基板输送装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种基板输送装置。其中，涂覆装置能够在装置内随时或适时地、自动且有效率地去除上浮工作台上的吸引口的堵塞。在上浮工作台吸引口扫除动作中，控制器在将与涂覆处理相关的动作暂时全部设为停止状态后使第2供气部工作。通过使第2供气部工作，从而将来自正压气体供应源的空气(压缩空气)经由第1供气管线和第2歧管(64)而送入到涂覆区域内的各吸引口(18)。在发生了堵塞的吸引口(18)中，利用来自第2歧管(64)侧的空气压力而将夹入在气体通路(18a)中的异物(Q)以挤出的方式朝上方排出。这时，由于第1供气部(44)也工作，因此不必担心由吸引口(18)排出的异物(Q)进入到附近的喷出口(16)中。

Substrate conveying device

The invention relates to a substrate conveying device. Wherein, the coating device can remove the clogging of the suction port on the floating table at any time or in a timely, automatic and efficient manner. In the lifting action of the floating table suction port, the controller makes the second air supply department work after the temporary action of the coating process is temporarily stopped as a stop state. By enabling the second air supply unit to work, the air (compressed air) from the positive pressure gas supply source is fed into each of the suction ports (18) in the coating area through the first gas supply line and the second manifold (64). In the event of a blockage of the suction port (18), second (64) from the manifold side of the air pressure and the sandwiched gas pathway (18a) in the foreign body (Q) by extrusion way toward the top of discharge. At this time, since the first air supply unit (44) is also working, it is not necessary to worry that the foreign substance (Q) discharged by the suction port (18) enters into the vicinity of the spout (16).

