无碱玻璃基板及其制造方法以及液晶显示面板技术

本发明专利技术提供杨氏模量高，线膨胀系数低，应变点高，密度低，粘度低，在浮法成形中不发生失透，耐酸性优良的无碱玻璃基板。该无碱玻璃基板以下述氧化物为基准且以摩尔％表示，实质上不含碱成分及ＢａＯ，各成分的含有率为ＳｉＯ↓［２］：５７．０～６５．０％、Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］：１０．０～１２．０％、Ｂ↓［２］Ｏ↓［３］：６．０～９．０％、ＭｇＯ：５．０～１０．０％、ＣａＯ：５．０～１０．０％、ＳｒＯ：２．５～５．５％，且满足ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ：１６．０～１９．０％、ＭｇＯ／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ）≥０．４０、Ｂ↓［２］Ｏ↓［３］／（ＳｉＯ↓［２］＋Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］＋Ｂ↓［２］Ｏ↓［３］）≤０．１２，杨氏模量≥７５ＧＰａ，５０～３５０℃的线膨胀系数：３０×１０↑［－７］～４０×１０↑［－７］／℃，应变点≥６４０℃，粘度η满足ｌｏｇη＝２的温度Ｔ↓［２］≤１６２０℃，粘度η满足ｌｏｇ　η＝４的温度Ｔ↓［４］≤１２４５℃，失透温度≤Ｔ↓［４］，在９０℃、０．１Ｎ的ＨＣｌ中浸渍２０小时后的单位面积的质量减少量为０．６ｍｇ／ｃｍ↑［２］以下。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及无碱玻璃基板及其制造方法以及液晶显示面板。
技术介绍
一直以来，各种显示器用玻璃基板，特别是在表面形成金属或氧化物 薄膜等的液晶显示器用玻璃基板要求以下特性。(1) 由于如果含有碱金属氧化物，则碱金属离子会扩散至薄膜中，使膜 特性劣化，因此要求实质上不含碱金属离子(为无碱玻璃)。(2) 薄膜形成工序中玻璃被暴露在高温下，为了将此时的玻璃的形变及 伴随玻璃结构稳定化的收缩(热收縮)抑制至最低限度，要求具有较高的应 变点。(3) 对半导体形成中使用的各种化学药品具有足够的化学耐久性。特别 是对SiOx或SiNx的刻蚀中使用的缓冲氢氟酸(氢氟酸+氟化铵；BHF)、 ITO(掺 杂有锡的铟氧化物)的刻蚀中使用的含有盐酸的药液、金属电极的刻蚀中使 用的各种酸(硝酸、硫酸等)或碱性抗蚀层剥离液具有耐久性。(4) 内部及表面没有缺陷(气泡、波筋、夹杂物、凹坑、损伤等)。 此外，近年来，随着显示器的大型化等，除上述特性外又进一步要求下述特性。(5) 要求显示器的轻量化，希望玻璃本身也是密度也较小的玻璃。(6) 作为显示器的轻量化的方法，希望玻璃基板的薄板化。(7) 为了在液晶显示器本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种无碱玻璃基板，其特征在于，　以下述氧化物为基准且以摩尔％表示时，实质上不含碱金属成分及ＢａＯ，　各成分的含有率为　ＳｉＯ↓［２］：５７．０～６５．０％、　Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］：１０．０～１２．０％、　Ｂ↓ ［２］Ｏ↓［３］：６．０～９．０％、　ＭｇＯ：５．　０～１０．０％、　ＣａＯ：５．　０～１０．０％、　ＳｒＯ：２．　５～５．５％，　且满足　ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ：１６．０～１９．０％、　ＭｇＯ／（ＭｇＯ ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ）≥０．４０、　Ｂ↓［２］Ｏ↓［３］／...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：前原辉敬，西沢学，加濑凖一郎，松本修治，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]