【技术实现步骤摘要】
本技术是有关于一种过滤装置的设计，尤其是可有效改善排气不良问题的过滤装置。
技术介绍
在液晶面板厂或印刷电路板厂的制程当中，需要使用大量的化学药液用以进行电 路蚀刻或是光阻剂的涂布，为能满足生产加工设备的自动化作业需求，这些化学药液除了 必须透过相关的输送回路将其送至生产加工设备处，或是自生产单位加以回收时，都需要 对化学药液进行适当的过滤作业。 请参阅图l所示，为习用的化学反应装置示意图，在习知的化学反应装置中，包括 有化学药液槽10、过滤机组20以及反应槽30，其中过滤机组20内具有滤材921，且过滤机 组20设置于化学药液槽10与反应槽30间，而化学药液槽10即用于容置上述的化学药液， 且化学药液必需要经过过滤后，才能提供反应槽30做光阻涂布或蚀刻制程，或者该化学药 液经由过滤机组20的过滤后不需经由反应槽而直接使用，而过滤机组20便是用于过滤自 化学药液槽10流向反应槽30的化学药液，但一般经过过滤机组20的化学药液仍会有杂质 或结晶物等无法被确实过滤，当未过滤完成的化学药液进入反应槽30时将会影响制程品 质，或可能造成设备的损坏，例如光阻喷头的阻塞。...
【技术保护点】
一种过滤装置，其特征在于，至少包含有：一本体，该本体分为上部容置空间及下部容置空间；一滤材，该滤材设于该上部容置空间中，该滤材并使该上部容置空间及下部容置空间得以相通；一入料口，该入料口设于该本体相对于上部容置空间的上方位置处，并与该上部容置空间相通；一第一排气口，该第一排气口设于该本体相对于上部容置空间的侧边并靠近上方位置处，并与该上部容置空间相通；一出料口，该出料口设于该本体相对于下部容置空间的下方位置处，并与该下部容置空间相通。
【技术特征摘要】
一种过滤装置，其特征在于，至少包含有一本体，该本体分为上部容置空间及下部容置空间；一滤材，该滤材设于该上部容置空间中，该滤材并使该上部容置空间及下部容置空间得以相通；一入料口，该入料口设于该本体相对于上部容置空间的上方位置处，并与该上部容置空间相通；一第一排气口，该第一排气口设于该本体相对于上部容置空间的侧边并靠近上方位置处，并与该上部容置空间相通；一出料口，该出料口设于该本体相对于下部容置空间的下方位置处，并与该下部容置空间相通。2. 如权利要求1所述的过滤装置，其特征在于，该滤材设有一支撑体以及一滤膜，该滤 膜设于该支撑体外。3. 如权利要求2所述的过滤装置，其特征在于，该滤膜以至少一层巻绕于该支撑体外。4. 如权利要求2所述的过滤装置，其特征在于，该滤膜以单层巻绕于该支撑体外，且该 滤膜设有复数折叠部。...
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