金属膜制造方法、底层组合物、金属膜及其用途技术

本发明专利技术提供一种金属膜制造方法，该方法包括：有机膜形成步骤：将含有具有３个以上反应基团的加成聚合性化合物、具有酸性基团的加成聚合性化合物、和具有亲水性官能团的加成聚合化合物的底层组合物涂布于基板或膜上，并进行聚合，形成有机膜；金属盐生成步骤：用含有金属（Ｍ１）离子的水溶液对所述有机膜进行处理，将所述酸性基团转化为金属（Ｍ１）盐；金属固定步骤：用金属（Ｍ２）离子水溶液对上述用含有金属（Ｍ１）离子的水溶液处理过的有机膜进行处理，将所述酸性基团的金属（Ｍ１）盐转化为金属（Ｍ２）盐，其中，所述金属（Ｍ２）离子水溶液含有离子化倾向比所述金属（Ｍ１）离子低的金属（Ｍ２）离子；和，还原步骤：对所述金属（Ｍ２）离子进行还原，在所述有机膜表面形成金属膜。由此，可以高效地制造金属膜，特别是金膜。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及金属膜制造方法、底层组合物、金属膜及其用途，特别是涉及下述金属膜制造方法、该方法中使用的底层组合物、采用该方法制造的金属膜及其用途，所述方法无需使用通常在非电解镀中必需的催化剂，即可廉价地直接在树脂膜上形成膜厚数十nm 数百nm的金属膜。
技术介绍
传统上，作为金属膜制造方法，已知有例如称为干法的蒸镀法、溅射法、离子镀法，称为湿法的电镀、化学镀等。然而，采用千法，则需要昂贵的设备；采用湿法，则难以形成厚度数十nm 数百nm左右的金属膜。因而，报导了下述技术在通过对聚酰亚胺树脂进行改性形成阳离子交换基团后，将金属离子固定于阳离子交换基团，对其进行还原，从而形成金属膜(专利文献1)。专利文献1:日本专利公开公报"特开2001-73159号公报(平成l3年3月21日公开)"
技术实现思路
如果能够在任意基板上充分地形成金膜，则可以获得导电性良好的基板，其在电子部件、传感器等方面的应用性高，因而非常有价值。然而，到目前为止，还没有找到制作这样的基板的技术。例如，在专利文献1所述的方法中，通过对聚酰亚胺树脂进行改性形成阳离子交换基团，将金属离子固定于该阳离子交换基团；但是，阳离子交本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种金属膜制造方法，该方法包括：　有机膜形成步骤：将包含具有３个以上反应基团的加成聚合性化合物、具有酸性基团的加成聚合性化合物、和具有亲水性官能团的加成聚合化合物的底层组合物涂布于基板或膜上，并进行聚合，形成有机膜；　金属盐生成步骤：用含有金属（Ｍ１）离子的水溶液对所述有机膜进行处理，将所述酸性基团转化为金属（Ｍ１）盐；　金属固定步骤：用金属（Ｍ２）离子水溶液对经上述含有金属（Ｍ１）离子的水溶液处理过的有机膜进行处理，将所述酸性基团的金属（Ｍ１）盐转化为金属（Ｍ２）盐，所述金属（Ｍ２）离子水溶液含有离子化倾向比所述金属（Ｍ１）离子低的金属（Ｍ２）离子；和　还原步骤：对所述金属（Ｍ２）离子进行还...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：森哲也，中岛诚二，
申请(专利权)人：欧姆龙株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[]