卤氧化物光催化材料及其制备方法技术

本发明专利技术涉及卤氧化物光催化材料及其制备方法，属于光催化材料领域。本发明专利技术利用固相或液相法制备卤氧化物光催化材料，其特征在于其化学组成为ＢｉＯＸ，Ｘ＝Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ，［Ｂｉ↓［２］Ｏ↓［２］］与［Ｘ］结构层沿ｃ轴方向交替相互堆积，形成层状晶体构型。制备所得的ＢｉＯＸ（Ｘ＝Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ）均具有优异的光催化性能，可降解有机染料，降解有机有害气体，杀菌和光解水产氢。负载Ａｇ和Ｐｔ等电子亲和力强的纳米金属颗粒，可以大幅度提高材料的光催化性能。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及，属于光催化材料领域，尤其属于染料降解、光解水产氢、有机有害气体降解、杀菌等领域。
技术介绍
自1972年Fujishima和Honda发现在TiO2电极材料表面光响应产氢现象以来，光催化作为解决环境污染和能源危机一种潜在技术引起全世界的关注。在半导体光催化过程中，光照射激发价带中的电子跃迁至导带，即在导带上形成光生电子和价带上形成光生空穴；载流子迁移到粉末颗粒表面后，充分与周围的环境作用，发生复杂的氧化、还原反应。藉于此，利用电子的强还原特性和空穴的氧化作用，能够将水中的H+和OH-分别还原和氧化成H2和O2；另外，迁移到光催化剂表面的电子和空穴还能与环境中的O2、H+、OH-等作用形成·O2-、·OH和HO2-等活性强氧化剂，用于氧化降解和净化液相、气相中的有机污染物。除了潜在的光解水产氢能源用途外，光催化技术在实际解决环境污染问题中已崭露头角。目前，以成本低廉、具有高化学稳定性的TiO2为基材的光催化技术已经在防日晒化妆品、高级轿车金属色面漆和电子工业、复印机行业、高压绝缘材料、集成电路基板、荧光管以及其他更多的领域得到了应用。据介绍，这种光催化技术还可广泛应本文档来自技高网...

【技术保护点】
卤氧化物光催化材料，其特征在于其化学组成为ＢｉＯＸ，Ｘ＝Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉ，［Ｂｉ↓［２］Ｏ↓［２］］与［Ｘ］结构层沿ｃ轴方向交替相互堆积，形成层状晶体构型。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄富强，王文邓，林信平，
申请(专利权)人：中国科学院上海硅酸盐研究所，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]