一种抛晶砖的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种抛晶砖的制备方法，包括在经高温烧制好的印花砖面上堆积低温熔块和高温熔块的混合物，然后烧成、抛光。通过本发明专利技术制备工艺制得的抛晶砖，具有较高的高温粘度和稳定的玻璃网络结构，使得熔块在烧成后具有一定的高度，保证了其具有立体感和艺术感，由于高温熔块的骨架作用，利于气泡的排出，得到的釉层中的气泡少，透明度高，釉面质量好。通过调节低温熔块和高温熔块的配比，可适用于不同的烧成温度，方便灵活，可以适用于不同的产品。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。技术背景抛晶砖晶莹剔透，立体感强，它的使用丰富了仿古砖的装饰手法，有力地提升提了 产品的档次。透明度、光泽度是抛晶熔块的重要指标。抛晶砖质量的好坏，直接取决于透明 釉层的质量。透明度高、气泡少的透明釉层，抛光后得到的抛晶砖的装饰效果也更好。抛晶砖的制备是在砖坯施底釉、面釉、印花釉后，经1180 1200°C第一次烧成，然 后在砖坯表面布熔块干粒，一般控制厚度在3mm左右，在低温下950 1150°C左右入窑烧 制，经60 180分钟烧成后，再进行抛光。由于熔块的堆积厚度较大，导致熔块熔融后，排气困难，因而釉层中存在大量的气 泡，严重的影响了产品的透明性，而且由于釉层中存在气泡，抛光后产生大量的气孔，很容 易造成吸污，严重的影响了美观和使用。目前市场上普遍是采用单一熔块，导致熔融温度较 窄，适应性差，而且排气效果差，釉面气泡较多。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供。本专利技术所采取的技术方案是，包括在经高温烧制好的印花砖面上堆积低温熔块和高温熔块 的混合物，然后经低温二次烧成、抛光得到产品。优选的，低温熔块的组成为=Al2O3 5 7份、SiO2 62 68份、CaO 2 6份、MgO 0 2份、K2O 3 6份、Nei2O 2 5份、化03 9 16份、BaO 3 7份，所述份数为质量份。高温熔块的组成为=Al2O3 6 11份、SiR 54 64份、CaO 4 10份、K2O 1 4 份、Nei2O 1 3份、B2O3 3 8份、MgO 2份、SiO 4 10份，BaO 3 7份，所述份数 为质量份。优选的，熔块的粒度为20 200目。优选的，低温熔块和高温熔块的质量混合比为100 10 40。通过本专利技术制备工艺制得的抛晶砖，即具有有较高的高温粘度和稳定的玻璃网络 结构，使得熔块在烧成后具有一定的高度，保证了其具有立体感和艺术感，由于高温熔块的 骨架作用，使气泡尽量多的排出，得到的釉层中的气泡少，透明度高，釉面质量好。通过调 节低温熔块和高温熔块的配比，可适用于不同的烧成温度，方便灵活，可以适用于不同的产PΡΠ O具体实施方式，包括在经高温烧制好的印花砖面上堆积低温熔块和高温 熔块的混合物，然后经低温二次烧成、抛光得到产品。优选的，低温熔块的组成为=Al2O3 5 7份、SiO2 62 68份、CaO 2 6份、MgO 0 2份、K2O 3 6份、Nei2O 2 5份、化03 9 16份、BaO 3 7份，所述份数为质量份， 其熔融温度在950 1050°C之间。优选的，高温熔块的组成为=Al2O3 6 11份、SW2 54 64份、CaO 4 10份、K2O 1 4份、Nei2O 1 3份、化03 3 8份、MgO 2份、ZnO 4 10份、BaO 3 7份，其熔 融温度在1000 1150°C之间。通过配合使用这种特定的低温熔块、高温熔块，可以获得更好的效果。优选的，熔块的粒度为20 200目。使用这一粒度范围内的熔块干粒，可以更好 的排出釉层中的气泡，进一步提升产品的质量。优选的，低温熔块和高温熔块的质量混合比为100 10 40。低温熔块和高温熔块的定义是相对的，对本领域的技术人员而言，只要两种熔块 的始融温度相差在50°C以上，则始融温度高的熔块可被称为高温熔块，另外一种可被称为 低温熔块。本专利技术采用低温熔块和高温熔块搭配，巧妙利用低温熔块粘度小、气泡易于排出； 高温熔块粘度大，软化温度高的特点。