喷墨涂敷装置以及方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种喷墨涂敷装置以及方法，本发明专利技术所要解决的技术问题是，能够在进行了膜片的两侧边部的卷曲校正的状态下，进行涂敷材料向该膜片的涂敷，提高膜片的涂敷品质。本发明专利技术中，从卷放侧膜片卷筒（２）卷放出的膜片（１）以向卷绕侧膜片卷筒（３）卷绕，其涂敷对象范围在涂敷部（１７）位于吸附工作台（１０）上的方式被运送。若涂敷对象范围位于吸附工作台（１０）上，则膜片（１）停止，被载置在吸附工作台（１０）上，且在其长度方向施加张力，去除松弛等。但是，由此在涂敷对象范围的两侧边部产生卷曲。因此，在涂敷对象范围被载置在吸附工作台（１０）上的同时，设置在吸附工作台（１０）的两侧的卷曲校正罩（１３）、（１４）移动到涂敷对象范围的卷曲部，将该部分向吸附工作台的吸附面推压，进行卷曲校正。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及通过喷墨涂敷制造柔性材料所使用的卷至卷(roll toroll)方式的喷 墨涂敷装置，特别是涉及在设置有非硅类的半导体材料(例如，CIGS薄膜)的太阳能电池 膜片上形成电极、绝缘膜等使用的。
技术介绍
以往，作为印刷装置的一例，已知具备一面进行展皱和宽度方向的对位，一面导入 印刷媒质的导入部、与该导入部相邻配置，并与印刷媒质相向配置且用皮带运送印刷媒质 的运送部、与印刷媒质相向配置且具有颜色种类数量的多列行扫描头的印刷部、配置在该 印刷部上的印刷媒质的运送方向的下游侧，对印刷后的印刷媒质进行干燥的干燥部的印刷 装置(例如，参见专利文献1)。在该印刷装置中，通过多个辊对片状的印刷媒质(例如，卷筒状或收纳在箱中的 布帛)进行展皱，进行向运送方向中央的定中心、布纹校正、两端(布帛的两布边)的卷曲 纠正。该情况下，虽然也通过多个辊对布帛施加张力，纠正布帛的两布边的卷曲，但是， 张力的方向从构造上看，在布帛的长度方向大，相对于布帛的长度方向，相对于直角方向的 两侧边部的卷曲的张力小。再有，该卷曲纠正是在与印刷在该布帛的部位相比为前位置的运入部进行，在从 通过该运入部后直至印刷部的区间以及印刷部的区间，用于布帛的两侧边部的卷曲的纠正 的张力成为与暂时被开放接近的状态。在先技术文献专利文献专利文献1日本特开平9-239968号公报在通过卷至卷方式卷放出并被运送的膜片中，存在其表面蒸镀着半导体材料的部 位和没有蒸镀它的部位，因此，膜片的宽度方向的两侧边部成为圆(卷曲)的状态。在为了 进行涂敷材料量的涂敷，将这样从卷筒卷放出的膜片用吸附工作台吸附保持时，若像这样 在其两侧边部存在卷曲，则膜片难以被平坦地吸附在吸附工作台，存在产生皱褶、松弛的问 题。这样，若产生皱褶、松弛，则涂敷用的喷墨等的喷嘴前端面接触膜片，存在喷嘴面受到损 伤的可能性。本专利技术的目的在于，提供一种消除这样的问题，能够在膜片的两侧边部的卷曲得 到纠正的状态下，进行涂敷材料向该膜片的涂敷，能够提高向膜片的涂敷品质的喷墨涂敷 装置以及方法。
技术实现思路
