以氧化钛为主成分的薄膜、适于制造以氧化钛为主成分的薄膜的烧结体溅射靶以及以氧化钛为主成分的薄膜的制造方法技术

本发明专利技术涉及一种以氧化钛为主成分的薄膜，其特征在于，包含Ｔｉ、Ａｇ和Ｏ成分，Ｔｉ为２９．６原子％以上且３４．０原子％以下，Ａｇ为０．００３原子％以上且７．４原子％以下，余量由氧构成，氧与金属的比Ｏ／（２Ｔｉ＋０．５Ａｇ）为０．９７以上。本发明专利技术的目的在于得到高折射率、并且具有低消光系数的以氧化钛为主成分的薄膜、适于制造该薄膜的以氧化钛为主成分的烧结体溅射靶以及以氧化钛为主成分的薄膜的制造方法。本发明专利技术的目的还在于得到同时具有优良的透射性、反射率的下降少、可以作为光信息记录介质的干涉膜或保护膜使用的薄膜。另外，也可以应用于玻璃衬底，即可以作为热反射膜、防反射膜、干涉滤光片使用。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及具有高折射率和低消光系数的以氧化钛为主成分的薄膜、适于制造该薄膜的以氧化钛为主成分的烧结体溅射靶以及以氧化钛为主成分的薄膜的制造方法。
技术介绍
近年，开发了不需要磁头就可以重写的高密度光信息记录介质即高密度记录光盘技术，并且迅速地实现了商品化。特别是CD-RW在1977年作为可以重写的CD上市，目前是最普及的相变型光盘。该CD-RW的重写次数为约1000次。另外，作为DVD用而开发了DVD-RW并将其商品化，该光盘的层结构基本上与CD-RW相同或类似。其重写次数为约1000～约10000次。它们是通过照射光束而发生记录材料的透射率、反射率等的光学变化，从而进行信息的记录、复制(再生)、写入(追記)，并且迅速普及的电子部件。一般而言，CD-RW或DVD-RW等使用的相变型光盘具有如下形成的四层结构：用ZnS·SiO2等高熔点电介质保护层夹住Ag-In-Sb-Te基或Ge-Sb-Te基等记录薄膜层的两侧，再设置银或银合金或铝合金反射膜。另外，为了提高重复次数，根据需要在存储层与保护层之间附加界面层等。反射层与保护层除了要求增大记录层的无定形部与结晶部的反射率差的光学功能本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种以氧化钛为主成分的薄膜，其特征在于，包含Ｔｉ、Ａｇ和Ｏ成分，Ｔｉ为２９．６原子％以上且３４．０原子％以下，Ａｇ为０．００３原子％以上且７．４原子％以下，余量由氧构成，氧与金属的比Ｏ／（２Ｔｉ＋０．５Ａｇ）为０．９７以上。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2007-12-18 2007-326485;JP 2008-9-18 2008-2399511.一种以氧化钛为主成分的薄膜，其特征在于，包含Ti、Ag和O成分，Ti为29.6原子％以上且34.0原子％以下，Ag为0.003原子％以上且7.4原子％以下，余量由氧构成，氧与金属的比O/(2Ti+0.5Ag)为0.97以上。2.如权利要求1所述的以氧化钛为主成分的薄膜，其特征在于，氧与Ti的比O/Ti为2以上。3.如权利要求1或2所述的以氧化钛为主成分的薄膜，其特征在于，其在400～410nm的波长范围中的折射率为2.60以上。4.如权利要求1至3中任一项所述的以氧化钛为主成分的薄膜，其特征在于，其在400～410nm的波长范围中的消光系数为0.1以下。5.如权利要求4所述的以氧化钛为主成分的薄膜，其特征在于，其在400～410nm的波长范围中的消光系数为0.03以下。6.如权利要求1至5中任一项所述的以氧化钛为主成分的薄膜，其特征在于，其为用于干涉膜或保护膜的薄膜。7.如权利要求6所述的以氧化钛为主成分的薄膜，其特征在于，其作为光记录介质使用。8.一种适于制造以氧化钛为主成分的薄膜的烧结体溅射靶，其特征在于，包含Ti、Ag和O成分，各成分具有(TiO2-m)1-nAgn的组成比，电阻率为10Ωcm以下，其中0≤m≤0.5，0.0001≤n≤0.2。9.如权利要求8所述的适于制...

【专利技术属性】
技术研发人员：高见英生，矢作政隆，
申请(专利权)人：日矿金属株式会社，
类型：发明
国别省市：JP