足底压力分布调整垫制造技术

技术编号:543180 阅读:327 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种足底压力分布调整垫,包括与患者的脚型外轮廓相一致的平板状垫本体,其特征在于:垫本体具有黏性,垫本体表层上可调整地黏附有若干具有黏性的调整块。(*该技术在2011年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:曹学军姜涛
申请(专利权)人:中国康复工程研究所
类型:实用新型
国别省市:

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