用于清洁曝光设备的母版上的图形区的清洁装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种用于清洁曝光设备的母版上的图形区的清洁装置，其包括：导轨（５），所述导轨（５）与母版（３）的长度方向平行地布置在所述母版（３）的侧部；套筒（６），安装在所述导轨（５）上，并且能够沿所述导轨（５）自由滑动；其中，所述套筒（６）为圆柱形空心套筒，并包括：金属外壳（１０）；以及粘性膜层（９），套设在所述金属外壳（１０）外。本清洁装置能够实现大面积全自动除尘，而操作人员只需定期检查并更换清洁装置即可。因此，既提高了曝光图形的质量又节省了人力物力。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种清洁装置，更具体地，涉及一种用于清洁曝光设备的母版上 的图形区的清洁装置。
技术介绍
众所周知，制作彩色等离子体显示屏时所用的曝光设备主要是用来对感光性浆料 进行选择性曝光，留下需要的部分，除去不需要的部分，再经过显影等工艺形成所需要的图 形，这也就是形成电极线条的过程。在等离子体显示板(PDP)的制作流程中，ITO、Bus、ADD、 障壁的制作等多个工艺流程都需要进行曝光工作，而其中对感光性浆料的选择性曝光是通 过母版(photo mask)来完成的。目前，传统的PDP曝光设备都是采用立式母版来进行曝光，也就是说，曝光过程中 母版和印有感光性浆料的玻璃基板是在直立状态下进行曝光的。其工作流程大致如下当印有感光性浆料的玻璃基板进入曝光设备之后，首先用夹子将玻璃基板固定在 台子(stage)上。然后使台子直立，玻璃基板也随之直立，而与母版平行。随着台子朝着母 版移动，玻璃基板逐渐靠近母版。接着进行对位和间隙测量。最后开始进行曝光。图1是示意性地示出了在用传统的曝光设备进行曝光时母版与玻璃基板之间的 相对位置关系的视图。在图1中，直立的台子用参考标号1表示，待曝光的印有感光浆料 的玻璃基板用参考标号2表示，母版用参考标号3表示，母版中的图形区(即，需要进行清 洁的区域)用参考标号4表示。在进行曝光时，光线沿箭头所示方向射入，经由图形区4到 达感光浆料表面，从而达到曝光的目的。但需要注意的是，如果图形区4受到灰尘颗粒的污染，曝光后得到的图形就会受 到影响。为了使曝光后得到的线条均勻无缺陷，必须确保母版3的表面足够清洁，防止灰尘 落到母版3上。但由于母版3的表面容易产生静电，很容易吸附灰尘，因此必须每次在进行 曝光之前或定期地对母版3的表面进行清洁。上述清洁可先使用湿设备进行，然后吹干，或 者进行干式清洁。目前，对于量产线上的母版一般都是采用湿法清洁。然而，清洁完的母版在后续的 运输过程中又容易被污染。对于试验室中使用的母版一般是进行手动除尘。然而，手动除尘存在如下所述的 诸多缺陷一是由于操作人员对曝光设备内部洁净度的影响，从而破坏了高洁净度要求，带 来了新的污染；二是在手动除尘的过程中，由于操作人员的作业会产生气流而带起尘埃， 往往是在刚用粘滚清洁完母版之后又使母版立刻粘上新的灰尘，因而除尘工作难以彻底完 成；三是无法对曝光设备进行细致的检查，不能很好地判断除尘效果。综上所述，手工除尘 很难彻底清洁母版，而且很容易造成二次污染。由此可见，无论是量产线上的母版还是试验室中使用的母版都未能很好地得到清 洁及进行检查。为此，有必要开发出一种改良的用于母版的清洁装置，以提高除尘效率，并 准确判断有无灰尘的存在，从而保证良好的洁净度。
技术实现思路
为了解决上述问题，本技术提出了一种结构简单、且能够对母版进行自动除 尘的清洁装置。无论是量产线上的母版还是试验室中使用的母版均可使用本清洁装置进行 清洁，并且能够实现大面积全自动除尘，而操作人员只需定期检查并更换清洁装置即可。因 此，本清洁装置既提高了曝光图形的质量又节省了人力物力。在本技术的优选实施例中，提供了一种用于清洁曝光设备的母版上的图形区 的清洁装置。本清洁装置的特征在于，其包括导轨，与母版的长度方向平行地布置在母版 的侧部；套筒，安装在导轨上，并且能够沿导轨自由滑动；其中，该套筒为圆柱形空心套筒， 并包括金属外壳；以及粘性膜层，套设在该金属外壳外，以粘住母版表面的灰尘颗粒。进一步地，套筒的长度不小于图形区的宽度。进一步地，本清洁装置进一步包括杆，一端连接至套筒。