离子液体氯化铟／氯化正丁基吡啶体系电镀液制造技术

离子液体氯化铟／氯化正丁基吡啶体系电镀液（ｇ.ｋｇ－１），由以下组成：无水氯化铟ＩｎＣｌ３：４１０～５８０，氯化正丁基吡啶（ＢＰＣ）：３１０～４８０，金属铟（Ｉｎ）：２０～４０，乙二醇：４０～８０，明胶：１～３，氯化钠（ＮａＣｌ）：１０～３０。大多数能在水溶液中电沉积得到的金属，同样也能在离子液体中电沉积获得。离子液体的特性使其具备如下优势：一是由于其电化学窗口较宽，电沉积过程中副反应较少，因此得到的金属质量更高；二是离子液体的操作温度范围相对较宽，有利于研究电沉积工艺的影响。制备稀散金属离子液体氯化铟／氯化正丁基吡啶体系电镀液，以及研究稀散金属及其合金在离子液体中的电沉积为化学和化学工业的可持续发展提供了新的发展方向。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
离子液体氯化铟／氯化正丁基吡啶体系电镀液，其特征在于：离子液体氯化铟／氯化正丁基吡啶体系电镀液的配方如下：　　无水氯化铟ＩｎＣｌ↓［３］：４１０～５８０ｇ.ｋｇ↑［－１］　　氯化正丁基吡啶：３１０～４８０ｇ.ｋｇ↑［－１］　　金属铟：２０～４０ｇ.ｋｇ↑［－１］　　乙二醇：４０～８０ｇ.ｋｇ↑［－１］　　明胶：１～３ｇ.ｋｇ↑［－１］］　　氯化钠：１０～３０ｇ.ｋｇ↑［－１］。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：田鹏，张辉，张长生，史振彦，张苗壹，魏来，杨子千，张晓楠，
申请(专利权)人：沈阳师范大学，
类型：发明
国别省市：89[中国|沈阳]