【技术实现步骤摘要】
本技术涉及光源装置，尤其涉及一种原位分析专用光源装置。
技术介绍
光化学反应是现今实验研究中一种较常见的反应类型。原位分析技术是过程分析中常用的一种分析手段，在化学工业过程中，扮演了极其重要的角色。利用原位分析技术研究光化学反应，可以了解到光化学反应过程中特定时间时物质的成分、含量等重要信息。原位分析技术用到的反应装置在外观和尺寸上十分特殊，传统光源装置难以满足其研究需要，无法较好地匹配原位分析装置的尺寸，亦无法提供充足的光强。
技术实现思路
本技术主要是为了解决原位分析中的光源问题，针对原位分析旧装置的光源分散问题，我们对实验装置进行了改进，提供了一种分析专用光源装置。本技术的技术方案如下：一种原位分析专用光源装置，包括基底板（1）和相对的位于基底板（1）两侧的挡板⑵；所述基底板（1）上设置有与原位分析反应管大小匹配的凹槽⑶，所述挡板（2）内测和凹槽（3）内均设置有光源（4）；所述挡板⑵外壁上设置有为百叶窗型散热片（5）。所述原位分析专用光源装置还包括变压器⑹，所述光源（4）通过电线与变压器（6）连接。所述光源（4）为圆型灯组LED灯。本技术将原本单一照射、光照分散的光源，分拆放置在两侧边和底部，光照更集中，单位面积光强更大。同时基底设计有可以与原位分析反应器嵌合的凹槽，可达到稳定反应，充分利用底部光源的效果。在两边还加设有百叶型挡板，增大散热面积，防止光线逸出，避免两台反应装置相互之间的影响。本技术原位分析光源装置，基部凹槽可与原位分析反应管嵌合，放置原位分析反应管后，接通电源，即可。本装置操作简便，光强集中，利于光反应发生。本装置的光源可拆卸更换，可同时使...
【技术保护点】
一种原位分析专用光源装置，其特征在于：包括基底板(1)和相对的位于基底板(1)两侧的挡板⑵；所述基底板(1)上设置有凹槽⑶，所述挡板(2)内测和凹槽(3)内均设置有光源(4)；所述挡板⑵外壁上设置有为百叶窗型散热片(5)。
【技术特征摘要】
1.一种原位分析专用光源装置，其特征在于：包括基底板(1)和相对的位于基底板(1)两侧的挡板⑵；所述基底板(1)上设置有凹槽⑶，所述挡板(2)内测和凹槽(3)内均设置有光源(4)；所述挡板⑵外壁上设置有为百叶窗型散热片(5)。...
【专利技术属性】
技术研发人员：雷爱文，张凡，刘天艺，周久富，李艺颖，步发祥，豆柏文，汪珏，
申请(专利权)人：武汉大学，
类型：新型
国别省市：湖北;42
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