述本专利技术的优选实施方案。用于本专利技术中的硼配合物是具有酚羟基和羰基的化合物与卤化硼的反应产物。酚 羟基是表示键合至苯环的羟基。此外，卤化硼是由BX3 (其中三个X各自独立地表示卤素原 子)表示的化合物。硼配合物可优选具有由以下结构式(ps)表示的部分结构的化合物。 (ps)在该结构式(ps)中，X1和X2各自独立地表示卤素原子。由结构式(ps)表示的部分结构是由作为硼配合物用原料的具有酚羟基和羰基的 化合物中的酚羟基和羰基，与也作为硼配合物用原料的卤化硼中的硼原子形成的部分结 构。在结构式(ps)中，由X1和X2表示的卤素原子可包括例如氟原子、氯原子和溴原 子。在这些中，优选氟原子。卤化硼可优选三氟化硼(BF3)。从更加抑制重影现象发生的观点，硼配合物也可优选为由以下通式(1)_(5)中任一个表示的化合物。权利要求1.一种电子照相感光构件，其包含支承体和在所述支承体上形成的感光层，其中所述感光层含有硼配合物，所述硼配合物是具有酚羟基和羰基的化合物与商化硼的反 应产物。2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述卤化硼为三氟化硼。3.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述硼配合物为具有由以下结构式 (PS)表示的部分结构的化合物4.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述硼配合物为由以下通式 (1)-(5)中任一个表示的化合物5.根据权利要求4所述的电子照相感光构件，其中所述硼配合物为由所述通式(1)表 示的化合物，且所述通式(1)中的R3为苯基。6.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述感光层含有酞菁颜料作为电荷 产生材料。7.根据权利要求6所述的电子照相感光构件，其中在所述感光层中的所述硼配合物含量为0.5质量％至5质量％，基于所述酞菁颜料。8.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述感光层具有包含所述硼配合物 和电荷产生材料的电荷产生层以及包含电荷输送材料的电荷输送层。9. 一种处理盒，其一体化支承根据权利要求1所述的电子照相感光构件和选自由以下 组成的组中的至少一种装置充电装置，其用于使所述电子照相感光构件的表面静电充电； 显影装置，其用于用调色剂显影在所述电子照相感光构件表面上形成的静电潜像，从 而在所述电子照相感光构件表面上形成调色剂图像；和清洁装置，其用于除去在所述调色剂图像转印后残留在所述电子照相感光构件表面上 的调色剂；以及所述处理盒可拆卸地安装在电子照相设备的主体上。10. 一种电子照相设备，其包含根据权利要求1所述的电子照相感光构件； 充电装置，其用于使所述电子照相感光构件表面静电充电；图像曝光装置，其用于将所述如此充电的电子照相感光构件表面暴露于图像曝光光， 从而在所述电子照相感光构件表面上形成静电潜像；显影装置，其用于用调色剂显影在所述电子照相感光构件表面上形成的静电潜像，从 而在所述电子照相感光构件表面上形成调色剂图像；和转印装置，其用于将在所述电子照相感光构件表面上形成的所述调色剂图像转印至转 印材料。全文摘要本专利技术涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。一种电子照相感光构件，其具有支承体和在所述支承体上形成的感光层，其中所述感光层含有硼配合物，所述硼配合物是具有酚羟基和羰基的化合物与卤化硼的反应产物。还公开的是具有此类电子照相感光构件的处理盒和电子照相设备。文档编号G03G21/18GK101995779SQ20101025907公开日2011年3月30日 申请日期2010年8月18日 优先权日2009年8月18日专利技术者田中正人 申请人:佳能株式会社本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电子照相感光构件，其包含支承体和在所述支承体上形成的感光层，其中：所述感光层含有硼配合物，所述硼配合物是具有酚羟基和羰基的化合物与卤化硼的反应产物。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：田中正人，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]