为了实现上述目的，本专利技术是一种喷墨涂敷装置，所述喷墨涂敷装置由卷放出卷 筒状的膜片并进行运送的上游侧的引导辊、吸附保持被卷放出的膜片的吸附工作台、将液3状的涂敷材料涂敷在被吸附工作台吸附保持的膜片上的涂敷头、运送涂敷有涂敷材料的膜 片并卷绕成卷筒状的下游侧的引导辊构成，特征在于，设置将膜片的被载置在吸附工作台 的吸附面上的涂敷对象区域的两侧边部向吸附工作台的吸附面推压，并向吸附工作台的侧 边侧扩开的卷曲校正罩，也由卷曲校正罩校正膜片的在涂敷对象范围中的两侧边部上产生 的卷曲部，使涂敷对象范围整体为平坦状，并一样地吸附保持在吸附工作台的吸附面上。另外，特征在于，吸附工作台的吸附面相对于与膜片的运送方向垂直的方向，被划 分成中央部区域和中央区域的两侧的周边区域，具备控制中央部区域的真空吸附孔的动作 和周边区域的真空吸附孔的动作的控制部，通过控制部的控制，在膜片的涂敷对象范围向 吸附工作台载置的同时，使中央区域的真空吸附孔动作，对涂敷对象范围的与中央区域相 向的区域进行真空吸附保持，在卷曲校正罩进行的对在吸附工作台上载置的膜片的涂敷对 象范围的两侧边部的卷曲校正的同时，使周边区域的真空吸附孔动作，对涂敷对象范围的 与周边区域相向的区域进行真空吸附保持。再有，特征在于，具备对真空吸附在吸附工作台上的膜片的从吸附工作台的吸附 面的上浮进行检测的构件。再有，特征在于，具备用于对通过卷曲校正罩将膜片的涂敷对象范围的两侧边部 向吸附工作台的两侧边部侧扩张的力进行调节的、对驱动卷曲校正罩的升降动作的升降缸 的空气压力进行调整的构件。为了实现上述目的，本专利技术是一种喷墨涂敷方法，所述喷墨涂敷方法通过上游侧 的引导辊卷放出并运送被盘绕成卷筒状的膜片，将被卷放出的膜片的涂敷对象范围搭载在 吸附工作台的吸附面上，通过涂敷头将液状的涂敷材料向膜片的涂敷对象范围涂敷，由下 游侧的引导辊运送涂敷了涂敷材料的膜片，并卷绕成卷筒状，特征在于，由卷曲校正罩将搭 载在吸附工作台的吸附面上的膜片的涂敷对象范围的两侧边向吸附面推压并向吸附工作 台的侧边侧扩开，吸附保持在吸附面上。专利技术效果根据本专利技术，因为在将涂敷对象的膜片固定在吸附工作台上进行定位时，由卷曲 校正罩将该膜片的两侧边部向该吸附工作台推压并使之吸附，所以，在该膜片的两侧边部 上产生的卷曲得到校正，平坦地吸附固定在吸附工作台上，因为在该状态下，进行涂敷材料 向该膜片的涂敷，所以，膜片的涂敷品质提高。附图说明图1是表示基于本专利技术的的第一实施方式的概略结构的 立体图。图2是表示在图1的涂敷部产生的膜片的侧边部的卷曲状态的图。图3是表示图1所示的第一实施方式的膜片的卷曲校正机构的一具体例的概略立 体图。图4是表示图3所示的卷曲校正罩进行的膜片的卷曲校正动作的一具体例的流程 图。图5是表示图4所示的卷曲校正动作的流程的图。图6是表示基于本专利技术的的第二实施方式的吸附工作台的一具体例的立体图。图7是表示具备图6所示的吸附工作台的第二实施方式的膜片的卷曲校正动作的 一具体例的流程图。图8是表示基于本专利技术的的第三实施方式的主要部分的 概略立体图。图9是表示基于本专利技术的的第四实施方式的卷曲校正装 置的一具体例的概略立体图。具体实施例方式下面，根据附图，说明本专利技术的实施方式。另外，下面说明的实施方式是作为一个例子，在施加了非硅类的半导体材料(例 如，CIGS薄膜)的太阳能电池膜片上，通过喷墨方式的涂敷头涂敷电极材料、绝缘材料， 据此，进行电极、绝缘膜等的膜形成的实施方式。另外，CIGS薄膜是由Cu(铜)、In(铟)、 Ga(镓)、Se (硒)构成的半导体材料的薄膜，“CIGS”是将这些材料的开头文字排列的词，该 CIGS薄膜的膜厚可薄到数10 μ m 100 μ m左右。图1是表示基于本专利技术的的第一实施方式的概略结构的 立体图。