密封的室结构制造技术

本发明专利技术公开了用于形成密封的室结构的方法。所述密封的室结构包括被多个分隔壁（１４）隔开的第一（１０）和第二（１２）基底。所述分隔壁在所述第一和第二基底之间限定多个室（１８，１９）。所述基底和分隔壁至少之一在它们上面具有光压纹材料层（１６，２２，３０）。潜在图像被写（１１２）到所述光压纹材料上，和然后所述图像被显影，从而导致在对应于潜在图像的图案的区域（１１４）中光压纹材料的膨胀。光压纹材料的膨胀导致所述室被相互分开地密封。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于制造密封的室结构(sealed cell stmcture)的经改进的 方法。本专利技术可应用于包括多个密封的室的器件，特别地可应用于电泳 显示器。
技术介绍
本专利技术考虑的密封的室结构包括被多个分隔壁隔开的两个基底，所 述分隔壁将所述两个基底之间的体积分成室。这样的密封室结构通常用于形成电泳显示器。通过用包含可移动带 电粒子的电泳流体填充所述室，所述结构的室可以用于形成显示器像多种二同的显示效果:对于电泳显示器;"例子，读者可参考中请二的国际专利申请WO2004/008238。与形成密封的室结构相关的主要问题之 一 是难于确保所述结构的 室之间的充分密封。例如，形成具有被多个分隔壁隔开的第一和第二基 底的密封室结构的一种已知制造方法，包括从所述第一基底开始，然后 在所述第一基底上形成多个分隔壁，和然后将笫二基底布置在所述分隔 壁之上。但是，在实践中在第二基底和一些分隔壁的顶部之间经常留下 不希望的间隙，导致所述室之间不完美的密封。在电泳显示器中，通过 这些间隙可以发生带电粒子从一个室到另 一个室的迁移，而这可以在由 所述室显示的图像中导致非常严重的错误。一种使所述室相互密封分开的已知方法包括在第一基底上形成分 隔壁，和然后用包含电泳流体和密封流体的流体混合物填充由所述分隔 壁限定的室，其中所述密封流体具有比所述电泳流体更低的密度。接着， 将第二基底层布置在所述分隔壁上面，然后固化所述密封流体，所述密 封流体由于其低密度，在第二基底层和所述电泳流体之间形成层，从而 使所述室相互密封分开。这种方法的问题之一是所述电泳流体可能被所述密封流体污染，其 接下来可能造成不希望的影响例如粒子的团聚或丧失电荷，或者所述粒6子不希望的粘结到表面。这些影响可能导致显示器质量的劣化。与该方法相关的另 一 个问题是 一 些电泳粒子可能被截留(trapped)在 密封层内，降低密封层的透明度，并因而降低显示器的亮度。美国专利US 6950226公开的这种方法的变体，其中在使其与电泳 流体接触之前固化部分密封层，从而减少被截留在密封层内的电泳粒子 的数.目。但是，这需要用于使所述层的未固化部分与分隔壁对准的额外 的加工和对准步骤。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的是提供对现有技术方案加以改进的密封的室结构。根据本专利技术的第 一 方面，提供 一 种用于形成密封的室结构的方法， 该密封的室结构包括第一和第二基底和多个分隔壁，所述方法包括-在以下至少之一上形成光压紋材术+(photo-embossing material): -所述第一基底； -所述第二基底；和 -所述多个分隔壁；-通过所述多个分隔壁隔开所述第一和第二基底，从而在所述第一和 第二基底之间限定多个室；-将潜在图像(latent image)写到所述光压紋材料中；和-显影所述潜在图像，导致所述光压紋材料被移位(displaced)从而使 所述室相互密封分开。因此，提供了密封的室结构，其在室之间提供有效的密封度。从而， 密封的室结构通过在密封它们之前用电泳流体填充所述室而可以用于 形成电泳显示器的像素，所述密封足以防止电泳流体的带电粒子在室之 间的显著迁移。此外，所述密封的室结构在密封过程期间并不导致显著数目的带电 粒子被截留，从而最小化显示器亮度的任何降低。有利地，因为所述密封方法包括将光压紋材料移位到需要形成所述 密封的区域，所以所述室的体积(并因而它们中的流体压力)在密封过程 之后可以基本上和密封过程之前相同。这有助于减少在密封过程期间或 之后所述室发生破裂的机会。此外，不再需要密封流体与电泳流体混合，因而在这方面避免了电;永'流体的污染。