第3a族油墨及其制备和使用方法技术

技术编号:5357947 阅读:193 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种第3a族油墨,其包含以下物质作为初始组分:多胺溶剂;第3a族材料/有机络合物;以及还原剂;其中所述还原剂的摩尔浓度超过所述第3a族材料/有机络合物的摩尔浓度;所述第3a族油墨是稳定的分散体,第3a族油墨是不含肼且不含肼鎓的。还提供了制备第3a族油墨的方法,以及使用所述第3a族油墨在用于很多种半导体应用的基材上沉积第3a族材料的方法,例如VLSI技术中的硅装置的金属化、半导体III-V合金的生长、薄膜晶体管(TFT)、发光二极管(LED);和红外检测器。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种第3a族油墨,其包含以下组分作为起始组分多胺溶剂;第3a族 材料/有机络合物;以及还原剂;其中所述还原剂的摩尔浓度超过所述第3a族材料/有机 络合物的摩尔浓度;所述第3a族油墨是稳定的分散体,第3a族油墨是不含胼且不含胼鐺 的。本专利技术还涉及用来制备第3a族油墨的方法,以及使用所述第3a族油墨在基材上沉积 0价态的第3a族金属的方法。
技术介绍
对于很多种半导体应用,例如VLSI技术中的硅装置的金属化、半导体III-V合金 的生长、薄膜晶体管(TFT)、发光二极管(LED);和红外检测器来说,在基材上沉积第3a族金 属是很重要的。在半导体制造领域中,对于目前和未来的技术来说,第3a族材料(特别是铟)被 认为是很重要的。例如,随着越来越多地将铜用于在集成电路中形成导电传输线路的优选 材料,人们对铜-第3a族材料(例如Cu/In)合金很感兴趣,可以用来改进铜基互连结构的 长期性能,抗电迁移性和可靠性。具体来说,人们预期含铟的III-V半导体材料在电子和光 电子器件的发展中会起到越来越重要的作用。Jones在美国专利第5,863,836号中描述了一种在基材上沉积第3a族金属(即铝 或铟)的方法。Jones揭示了一种在基材上沉积铝或铟膜的方法,该方法包括以下步骤使 得基材与铝或铟前体接触,对前体进行处理,使得前体分解,留下沉积在基材上的铝或铟, 所述前体是铝或铟的三叔丁基化合物。Mitzi等人在“使用高移动性旋涂硫属化物半导体的低压晶体管(Low-Voltage Transistor Employing a High—Mobility Spin-Coated Chalcogenide Semiconductor),,, Advanced Materials第17卷,第U85-89页(2005)中描述了一种沉积硒化铟的方法。 Mitzi等人揭示了使用胼鐺前体材料沉积硒化铟,用来形成薄膜晶体管的硒化铟通道。Mitzi等人揭示的胼鐺前体材料从生产步骤中除去了胼,用来制备包含硒的半 导体膜。需要注意的是,Mitzi等人并未消除对胼的需求。相反地,Mitzi等人在制备 胼鐺前体材料的时候仍然使用胼。另外,根据Eckart W.khmidt在其著作“胼及其衍生 物制备、性质禾口应用(Hydrazine and Its Derivatives Preparation, Properties, and Applications) "John Wiley&Sons第392-401页(1984)中的记载,胼鐺离子前体仍然存在 很大的爆炸危险。由于存在大量的金属离子,进一步加剧了胼鐺爆炸或爆燃的风险。还可 能存在以下问题在制造过程中,残留的胼鐺盐可能会在工艺设备中累积,带来令人无法接 受的安全风险。因此,人们仍然需要一种新的第3a族油墨制剂,设计用来促进在基材上沉积第3a 族金属,所述制剂优选是不含胼且不含胼鐺的。
技术实现思路
