公开的是用于将物质递送给工具的系统和方法。物质递送系统利用待被递送给工具的两个或更多个物质的来源。工具的一个或多个来源可以是分批混合机。物质递送系统也包括将物质提供给工具的至少两个物质递送回流线路。这个物质递送系统可以被手动或自动控制以物质的供应从一个来源切换到另一个,或者从一个物质递送回流线路切换到另一个物质递送回流线路。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术是关于用于将化学制品递送给工具的系统和方法,更 具体地i兌,是关于利用化学制品的至少两个源头的化学制品递送 系统和方法。
技术介绍
化学制品递送系统被应用于多个领域中,举例来说,在半导 体制药中,以及化妆品工业中。半导体制造业典型地4吏用化学制 品分配系统将化学制品递送《会加工工具。具体地说,泥浆分配系统递送泥浆用于化学^L械抛光(CMP)。通常,期待向加工工具 提供有精确流体速度的化学制品或泥浆。易受输入压力的变化影 响的流量计常常被用来将泥浆和化学制品提供给工具。化学制品递送系统通常包括双重的化学制品来源乂人而避免 了停才几时间。输入^会加工工具的输入压力的变化可能会发生在当 将化学制品的递送从一个供给源(典型地如搅拌槽)切换到另一 个时。然而,即使是与这样的转换相关的加工参数中的一个很小 的波动也会对化学制品递送的持续性和/或加工或产品的质量带 来严重的破坏。当一个使用中的搅拌槽脱机时,在搅拌槽中还会 有低的或残留的化学制品,这将会在给加工工具的供给线路中导 致压力的下降。另外,在槽中剩余的化学制品通常会在相关的费 用方面表现的很浪费。除了在槽中剩余的化学制品的损失外,还会有很显著的在目前处于离线状态下的加工管道中剩余的化学 制品的死角损失。授权给Forshey等人的美国专利第7,007,822号记载了 一种化 学制品混合和递送系统。在这个专利中,搅拌槽同才羊也是待被递 送给工具的化学制品的主要储槽。 一个或多个緩沖储槽位于主储 槽的下游用于递送给工具。 一个可编程循环控制器控制每个緩沖 储槽中的压力以实现从緩沖储槽中出来的具有期待流速的CMP 泥浆。为了清洁和/或冲洗主J诸槽,在DI水被添加到主^f渚槽中以 及被排放到排放设备时,控制器中断到緩沖储槽的流体。加工工 具决定来自两个緩冲储槽中的哪一个的化学制品泥浆将被汲取。
技术实现思路
本专利技术的一个实施方案是关于一种将物质提供给半导体工 具的方法,包括4吏第 一物质穿过与工具流体连4妄的第 一回流线 路,以及将第一物质的第一部分从第一回流线^各递送给工具。第 一物质也同才羊穿过与工具流体连4妄的第二回流线3各。才艮据另 一 个实施方案,物质递送系统包括与工具流体连4妻的 第一回流线路、与工具流体连接的第二回流线路、与第一回流线 ; 各和工具的第二回流线i 各上游流体连4妄的第 一物质来源、以及与 第 一 回流线i 各和工具的第二回流线3各上游流体连接的第二物质 来源。 一种控制器,其响应第一物质来源的预先确定的物质的量、 第二物质来源的预先确定的物质的量以及第 一 回流线3各和第二 回流线3各中的至少 一个的正在^f吏用的持续时间三者中的至少一 个,该控制器^皮配置用以在第一回流线3各和第二回流线3各中的至 少 一个中提供基本上恒定不变的物质流动。在又一个实施方案中,物质递送系统包4舌与工具流体连4妄的 第一回流线^各、与工具流体连4妄的第二回流线3各、与第一回流线-各和工具的第二回流线;洛上游流体连4妄的第 一物质来源以及与 第 一 回流线路和工具的第二回流线路上游流体连接的第二物质 来源。系统还包括将物质,人第一物质来源和第二物质来源中的至 少 一个递送给第 一 回流线路和第二回流线;洛中至少 一个的装置, 以及清洗第 一 回流线路和第二回流线路中至少 一个的装置。才妄下来,当与附图结合在一起详细描述本专利技术时,本专利技术其 它的优点、新颖的特征以及目标将会变得非常的明显。附图说明附图并不是依比例^^制的。在附图中,在不同的附图中示出 的每个相同的或基本相同的部件都以相同的凄t字所标识。为了清 楚说明的目的,并不是每个部件都列举在每个附图中,也不是发 明的每个实施方案的每个部件都一皮示出,其中所示的没有必要让那些本领域的4支术人员去理解本专利技术。