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于在上浮工作台上将处理液涂覆到被处理基板上的涂覆装置。
技术介绍
在IXD等平板显示器(FPD)的制造工艺中的光刻工序中，采用具有狭缝状的排出口的长条形的狭缝喷嘴而在被处理基板(玻璃基板等)上涂覆抗蚀液的非旋涂的涂覆法被广泛应用。作为这样的非旋涂的涂覆法的一种形式，公知有如下一种上浮方式通过在用于支承基板的工作台上组装基板上浮机构，在该上浮工作台上，使基板飘浮在空中并沿水平的一个方向(工作台长度方向)输送基板，在输送途中的规定位置上，利用设置在工作台上方的狭缝喷嘴而朝通过狭缝喷嘴正下方的基板呈带状排出抗蚀液，从而自基板上的一端至另一端涂覆抗蚀液。在该上浮方式的非旋涂的涂覆法中，要在基板上以设定的膜厚来均勻地形成抗蚀液的涂覆膜，要求将设在狭缝喷嘴的排出口与基板之间的、通常100 μ m左右的微小的间隙精确地维持为设定值或在设定值附近。为了满足该要求条件，采用上浮方式的非旋涂的涂覆法的抗蚀液涂覆装置不仅要在上浮工作台的大致整个区域中以规定的密度设置许多个用于喷出高压或正压的气体、例如空气的喷出口，而且要在上浮工作台上的作为狭缝喷嘴的正下或前后区域而设定的涂覆区域中使以负压来吸入空气的吸引口与喷出口相混合。此外，在该涂覆区域内，相对于通过该涂覆区域的基板，取得由喷出口所施加的垂直向上的压力与由吸引口所施加的垂直向下的压力之间的平衡，从而精细地控制施加到基板上的上浮压力，使基板的上浮高度与设定值(例如50 μ m) 一致(例如专利文献1)。专利文献1 日本特开2007-190483号公报。虽然上述那样的抗蚀液涂覆装置是在无尘室内运转的，但自不必说被暴露于微小的尘粒，也往往会被暴露于较大的尘土、碎片等异物。这些异物有的是在气氛中漂流而来的，有的是在维护时自外部带来的或者在维护作业中产生的，也有时是由于基板破损、膜剥离而产生的。总之，在采用上述那样的上浮方式的非旋涂的涂覆法的抗蚀液涂覆装置中，飘浮在其周围的异物会不经意地吸入到上浮工作台的涂覆区域的吸引口中，而导致吸引口中堆积了异物。若吸引口发生堵塞，则该吸引口无法对通过其上方的基板施加吸引力。通常在上浮工作台的涂覆区域中设有数量为1000个以上的吸引口。即使其中的一两个吸引口发生堵塞，对整体的吸引力也基本上没有影响，但若数百个左右的吸引口发生了堵塞，则整体的吸引力会显著下降。另外，即使堵塞了的吸引口只有数十个左右，但若集中在狭小的范围内，则在该范围附近，来自喷出口的飘浮力与来自吸引口的引力之间的平衡破坏，往往会导致基板上浮高度局部地高于设定值。若在涂覆区域(尤其是狭缝喷嘴的正下方附近)基板上浮高度局部地高于设定值，则形成于基板上的抗蚀液涂覆膜的厚度会发生变动，从而使光刻的精度和可靠性降低。以往，为了将上述那样的上浮工作台上的吸引口的堵塞去除，而采用将上浮工作台分解来清扫吸引口的方法，或者使外部扫除机的吸引头与上浮工作台的上表面相抵接， 从而自上方来吸引并去除堆在吸引口中的异物的方法。但是，分解清扫方法由于作业非常麻烦、需要很大的劳力、作业时间，换言之修复时间也很长，因此，在现场不愿被采用。另外，采用外部扫除机的方式具有如下问题容易由于使吸头与上浮工作台相抵接而弄伤上浮工作台、虽然不像分解清扫方式那么费力但还是需要人来作业。另外，以往没有用于检查上浮工作台的吸引口是否发生了堵塞的方法或功能。因此在由于吸引口的堵塞而对抗蚀液涂覆膜的膜厚产生了影响的情况下，往往需要花费时间直至查明原因。另一方面，若在短的周期内频繁地采用上述那样的分解清扫或外部扫除方法来进行定期维护，会导致花费巨大的劳力和装置运转率下降。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述那样的以往技术的问题点而做出的，目的在于提供如下一种涂覆装置能够在装置内随时或适时地、自动且有效率地去除上浮工作台上的吸引口的堵塞。本专利技术的涂覆装置包括上浮工作台，其具有使许多个喷出口和许多个吸引口混在一起地设置而成的第1上浮区域；第1供气部，其为了使被处理基板在由上述喷出口喷出的气体的压力的作用下而上浮，将正压的气体供应到上述喷出口 ；吸引排气部，其为了利用将气体吸入到上述吸引口中的吸引力来控制上述基板的上浮高度，向上述吸引口施加负压；输送机构，其用于在上述上浮工作台上对飘浮于空中的上述基板进行保持并以使上述基板通过上述第1上浮区域的方式来输送上述基板；处理液供给部，其具有被配置在上述第1上浮区域的上方的喷嘴，自上述喷嘴向通过上述第1上浮区域的的上述基板上供给处理液；第2供气部，其为了对上述吸引口中进行扫除，将正压的气体供应到上述吸引口中。在上述的结构中，有时设在上浮工作台的第1上浮区域中的吸引口在进行吸引动作期间(主要是涂覆处理过程中)会不经意地将飘浮在上浮工作台周围的异物吸入，导致吸引口中堆积有异物。但是，根据本专利技术，通过在涂覆处理停止时或涂覆处理中断期间使吸引排气部停止并使第2供气部工作，能够不需要人工就自动且高效率地去除吸引口的堵O根据本专利技术的涂覆方式，利用上述那样的结构和作用，能够在装置内随时或适时地、自动且有效率地去除上浮工作台上的吸引口的堵塞。附图说明图1是表示本专利技术的一实施方式中的抗蚀液涂覆装置的主要结构的大致俯视图。图2是表示上述抗蚀液涂覆装置的主要结构的、基板输送方向的大致主视图。图3是表示上述抗蚀液涂覆装置中的上浮高度测量部的光学距离传感器的安装构造和作用的大致侧视图。图4是上述抗蚀液涂覆装置中的喷嘴再生部的结构和面状吸取部的安装构造的图。图5是上述抗蚀液涂覆装置中的控制系统的结构的框图。图6是表示在上述抗蚀液涂覆装置中上浮工作台的吸引口中几乎未堆积有异物时的涂覆处理部的状态的大致剖视图。图7是表示在上述抗蚀液涂覆装置中上浮工作台的吸引口中堆积有异物时的涂覆处理部的状态的大致剖视图。图8是表示在上述抗蚀液涂覆装置中第2供气部工作时的作用的大致剖视图。图9是在上述抗蚀液涂覆装置中在上浮工作台吸引口扫除时采用面状吸附部的情况下的作用的图。图10是表示上述抗蚀液涂覆装置中的第2供气部的变形例的图。图11是用于说明在第2供气部采用压缩箱的情况下的作用的压力波形图。图12A是表示分时控制由第2供气部施加到上浮工作台的吸引口的用于扫除的压力的方式的一个阶段的图。图12B是表示分时控制由第2供气部施加到上浮工作台的吸引口的用于扫除的压力的方式的一个阶段的图。图13是本专利技术的第2实施方式的说明图。图14是本专利技术的第6实施方式中的第2供气部的说明图。图15是本专利技术的第7实施方式中的第2供气部的说明图。具体实施例方式下面，参照附图来说明本专利技术的优选实施方式。图1和图2表示本专利技术的一实施方式中的抗蚀液涂覆装置的主要结构。图1是大致俯视图，图2是基板输送方向的大致主视图。本专利技术的抗蚀液涂覆装置采用上浮方式的非旋涂的涂覆法，如图1所示，包括上浮工作台10，其利用气体压力使被处理基板、例如FPD用的玻璃的基板G飘浮在空中；输送机构12，其在该上浮工作台10上沿着上浮工作台长度方向(X方向)对飘浮于空中的基板 G进行输送；狭缝喷嘴14，其用于将抗蚀液供应到在上浮工作台10上输送的基板G的上表上浮工作台10的上表面沿着基板输送方向(X方向)分割为3个区域，即搬入区域Min、涂覆区域Μωτ以及搬出区域Mott。其中，在搬本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种基板输送装置，其中，包括：上浮工作台，其具有使许多个喷出口和许多个吸引口混合在一起地设置而成的第１上浮区域；第１供气部，其为了使被处理基板在自上述喷出口喷出的气体的压力的作用下而上浮，将正压的气体供应到上述喷出口；吸引排气部，其为了利用将气体吸入到上述吸引口中的吸引力来控制上述被处理基板的上浮高度，向上述吸引口施加负压；输送机构，其用于保持在上述上浮工作台上飘浮于空中的上述被处理基板并以使上述被处理基板通过上述第１上浮区域的方式来输送上述被处理基板；第２供气部，其为了对上述吸引口中进行扫除，将正压的气体供应到上述吸引口。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：稻益寿史，小篠勲，高木贵生，吉富济，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP