【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种镀膜装置，尤其涉及一种用于蒸镀过程中能够防止待镀工件被污 染的镀膜伞架。
技术介绍
当前，许多工业产品表面都镀有功能薄膜，以改善产品表面的各种性能。如在光 学镜片的表面镀上一层抗反射膜，以降低镜片表面的反射率，降低入射光通过镜片的能量 损耗。又如在某些滤光元件表面镀上一层滤光膜，可滤掉某一预定波段的光，制成各种各 样的滤光片。一般地，镀膜方法主要包括离子镀膜法、射频磁控溅镀、真空蒸发法、化学气 相沉积法等。Ichiki，M.等人在 2003 年 5 月发表于 2003Symposium on Design, Test, Integration andPackaging of MEMS/MOEMS StJife^I Thin film formation-a fabrication on non-planarsurface by spray coating method中介绍了通过喷涂在__平面形成薄膜的 方法。蒸镀是一种物理气相沉积技术，即以物理的方式进行薄膜沉积。具体地，其通过离 子束或电子束对蒸镀材料进行加热，使蒸镀材料变成气态或离子态，而...
【技术保护点】
一种镀膜伞架，其包括伞架本体、转轴及遮罩，所述伞架本体开设有多个容置通孔，用于容置多个待镀工件，所述遮罩通过所述转轴可转动地设置于伞架本体，所述遮罩与所述伞架本体同轴并相互对应，用于遮挡伞架本体，所述遮罩具有自其中心向其边缘开设的第一开口，以使伞架本体的部分容置通孔从所述第一开口露出。
【技术特征摘要】
1.一种镀膜伞架，其包括伞架本体、转轴及遮罩，所述伞架本体开设有多个容置通孔， 用于容置多个待镀工件，所述遮罩通过所述转轴可转动地设置于伞架本体，所述遮罩与所 述伞架本体同轴并相互对应，用于遮挡伞架本体，所述遮罩具有自其中心向其边缘开设的 第一开口，以使伞架本体的部分容置通孔从所述第一开口露出。2.如权利要求1所述的镀膜伞架，其特征在于，所述伞架本体与遮罩均呈伞状，所述遮 罩与伞架本体基本平行地设置于伞架本体一侧。3.如权利要求2所述的镀膜伞架，其特征在于，所述转轴设置于伞架本体的中心，所 述遮罩的中心开设有与转轴相对应的第一配合孔，所述遮罩通过第一配合孔套设于所述转 轴ο4.如权利要求3所述的镀膜伞架，其特征在于，所述转轴包括同轴连接的支撑段和延 伸段，所述支撑段靠近所述伞架本体，其直径大于第一配合孔的直径，所述延伸段远离所述 伞架本体，其直径小于或等于第一配合孔的直径，所述遮罩通过第一配合孔配合套设于所 述延伸段。5.如权利要求4所述的镀膜伞架，其特征在...
【专利技术属性】
技术研发人员：蔡泰生，林后尧，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]
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