在熔块熔融的过程中，低温熔块先开始熔融，高温熔 块作为骨架支撑，使气泡可以顺利地通过高温熔块间的空隙优选排出，防止釉面过早熔融 导致气泡难以完全排出。采用高低温两种熔块配合，既可以方便的调整其熔融温度适应不 同的窑炉温度，又利于釉层排气，釉层中的气泡少。本专利技术中的熔块，是通过常规方法制备得到的，其原料为本领域技术人员所熟知 的钾长石、钠长石、白云石、方解石、硅灰石、石英、硼砂、碳酸钡、硝酸钾、氧化锌等。下面结合具体实施方式，进一步说明本专利技术。实施例1将20 200目的低温熔块和高温熔块按100 10的比例混合，堆积在经高温烧制好的 印花砖面上，堆积厚度为4mm，950°C烧成，抛光。其中，低温熔块的组成为=Al2O3 5份、SiO2 62份、CaO 2份、K2O 6份、Nei2O 3份、BaO 3份、化03 15份；高温熔块的组成为=Al2O3 6 份、SiO2 64 份、CaO 8 份、K2O 4 份、Nei2O 2 份、化03 4 份、SiO 4 份、BaO 3 份。实施例2将20 120目的低温熔块和高温熔块按100 40的比例混合，堆积在经高温烧制好的 印花砖面，堆积厚度为3. 5mm，1000°C烧成，抛光。其中，低温熔块的组成为=Al2O3 6份、SW2 68份、CaO 4份、MgO 1份、K2O 5份、Na2O 4份、BaO 5份、B2O3 10份；高温熔块的组成为 Al2O3 9 份、SiA 54 份、CaO 6 份、K2O 3 份、Nei2O 3 份、化03 3 份、MgO 2 份、ZnO 8 份、BaO 7份。实施例3将60 200目的低温熔块和高温熔块按100 30的比例混合，堆积在经高温烧制好的 印花砖面上，堆积厚度为4mm，1050°C烧成，抛光。其中，低温熔块的组成为Al2O3 7份、 SiO2 65份、CaO 6份、MgO 2份、K2O 4份、Na2O 5份、BaO 4份、化03 9份；高温熔块的 组成为=Al2O3 9 份、SiO2 62 份、CaO 4 份、K2O 3 份、Nei2O 1 份、化03 6 份、MgO 1 份、ZnO 10 份、BaO 4份。实施例4将20 120目的低温熔块和高温熔块按100 20的比例混合，堆积在经高温烧制好的 印花砖面上，堆积厚度为3.5mm，1050°C烧成，抛光。其中，低温熔块的组成为Al2O3 6份、 SiO2 63份、CaO 3份、K2O 3份、Nei2O 3份、BaO 7份、化03 16份；高温熔块的组成为=Al2O3 8 份、SiO2 60 份、CaO 5 份、K2O 1 份、Na2O 3 份、B2O3 5 份、MgO 2 份、ZnO 7 份、BaO 5 份。实施例5将20 120目的低温熔块和高温熔块按100 20的比例混合，堆积在经高温烧制好的 印花砖面上，堆积厚度为4mm，1050 °C烧成，抛光。其中，低温熔块的组成为=Al2O3 5份、 SiO2 65份、CaO 4份、MgO 2份、K2O 3份、Nei2O 2份、BaO 5份、化03 16份；高温熔块的组 成为Al2O3 11 份、SiO2 58 份、CaO 10 份、K2O 1 份、Nei2O 2 份、化03 8 份、MgO 2 份、ZnO 6 份、、BaO 3 份。经检测，实施例1 5的抛晶砖，抛光后的抛晶砖中没有肉眼可见的气泡，釉面的 透明度高，均一性好，产品优良。权利要求1.，包括在经高温烧制好的印花砖面上堆积低温熔块和高温熔 块的混合物，然后经低温二次烧成、抛光得到产品。2.根据权利要求1所述的抛晶砖的制备方法，其特征在于低温熔块的组成为=Al2O3 5 7份、SiA 62 68份、CaO 2 6份、MgO 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抛晶砖的制备方法，包括在经高温烧制好的印花砖面上堆积低温熔块和高温熔块的混合物，然后经低温二次烧成、抛光得到产品。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：韦斐，徐忠平，高强，张翼，
申请(专利权)人：广东道氏标准制釉股份有限公司，
类型：发明
国别省市：44[中国|广东]