LED砷化镓衬底基片去蜡清洗剂制造技术

技术编号:5246683 阅读:460 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供了一种LED砷化镓衬底基片去蜡清洗剂,按照重量百分比包括下列组成部分:有机溶剂5%~10%,有机碱2%~5%,表面活性剂5%~10%,无机盐5~20%和余量的去离子水,其中,所说的有机溶剂为烷烃、环烷烃或芳香烃溶剂;所说的有机碱为多羟多胺、胺碱、羟胺或醇胺,所说的表面活性剂为脂肪醇聚氧乙烯醚、多元醇酯和高分子及元素有机化合物中的一种或多种,所说的无机盐是碱性盐。本发明专利技术的LED砷化镓衬底基片去蜡清洗剂,能替代卤代烃溶剂,既能达到卤代烃溶剂的清洗效果,除蜡效果明显,又对砷化镓衬底基片无影响,而且制备工艺简单,满足环保要求。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:李家荣刘锡林李鹏
申请(专利权)人:南通海迅天恒纳米科技有限公司
类型:发明
国别省市:32

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