进一步地，该杆具有枢转轴，杆能够围绕该枢转轴枢转，并相对于导轨具有直立和 平放两种状态。从而，当本清洁装置开始工作时，套筒随杆一起直立，并从导轨一侧的起始 位置移动到另一侧的终结位置，以扫过图形区；当清洁装置停止工作时，套筒随杆平放在导 轨上。进一步地，在本清洁装置工作时，金属外壳连接有低压电源，以起到静电吸附的作 用，从而与粘性膜层的物理吸附作用配合而更好地清除灰尘。进一步地，上述导轨为分别布置在母版一侧的两条导轨，上述套筒为分别安装在 两条导轨中的一条上且能够沿该导轨自由滑动的两个套筒，并且上述杆为分别与两个套筒 中的一个的一端连接的两个杆。因此，可以同时对母版的两个表面进行清洁，并且由于两个 套筒在同一水平位置，使得清洁时母版两侧的力达到平衡状态。本清洁装置的工作原理如下当母版移动到指定位置后，杆及与之连接的套筒直 立，这样，套筒位于母版的一侧。然后，套筒朝着母版移动并靠近，直到套筒上的粘性膜层正 好紧贴母版的表面。之后，杆及套筒以一定速度从导轨一侧的起始位置移动至另一侧的终 结位置，此时粘性膜层粘掉母版表面上的微小尘埃。接着，杆沿导轨从终结位置返回到起始 位置。此后，根据对母版表面清洁度的要求，杆及套筒可再一次或多次从导轨一侧的起始位 置移动至另一侧的终结位置。与此同时，套筒连接有低压电源，以起到静电吸附的作用，从 而与粘性膜层的物理吸附作用配合而更好地清除灰尘。在清洁工作完成之后，套筒离开紧 贴的母版，杆及套筒回到平放状态。与现有技术中的清洁装置相比，本清洁装置的优点在于简单可行。整个清洁过程 中不需要协助手动操作，使母版清洁工作彻底自动化，从而避免了由操作人员带来的污染， 保证了设备内部良好的洁净度。并且，本清洁装置使静电除尘与粘性膜层的物理吸附功能 相结合，达到了更好的除尘效果，杜绝了曝光时由于灰尘污染而造成的图形缺陷问题，因此 提高了制屏的良品率。附图说明从以下参照附图对实施例的描述中，本技术的各种目的、优点以及特征将变 得显而易见，附图中图1是示意性地示出了在用传统曝光设备进行曝光时母版与玻璃基板之间的相 对位置关系的视图；图2是根据本技术的优选实施例的清洁装置的侧视图；图3是示意性地示出了图2的清洁装置中的金属套筒的构造的视图；以及图4是示意性地示出了根据本技术的优选实施例的清洁装置的工作原理的 视图。具体实施方式以下结合附图对本技术的结构原理和工作原理做进一步详细说明。图2是根据本技术的优选实施例的清洁装置的侧视图，其用于清洁母版3上 的图形区4。如图2所示，本清洁装置包括分别用参考标号5a和5b表示的两条导轨、分别 用参考标号7a和7b表示的两个杆、以及分别用参考标号6a和6b表示的两个套筒。下面将参照图3对套筒的构造做进一步的详细描述。图3是示意性地示出了图2的清洁装置中的套筒的构造的视图。如图3中所示， 套筒6为圆柱形空心套筒，并包括中心轴，位于套筒6的中心处，并与杆7连接；轴承8，套 设在中心轴外；金属外壳10，套设在轴承8外；以及粘性膜层9，套设在金属外壳10外，以粘 住母版表面的灰尘颗粒。由此可知，轴承8与金属外壳10之间是空心的，以减轻套筒6的 重量。粘性膜层9具有良好的物理吸附能力，以吸附灰尘颗粒，同时使得与母版3的接触为 软接触，故不会损伤母版表面，但需要定期更换。当套筒6紧贴母版3移动时，金属外壳10 连同粘性膜层9 一起绕轴承8转动，以保证膜层9与母版3之间不会出现相对滑动而损伤 母版表面。与此同时，在清洁装置工作的时候，金属外壳10连接有低压电源，以起到静电吸 附的作用，从而对母版表面进行清洁。下本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于清洁曝光设备的母版上的图形区的清洁装置，其特征在于，所述清洁装置包括：　　　　导轨（５），所述导轨（５）与母版（３）的长度方向平行地布置在所述母版（３）的侧部；套筒（６），安装在所述导轨（５）上，并且能够沿所述导轨（５）自由滑动；其中，所述套筒（６）为圆柱形空心套筒，并包括：金属外壳（１０）；以及粘性膜层（９），套设在所述金属外壳（１０）外。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：费悦，田玉民，
申请(专利权)人：四川虹欧显示器件有限公司，
类型：实用新型
国别省市：51[中国|四川]