在附图中附图1是示出根据本专利技术的一个实施方案的系统的示意图。 附图2是示出根据本专利技术的另一个实施方案的系统的示意图。具体实施例方式本专利技术在其应用中并没有将其限定到在下面的描述和附图 中所示出的部件的结构和安排的细节上。本专利技术能够有其它的实 施方案且能够以各种不同的方式来实现。还有,本文中所^使用的 4普辞和术语也只是出于解释说明的目的,而不应当祐J人为是一种 限制。所使用的词语"包括"、"由......组成"或"具有"、"含有"、7"包含,,以及它们的各种变形,是表示包括在其后所列举的各个 项目、它们的等<介物以及附力口的项目。依照一个或多个实施方案,本专利技术是关于一个或多个将物质 提供给工具的系统和方法。在此所使用的术语"物质"包括任何 液体,比如溶剂,气体、化学制品、泥浆。在此所使用的术语"工 具"^皮表示为〗吏用物质的一点,包括U旦不限于)单独的单元或 一系列单元。举例来说,工具可以包括一个或多个半导体制造线 ^各。在此所描述的系统和方法可以净皮应用,举例来i兌,在^艮广泛 的各种不同的工业应用中连续不断地递送物质,所述的工业应用 包括化妆品产业、制药业和半导体工业,以及其它需要持续不断 和/或4青确;也供应物质的工业。本专利技术的实施方案通常是利用待被提供的物质的两个或更 多个来源向工具提供物质/人而缩短或消除工具的4f^几时间。物质 可以从任何来源中被提供,只要其适合于所期待的应用即可,比 如容器。任何容器都可以被使用,比如任何尺寸和形状的储备容 器和/或分批混合容器。所述的两个或更多的物质来源可以是相同 的,^旦不是必须是相同的。在一个实施方案中,物质可以乂人纟觉4半 槽中被提供,所述的这个搅拌槽具有至少一个入口和出口以及一个槽回流线^各。对4觉4半冲曹应用的实施例在美国专利第6,109,778 号和第6,536,468号中有具体的描述,这些在此被并入本文作为 参考。在一个实施方案中,^是供一种装置以将^f吏物质乂人两个或更多 个来源穿过一个或多个供给线^各并且在两个或更多的来源中对 物质的递送进行切换。举例来说, 一个岐管和/或一个或多个阀门 可以#皮适当地定位以将物质乂人槽中转移到工具供给线i 各中。在一 个实施方案中, 一个或多个阀门可以被布置在槽回流线^各上/人而 将物质从槽中转移到工具上,和/或当槽中的物质低于预先确定的水平时或槽将被清洁或需要其它维护时,将槽与工具隔绝。阀门 在第 一槽和第二槽之间进行切换的操作是不需要按顺序的。也就 是说,除了第二槽刚刚被连到线路上之外,第一低水平的槽可以 继续排放以对工具供给线路进行供给。当物质的第二更低水平出 现在第一槽中时,或者第一槽为空时,第一槽随后与工具供给线 ^各隔绝。在一些实施方案中,在各个槽之间的切才灸可以以断续的 或周期性的间隔每周、每日或者每小时发生一次。一个或多个阀门可以^皮手动或自动控制以响应一个或多个 传感器。在一个实施方案中,作为一个例子,所述的阀门可以自 动对来自传感器的信号做出响应,所述的传感器才企测存在于槽中 物质的水平、压力、流动速度或物质的其它特性。这个信号可以 是任何合适的信号,比如,气动信号、机械信号、电信号等等。 传感器可以用于特定的目的而^皮布置在任何合适的位置上,比 如,在含有物质的容器中和/或位于包括物质供给线路的任何加工 线;洛中。传感器可以是用于预期应用的任爿f可适当的传感器。举本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种将物质提供给半导体工具的方法,该方法包括: 使第一物质穿过与工具流体连接的第一回流线路; 将第一物质的第一部分从第一回流线路中递送给工具;以及 使第一物质穿过与工具流体连接的第二回流线路。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:大卫凯迪耶利,托德格雷夫斯,杨瑞龙,
申请(专利权)人:迅捷公司,
类型:发明
国别省市:US[美国]
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