有利地，写所述潜在图像可包括将光压紋材料的区域暴露于光化光(actinic light),从而限定在潜在图像的显影期间一些光压紋材料应该被移位至此的光压紋材料区域。此外，显影所述潜在图像可包括加热所述光压紋材料，从而提高光压紋材料的粒子的移动性(mobility)并导致所述粒子根据潜在图像的图案进行扩散(移位)。从而，所述粒子扩散到达的光压紋材料区域可以膨胀以使所述室相互密封分开。有利地，所述光压紋材料可以包括聚合物、单体、和光引发剂。可以通过将所述材料的区域暴露于光化光来写所述潜在图像，所述光化光通过光离解所述光引发剂而局部地形成反应性粒子。然后，可以通过加热所述光压紋材料显影所述潜在图像，导致所述单体向着被暴露的光压紋材料区域扩散(移位)，从而膨胀所述暴露区域以使所述室相互密封分开。此外，所述光压紋材料还可以包括热引发剂。所述热引发剂在光压紋材料被加热至高于一定的温度之后可以导致光压紋材料聚合。该聚合可以作为光压紋材料的显影的 一部分实施，以便在光压紋材料已经被移位到足以使所述室相互密封分开的程度之后停止光压紋材料的进一步的移位。这导致完全固化的并因此机械和化学稳定的复合材料。此外，所述光压紋材料还可以包括在反应性粒子的临界浓度之下阻碍(retard)聚合的抑制剂。因此，非故意地暴露于低强度杂散光化光的导致相对低浓度的反应性粒子的光压紋材料区域，可以被抑制不发生聚合。这可以增强在写潜在图像期间被暴露的光压紋材料区域和未被暴露的光压紋材料区域之间的对比度。有利地，可以在第一和第二基底已经被所述分隔壁隔开之后，将潜在图像写到光压紋材料上。因此，所述基底和分隔壁不用必须相对于先前写的潜在图像进行对准来隔开，从而简化用所迷分隔壁隔开基底的步骤。此外，所述室可以用包括用于吸收光化光的粒子的流体进行填充。这些光吸收性粒子可以充当掩模，其至少部分地限定被写到光压紋材料上的潜在图像的图案。因此，相对于所述室结构，所述潜在图像可以有效地是自对准和自图案化的。或者，可以在第一和第二基底被分隔壁隔开之前，将潜在图像写到光压紋材料上。这可以简化写潜在图像的过程，因为可以更容易地到达(access)所述光压紋材料。有利地，通过多个分隔壁隔开所述第一和第二基底的步骤可以包括在第一基底上形成分隔壁和在所述分隔壁上布置第二基底的步骤。这使得可以从第 一基底构建分隔壁，简化基底之间分隔壁的制造和/或设置。有利地，光压紋材料可以作为(基本上均匀的)层形成在第 一和第二基底至少之一上。这具有以下优点在基底上光压紋材料的设置不必相对于分隔壁进行对准。或者，所述光压紋材料可以形成在第一和第二基底至少之一上，在分隔壁和第一和第二基底至少之一之间界面的区域之内。这可以使得在与分隔壁的界面区域之外的基底区域基本上没有光压紋材料，可以改进所述室的透明度，和/或减少由于基底和光压紋层之间的界面而可能产生有利地，所述光压紋材料可以形成在分隔壁上，在分隔壁和第一和第二基底至少之一之间界面的区域之内。这同样可以使得在与分隔壁的界面区域之外的基底区域基本上没有光压紋材料，具有和上面直接列出的那些相同的优点。而且，所述光压紋材料可以设置在分隔壁上和设置在第一和第二基底至少之一上。因此，在基底和分隔壁之间的界面处，在基底和分隔壁上的光压紋材料可以都彼此向着对方进行膨胀并相互发生接触，从而密封所述界面。这可以使得形成更强的密封，因为在这种情况下光压紋材料通过接触其它光压紋材料形成密封，而不是通过接触材料与光压紋材料不同的基底或分隔壁。此外，具有都彼此向着对方进行膨胀的两个光本文档来自技高网...

【技术保护点】
用于形成密封的室结构的方法，该密封的室结构包括第一（１０）和第二（１２）基底和多个分隔壁（１４），所述方法包括：　－在以下至少之一上形成光压纹材料：　－所述第一基底；　－所述第二基底；和　－所述多个分隔壁；　－ 通过所述多个分隔壁隔开所述第一和第二基底，从而在所述第一和第二基底之间限定多个室（１８，１９）；　－将潜在图像写（１１２）到所述光压纹材料中；和　－显影所述潜在图像，导致所述光压纹材料被移位（１１８）从而使所述室相互密封分开。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：MT约翰逊，MHWM范德尔登，DJ布罗尔，
申请(专利权)人：皇家飞利浦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]