金属基底原位生成微坑/亚微坑/纳米坑载药支架制造技术

本实用新型专利技术涉及一种金属基底原位生成微坑／亚微坑／纳米坑载药支架，其特征在于：ａ）金属基底原位生成载药坑（１）的几何形状为：当坑直径在微米和亚微米级时采用球冠型；当坑直径在纳米级时为深井型或者在可控制范围内的较小尺寸的不规则形状，ｂ）金属基底原位生成载药坑（１）的排布有阵列式或随机分布式，ｃ）金属基底原位生成载药坑（１）为大小统一和均匀分布的，或为大小在一个数量级范围内随机分布的，ｄ）载药坑（１）原位生成的位置为仅在外表面的、或外表面和侧面的、或内外表面和侧面的。上述不同设计为采用与局部载药坑相匹配的药囊制备、确保药囊牢固坐落在载药位置并设计载药支架被植入体内的药物有效可控释放和载药材料的降解吸收提供条件。（*该技术在2016年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种金属基底原位生成微坑／亚微坑／纳米坑载药支架，其特征在于：　　　　ａ）金属基底原位生成载药坑（１）的几何形状为：当坑直径在微米和亚微米级时采用球冠型；当坑直径在纳米级时为深井型或者在可控制范围内的不规则形状，　　　　ｂ）金属基底原位生成载药坑（１）的排布有阵列式的、或大小在一个数量级范围内随机分布式的、或大小统一和均匀分布的，　　　　ｃ）载药坑（１）原位生成的位置为仅在外表面的、或外表面和侧面的、或内外表面和侧面的。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈庆福，马新欣，郑玉峰，孙克庆，王利明，刘礼华，
申请(专利权)人：江阴法尔胜佩尔新材料科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：32[中国|江苏]