用于清洁曝光设备的母版上的图形区的清洁装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种用于清洁曝光设备的母版上的图形区的清洁装置，其包括：导轨（５），所述导轨（５）与母版（３）的长度方向平行地布置在所述母版（３）的侧部；套筒（６），安装在所述导轨（５）上，并且能够沿所述导轨（５）自由滑动；其中，所述套筒（６）为圆柱形空心套筒，并包括：金属外壳（１０）；以及粘性膜层（９），套设在所述金属外壳（１０）外。本清洁装置能够实现大面积全自动除尘，而操作人员只需定期检查并更换清洁装置即可。因此，既提高了曝光图形的质量又节省了人力物力。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种清洁装置，更具体地，涉及一种用于清洁曝光设备的母版上 的图形区的清洁装置。
技术介绍
众所周知，制作彩色等离子体显示屏时所用的曝光设备主要是用来对感光性浆料 进行选择性曝光，留下需要的部分，除去不需要的部分，再经过显影等工艺形成所需要的图 形，这也就是形成电极线条的过程。在等离子体显示板(PDP)的制作流程中，ITO、Bus、ADD、 障壁的制作等多个工艺流程都需要进行曝光工作，而其中对感光性浆料的选择性曝光是通 过母版(photo mask)来完成的。目前，传统的PDP曝光设备都是采用立式母版来进行曝光，也就是说，曝光过程中 母版和印有感光性浆料的玻璃基板是在直立状态下进行曝光的。其工作流程大致如下当印有感光性浆料的玻璃基板进入曝光设备之后，首先用夹子将玻璃基板固定在 台子(stage)上。然后使台子直立，玻璃基板也随之直立，而与母版平行。随着台子朝着母 版移动，玻璃基板逐渐靠近母版。接着进行对位和间隙测量。最后开始进行曝光。图1是示意性地示出了在用传统的曝光设备进行曝光时母版与玻璃基板之间的 相对位置关系的视图。在图1中，直立的台子用参考标号1表示，待曝光的印有感本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于清洁曝光设备的母版上的图形区的清洁装置，其特征在于，所述清洁装置包括：　　　　导轨（５），所述导轨（５）与母版（３）的长度方向平行地布置在所述母版（３）的侧部；套筒（６），安装在所述导轨（５）上，并且能够沿所述导轨（５）自由滑动；其中，所述套筒（６）为圆柱形空心套筒，并包括：金属外壳（１０）；以及粘性膜层（９），套设在所述金属外壳（１０）外。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：费悦，田玉民，
申请(专利权)人：四川虹欧显示器件有限公司，
类型：实用新型
国别省市：51[中国|四川]