基板输送装置制造方法及图纸

技术编号:6065637 阅读:165 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种基板输送装置。其中,涂覆装置能够在装置内随时或适时地、自动且有效率地去除上浮工作台上的吸引口的堵塞。在上浮工作台吸引口扫除动作中,控制器在将与涂覆处理相关的动作暂时全部设为停止状态后使第2供气部工作。通过使第2供气部工作,从而将来自正压气体供应源的空气(压缩空气)经由第1供气管线和第2歧管(64)而送入到涂覆区域内的各吸引口(18)。在发生了堵塞的吸引口(18)中,利用来自第2歧管(64)侧的空气压力而将夹入在气体通路(18a)中的异物(Q)以挤出的方式朝上方排出。这时,由于第1供气部(44)也工作,因此不必担心由吸引口(18)排出的异物(Q)进入到附近的喷出口(16)中。

Substrate conveying device

The invention relates to a substrate conveying device. Wherein, the coating device can remove the clogging of the suction port on the floating table at any time or in a timely, automatic and efficient manner. In the lifting action of the floating table suction port, the controller makes the second air supply department work after the temporary action of the coating process is temporarily stopped as a stop state. By enabling the second air supply unit to work, the air (compressed air) from the positive pressure gas supply source is fed into each of the suction ports (18) in the coating area through the first gas supply line and the second manifold (64). In the event of a blockage of the suction port (18), second (64) from the manifold side of the air pressure and the sandwiched gas pathway (18a) in the foreign body (Q) by extrusion way toward the top of discharge. At this time, since the first air supply unit (44) is also working, it is not necessary to worry that the foreign substance (Q) discharged by the suction port (18) enters into the vicinity of the spout (16).

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及用于在上浮工作台上将处理液涂覆到被处理基板上的涂覆装置。
技术介绍
在IXD等平板显示器(FPD)的制造工艺中的光刻工序中,采用具有狭缝状的排出口的长条形的狭缝喷嘴而在被处理基板(玻璃基板等)上涂覆抗蚀液的非旋涂的涂覆法被广泛应用。作为这样的非旋涂的涂覆法的一种形式,公知有如下一种上浮方式通过在用于支承基板的工作台上组装基板上浮机构,在该上浮工作台上,使基板飘浮在空中并沿水平的一个方向(工作台长度方向)输送基板,在输送途中的规定位置上,利用设置在工作台上方的狭缝喷嘴而朝通过狭缝喷嘴正下方的基板呈带状排出抗蚀液,从而自基板上的一端至另一端涂覆抗蚀液。在该上浮方式的非旋涂的涂覆法中,要在基板上以设定的膜厚来均勻地形成抗蚀液的涂覆膜,要求将设在狭缝喷嘴的排出口与基板之间的、通常100 μ m左右的微小的间隙精确地维持为设定值或在设定值附近。为了满足该要求条件,采用上浮方式的非旋涂的涂覆法的抗蚀液涂覆装置不仅要在上浮工作台的大致整个区域中以规定的密度设置许多个用于喷出高压或正压的气体、例如空气的喷出口,而且要在上浮工作台上的作为狭缝喷嘴的正下或前后区域而设定的涂覆区域中使以本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板输送装置,其中,包括:上浮工作台,其具有使许多个喷出口和许多个吸引口混合在一起地设置而成的第1上浮区域;第1供气部,其为了使被处理基板在自上述喷出口喷出的气体的压力的作用下而上浮,将正压的气体供应到上述喷出口;吸引排气部,其为了利用将气体吸入到上述吸引口中的吸引力来控制上述被处理基板的上浮高度,向上述吸引口施加负压;输送机构,其用于保持在上述上浮工作台上飘浮于空中的上述被处理基板并以使上述被处理基板通过上述第1上浮区域的方式来输送上述被处理基板;第2供气部,其为了对上述吸引口中进行扫除,将正压的气体供应到上述吸引口。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:稻益寿史小篠勲高木贵生吉富济
申请(专利权)人:东京毅力科创株式会社
类型:发明
国别省市:JP

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