紫外线屏蔽性贴剂制造技术

本发明专利技术的目的在于提供即使在直射太阳光线时，药物也不会光分解，且充分显示药效，同时制剂的物性和安全性优异的贴剂。本发明专利技术提供一种贴剂，其包含聚酯类支持体和在该聚酯类支持体的一面上设置的含有非甾体类抗炎药物（ＮＳＡＩＤ）的粘合剂层，其中所述支持体含有以通式（１）所示的羟基苯基苯并三唑衍生物，式中，Ｒ↓［１］和Ｒ↓［２］可以相同或不同，是氢或Ｃ↓［１］～Ｃ↓［８］的烷基，Ｘ是卤原子。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】本专利技术涉及一种紫外线屏蔽效果优异的贴剂。
技术介绍
贴剂是贴覆到皮肤表面使用的，所以由于适用部位的不同，在室外有时会受到太阳光线的照射。因此，在含有容易被太阳的紫外线分解的化合物的贴剂会具有如下问题基剂中的药物分解而使原本的药效失效，或者其光分解物会诱发副作用等。过去，作为这种避免紫外线影响的方法，通常是尝试在基剂中添加紫外线吸收剂。例如有通过在基剂中混合紫外线吸收剂，从而抑制药效成分的光分解的外用制剂(例如，参照专利文献1)，但是具有由于紫外线吸收剂本身接触皮肤或被皮肤吸收的安全性而令人担心的问题。另外，还提出在贴剂的支持体中含有紫外线吸收剂的方法(例如，参照专利文献2和3)。还有由具有2层或更多层组成的叠层体作为支持体、且该支持体的至少一层含有紫外线吸收剂的树脂薄膜形成的经皮吸收贴剂(例如，参照专利文献4)。另外，还公开了通过使用有机类紫外线吸收剂和/或无机类紫外线屏蔽剂进行加工而成的单层支持体，来提高药物的光稳定性的贴剂(例如，参照专利文献5)。但是，虽然它们确认有屏蔽通过水银灯和室内光等人工光而照射产生的紫外线的效果，却无法充分抑制在紫外线量较多的季节直射太阳光线时产生的药物本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种贴剂，其包含聚酯类支持体和在该聚酯类支持体的一面上设置的含有非甾体类抗炎药物（ＮＳＡＩＤ）的粘合剂层，其中所述支持体含有以通式（１）所示的羟基苯基苯并三唑衍生物，＊＊＊（１）式中，Ｒ↓［１］和Ｒ↓［２］可以相同或不同 ，是氢或Ｃ↓［１］～Ｃ↓［８］的烷基，Ｘ是卤原子。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2003-5-7 128934/20031.一种贴剂，其包含聚酯类支持体和在该聚酯类支持体的一面上设置的含有非甾体类抗炎药物(NSAID)的粘合剂层，其中所述支持体含有以通式(1)所示的羟基苯基苯并三唑衍生物， 式中，R1和R2可以相同或不同，是氢或C1～C8的烷基，X是卤原子。2.根据权利要求1所述的贴剂，其特征在于，所述支持体进一步含有氧化钛。3.根据权利要求1或2所述的贴剂，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：桥本好明，高田恭宪，鹤田清美，
申请(专利权)人：久光制药株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]