在本专利技术的一个方面,提供一种第3a族油墨,其包含以下物质作为初始组分多 胺溶剂;第3a族材料/有机络合物;以及还原剂;其中所述还原剂的摩尔浓度超过所述第 3a族材料/有机络合物的摩尔浓度;所述第3a族油墨是稳定的分散体,第3a族油墨是不 含胼且不含胼鐺的。在本专利技术的另一个方面,提供一种用来制备第3a族油墨的方法,其包括提供第 3a族材料/有机络合物;提供还原剂;提供多胺溶剂;将所述第3a族材料/有机络合物,还 原剂和多胺溶剂混合起来,以制备第3a族油墨;所提供的还原剂的摩尔量相对于所述第3a 族材料/有机络合物是过量的;其中所述第3a族油墨是稳定的分散体;所述第3a族油墨是 不含胼且不含胼鐺的。在本专利技术的另一个方面,提供一种通过所述包括以下步骤的方法制备的第3a族 油墨提供第3a族材料/有机络合物;提供还原剂;提供多胺溶剂;将所述第3a族材料/ 有机络合物,还原剂和多胺溶剂混合起来,以制备第3a族油墨;所提供的还原剂的摩尔量 相对于所述第3a族材料/有机络合物是过量的;其中所述第3a族油墨是稳定的分散体;所 述第3a族油墨是不含胼且不含胼鐺的。在本专利技术的另一个方面,提供一种用来在基材上提供第3a族金属的方法,其包 括提供基材;提供本专利技术的第3a族油墨;将所述第3a族油墨施涂于基材,在基材上形成 第3a族前体;对所述第3a族前体进行处理,在基材上提供第3a族金属。在本专利技术的另一个方面,提供一种用来制备第la-lb-3a-6a族材料的方法,其包 括提供一种基材;任选地,提供包含钠的第Ia族来源;提供第Ib族来源;提供第本专利技术 的第3a族油墨;任选地,提供第6a族硫来源;任选地提供第6a族硒来源;通过以下方式, 在基材上提供至少一种第la-lb-3a-6a族前体材料任选地使用第Ia族来源在基材上施 涂钠材料,使用第Ib族来源在基材上施涂第Ib族材料,使用第3a族来源在基材上施涂第 3a族材料,任选地使用补充的第3a族来源在基材上施涂另外的第3a族材料,任选地使用 第6a族硫来源在基材上施涂硫材料以及使用第6a族硒来源在基材上施涂硒材料,从而形 成第la-lb-3a-6a族前体材料;对前体材料进行处理,形成化学式为NaAJJnd-ri^^e,的 第la-lb-3a-6a族材料;其中X是选自铜和银的至少一种第Ib族元素;Y是第3a族材料; 所述第3a族材料选自镓、铟和铝;其中0彡L彡0. 75 ;0. 25彡m彡1.5 ;0彡η < 1 ;0彡ρ < 2. 5 ;0 < q < 2. 5 ;且 1. 8 < (p+q) ( 2. 5。专利技术详述在本文中和所附权利要求书中,当称第3a族油墨是"稳定的"时候,表示在氮气 中、22°C下储存至少30分钟的时间内,通过在多胺溶剂中合并第3a族材料/有机络合物和 还原剂形成的产物不会形成沉淀。在本文中和所附权利要求书中,当称第3a族油墨是"储存稳定的"时候,表示在 氮气中、22°C下储存至少16小时的时间内,通过在多胺溶剂中合并第3a族材料/有机络合 物和还原剂形成的产物不会形成沉淀。在本文中和所附权利要求书中,当称第3a族油墨是"长期稳定的"时候,表示在 氮气中、22°C下储存至少5天的时间内,通过在多胺溶剂中合并第3a族材料/有机络合物 和还原剂形成的产物不会形成沉淀。在本文和所附权利要求书中,当称第3a族油墨"不含胼"的时候,表示第3a族油 墨中的胼含量< lOOppm。在本文中和所附权利要求书中,当称第3a族油墨"不含胼鐺或不含(N2H5) + "的 时候,表示第3a族油墨中的与第3a族金属络合的胼鐺含量< lOOppm。本专利技术涉及第3a族油墨,第3a族油墨的制备,以及所述第3a族油墨在含第3a族 金属的半导体器件制造中的应用;例如,在VLSI技术中的硅器件的第3a族金属化,半导体 III-V合金的生长,薄膜晶体管(TFT)的制备,发光二极管(LED)的制备;以及红外检测器 的制备。以下详细描述着重描述本专利技术的第3a族油墨用于制造CIGS材料的应用,所述CIGS 材料设计用于光伏电池。注意,通过阅读本专利技术,可以显而易见地想到本专利技术的第3a族油 墨的其它应用。本专利技术的第3a族油墨包含以下组分作为初始本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种第3a族油墨,其包含以下物质作为初始组分:多胺溶剂;第3a族材料/有机络合物;和还原剂;其中所述还原剂的摩尔浓度大于所述第3a族材料/有机络合物的摩尔浓度;其中所述第3a族油墨是稳定的分散体,所述第3a族油墨不含肼且不含肼鎓。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:K卡尔扎D莫斯利
申请(专利权)人:罗门哈斯电子材料有限公司
类型:发明
国别省市:US[]

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