雾面转印膜结构制造技术

本发明专利技术涉及一种雾面转印膜结构，包括一基底薄膜层、一离型层、一硬化膜层、一饰纹层以及一黏着膜层。基底薄膜层包括由微粒子构成的抗眩光剂，使基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面，离型层设置于基底薄膜层的上表面，硬化膜层设置于离型层的上表面，硬化膜层同样形成凹凸粗糙表面，饰纹层设置于硬化膜层的上表面，黏着膜层设置于饰纹层的上表面。本发明专利技术可精简雾面转印膜结构的制程工序，从而达到缩短工时、降低成本等功效。同时，本发明专利技术还可维持硬化膜层的完整性，保持膜层结构强度，提高产品的品质。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种转印膜结构，具体讲是涉及一种雾面转印膜结构。
技术介绍
产品外观构装为影响消费行为的重要因素，具备独特构图设计与时尚质感的产 品往往能够得到较多青睐。模内装饰(IMD，In-mold decoration)为一项新型塑料加工 技术，是将上方印有装饰图纹的转印膜定位于射出机的模具内，在塑料制品射出成形同 时，进行图纹转印，完成壳体外观装饰。相对于传统喷涂、印刷、电镀等加工方式， 模内装饰技术可配合制品批量生产，连续完成图纹转印，可简化生产步骤、缩短制程时 间，己广泛应用于电子装置、家用电器等诸多领域。雾面化为常见的外观设计方式，为达到雾面效果，必须对转印膜结构采取特殊 处理。图1为现有技术的雾面转印膜结构的剖面示意图，图2为图1的雾面转印膜结构 的应用状态剖面示意图。如图所示，雾面转印膜结构10包括一基底薄膜层11、一凸块 结构层12、一离型层13、一硬化膜层14、一饰纹层15以及一黏着膜层16。基底薄膜层 11可为塑料、金属或纤维系薄膜，用来提供表面平坦且不易变形的基材，以利于后续涂 布与印刷等加工工艺。凸块结构层12通过网版印刷或凹版印刷方式涂布在基底薄膜层1本文档来自技高网...

【技术保护点】
雾面转印膜结构，其特征在于包括：一基底薄膜层，包括由微粒子构成的抗眩光剂，使该基底薄膜层具有一凹凸粗糙的上表面；一离型层，设置于该基底薄膜层的上表面；一硬化膜层，设置于该离型层的上表面；一饰纹层，设置于该硬化膜层的上表面；一黏着膜层，设置于该饰纹层的上表面。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：韩久康，
申请(专利权)人：琨诘电子昆山有限公司，
类型：发明
国别省市：32