1是太阳能电池膜片(下面简称膜片)，2是卷放侧膜片卷筒，3是卷绕侧膜片卷 筒，4、5是引导辊，6、7是升降引导辊，8、9是吸附杆，10是吸附工作台，11是卷放侧轴马达， 12是卷绕侧轴马达，13、14是卷曲校正杆，15是涂敷头，16是卷放部，17是涂敷部，18是卷 绕部。该图中，在X轴方向空间被划分为卷放部16、涂敷部17和卷绕部19，在卷放部16 上，在X轴方向依次排列设置着由卷放侧轴马达11旋转驱动的卷放侧膜片卷筒2、上游侧的 引导辊4、升降引导辊6、吸附杆8，在卷绕部18上，在X轴方向依次排列设置着下游侧的吸 附杆9、升降引导辊7、引导辊5、卷绕侧膜片卷筒3。另外，在涂敷部17设置着吸附工作台 10、涂敷头15、卷曲校正杆13、14。 在卷放部16，在卷放侧膜片卷筒2上，卷筒状地盘绕着在涂敷部17成为电极材料、 绝缘材料的涂敷对象的膜片1。另外，该膜片1从该卷放侧膜片卷筒2被卷放出，通过涂敷 部17，在卷绕部18被卷绕在卷绕侧膜片卷筒3上。在该状态下，膜片1的长度方向为X轴 方向，其宽度方向为Y轴方向，与由X轴和Y轴构成的面垂直的方向为Z轴方向。在涂敷部17，膜片1被吸附工作台10真空吸附，位置被固定，另外，配置多个由未 图示出的龙门架(门型框架)构造支撑的喷墨本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种喷墨涂敷装置，所述喷墨涂敷装置由卷放出卷筒状的膜片并进行运送的上游侧的引导辊、吸附保持被卷放出的该膜片的吸附工作台、将液状的涂敷材料涂敷在被该吸附工作台吸附保持的该膜片上的涂敷头、运送涂敷有涂敷材料的该膜片并卷绕成卷筒状的下游侧的引导辊构成，其特征在于，设置将该膜片的被载置在该吸附工作台的吸附面上的涂敷对象区域的两侧边部向该吸附工作台的吸附面推压，并向该吸附工作台的侧边侧扩开的卷曲校正罩，也由该卷曲校正罩校正该膜片的在该涂敷对象范围中的两侧边部上产生的卷曲部，使该涂敷对象范围整体为平坦状，并一样地吸附保持在该吸附工作台的该吸附面上。

【技术特征摘要】
JP 2009-10-29 2009-2489051.一种喷墨涂敷装置，所述喷墨涂敷装置由卷放出卷筒状的膜片并进行运送的上游侧 的引导辊、吸附保持被卷放出的该膜片的吸附工作台、将液状的涂敷材料涂敷在被该吸附 工作台吸附保持的该膜片上的涂敷头、运送涂敷有涂敷材料的该膜片并卷绕成卷筒状的下 游侧的引导辊构成，其特征在于，设置将该膜片的被载置在该吸附工作台的吸附面上的涂敷对象区域的两侧边部向该 吸附工作台的吸附面推压，并向该吸附工作台的侧边侧扩开的卷曲校正罩，也由该卷曲校正罩校正该膜片的在该涂敷对象范围中的两侧边部上产生的卷曲部，使 该涂敷对象范围整体为平坦状，并一样地吸附保持在该吸附工作台的该吸附面上。2.如权利要求1所述的喷墨涂敷装置，其特征在于，上述吸附工作台的上述吸附面相对于与上述膜片的运送方向垂直的方向，被划分成中 央部区域和该中央区域的两侧的周边区域，具备控制该中央部区域的真空吸附孔的动作和该周边区域的真空吸附孔的动作的控 制部，通过该控制部的控制，在上述膜片的上述涂敷对象范围向上述吸附工作台载置的同时，使该中央区域的真空 吸附孔动作，对上述涂敷对象范围的与该中央区...

【专利技术属性】
技术研发人员：宮本芳次，岸村敏治，真锅仁志，渡边胜义，中村秀男，
申请(专利权)人：株式会社日立工业设备技术，
类型：发明
国别省市：JP[日本]