化学处理盒制造技术

本发明专利技术提供一种可以使得通过微阵列芯片进行的检测的精度提高的化学处理盒。支持机构以使得部件与微阵列芯片之间的间隙宽度可以随着来自外部的力而变化的状态来支持所述部件。约束机构约束由支持机构引起的间隙的可变范围，使得部件的表面与微阵列芯片的表面之间的间隙在微阵列芯片的整个表面中不会在一定宽度以下。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种化学处理盒，该化学处理盒通过由外部施加的力引起的变形使得 内容物移动、从而进行化学处理。
技术介绍
通过由外部施加的力引起的变形使得内容物移动、从而进行化学处理的化学处理 盒是已知的。在该化学处理盒中，按照适应于所期望的化学处理顺序的形状、布置来形成容 池或流路，并且使压在处理盒上的辊滑动等而使得内容物移动，从而容易地进行按照上述 顺序的化学处理。日本特开2004-2^068号公报中公开了容纳有微阵列芯片的化学处理盒。在该盒 子中，通过从外部施加力使溶液移动，可以进行在微阵列芯片上的杂交(hybridization)。 另外，通过由硅橡胶所形成的窗口，从盒子的外部对微阵列芯片进行光学检测，从而可以进 行靶分子的测定。日本特开2004-2^068号公报日本特开2005-0M516号公报日本特开2005-308504号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题但是，在现有的处理盒中存在这样的问题用作窗口的硅橡胶杂质等造成的亮点 会妨碍光学检测。另外，硅橡胶发生变形，使微阵列芯片和窗口之间的间隙不能保持一定， 因此，杂交后的排液状态在整个微阵列芯片上不是均勻的。有时候硅橡胶与本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种化学处理盒，其为通过由外部施加的力引起的变形，使得内容物移动、从而进行化学处理的化学处理盒，其特征在于，具有：微阵列芯片，该微阵列芯片容纳在所述化学处理盒的内部；具有与所述微阵列芯片的表面相对的表面的部件；支持机构，该支持机构以使得所述部件与所述微阵列芯片之间的间隙宽度可以随着来自外部的力而变化的状态来支持所述部件；以及用于约束由所述支持机构引起的间隙的可变范围的约束机构，该约束机构使得所述部件的所述表面与所述微阵列芯片的所述表面之间的间隙在所述微阵列芯片的整个所述表面中不会在一定宽度以下。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：田名纲健雄，片仓久雄，行之内克守，
申请(专利权)人：横河电机株式会社，
类型：发明
国别省市：JP