对磁场均匀性不足进行补偿的方法和装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种对磁场均匀性不足进行补偿的方法，其包括：确定待匀场的主磁场区域和至少一个附加磁场区域在空间中的位置和大小；对主磁场区域和至少一个附加磁场区域的磁场进行优化计算；根据所述优化计算的结果，在主磁场区域和至少一个附加磁场区域输出均匀磁场。本发明专利技术还公开了一种实现上述方法的装置。采用本发明专利技术的方案，在主磁场区域和附加磁场区域形成均匀磁场，从而在局部扩展了均匀磁场，而非向各方向扩展均匀磁场。具有容易实现、更为经济的特点。而且，本发明专利技术不需要改变现有磁体的结构，不需要添加额外部件，使磁体设计具有更大的自由度；不需要改变局部线圈来布置局部匀场，也不用添加额外的物理结构来保持局部匀场。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术磁共振成像(MRI)的勻场技术，特别是涉及一种通过勻场技术对MRI磁场 的均勻性不足进行补偿的方法和装置。
技术介绍
对于医用MRI系统，需要将病人置于均勻的磁场中，使体内水分子的质子磁矩趋 于一个方向，成像区域经可被质子吸收的射频信号照射，通过施加射频序列和梯度序列，然 后接收返回的共振信号，进行信号处理后得到区域内组织的灰度图像。根据核磁共振条件， 成像磁体的主磁场需要达到较高的均勻度。主磁场越均勻，信噪比也会越高。随着MRI场强的不断提高，对信噪比的要求也在提高，因此勻场技术变得更加重 要。实际生产过程中，磁体的磁场无法达到核磁共振成像要求的均勻度水平，因此磁体装配 完成后必须进行勻场。一般医学全身成像的MRI磁体需要在磁场中心30到40厘米直径的 球域(DSV :diameter spherical volume)内形成均勻的净磁场。虽然磁场中心的球域内会形成均勻磁场，该均勻磁场可覆盖大部分的身体部位， 但是一些身体部位，比如肩部，仍有可能暴露在均勻磁场之外，而暴露在均勻磁场之外的身 体部位的成像质量会受到很大影响。针对这个问题，现有解决方案主要有以下几种(1)设本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种对磁场均匀性不足进行补偿的方法，包括：确定待匀场的主磁场区域和至少一个附加磁场区域在空间中的位置和大小；对主磁场区域和至少一个附加磁场区域的磁场进行优化计算；根据所述优化计算的结果，在主磁场区域和至少一个附加磁场区域输出均匀磁场。

【技术特征摘要】
1.一种对磁场均勻性不足进行补偿的方法，包括确定待勻场的主磁场区域和至少一个附加磁场区域在空间中的位置和大小；对主磁场区域和至少一个附加磁场区域的磁场进行优化计算；根据所述优化计算的结果，在主磁场区域和至少一个附加磁场区域输出均勻磁场。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述进行优化计算包括计算在主磁场和至少一个附加磁场中形成勻场时，最优化的勻场电流的分布或最优化 的勻场片的分布。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述计算包括对于主磁场区域和至少一个附加磁场区域，分别求拉普拉斯方程V2B = 0的解，其中B 为期望在所述主磁场区域和至少一个附加区域中形成的勻场的磁感应强度；使所述拉普拉斯方程求解得到的所有谐波趋近于零，以获得最优化的勻场电流的分布 或最优化的勻场片的分布。4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据优化计算的结果在主磁场区域 和至少一个附加磁场区域输出均勻磁场包括根据计算出的最优化的勻场电流的分布，给不同阶数的勻场线圈通相应的电流； 或者，根据计算出的最优化的勻场片的分布，在勻场片固定器中布置多个勻...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈进军，倪成，
申请(专利权)人：西门子迈迪特深圳磁共振有限公司，
类型：发明
国别省市：94[中国|深圳]