包括发射紫外线光的源的装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及包括发射紫外线光的源的装置。装置（１）包括：发射紫外线光的源（２０）、使流体流入装置（１）的入口（３０）、使流体流出装置（１）的出口（４０）以及对流过装置（１）的流体执行矫正动作的构件（５１、５２）。流动矫正构件包括：具有使流体从一侧流入的入口和使流体从另一侧流出的出口的至少一个流动矫正元件（５１、５２），其中每个入口与多个出口相通，并且其中元件（５１、５２）包括随机布置的、相互连通的孔洞的迷宫。在这种结构中，从元件（５１、５２）的一侧移向另一侧的水元素可选择多个路径中的一条，从而可以抑制入口条件的变动。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种装置，包括用于发射紫外线光的源、用于使流体流入装置的入 口、用于使流体流出装置的出口以及用于对流动通过装置的流体执行矫正动作的构件，其 中流动矫正构件被布置在从入口到出口的流体路径中。
技术介绍
上文段落中定义的装置的公知例子是用于对水进行消毒的装置，其中布置在壳体 内的元件是例如用于发射紫外线光的灯(尤其是通常称为UV-C型)的源。基于UV-C光能 够杀灭微生物的事实，将被污染的水暴露在紫外线光下对水具有净化作用。针对家庭应用， 紫外线源通常被密封在非遮光夹持结构中，使得水能够按期望暴露于所述源。为了具有足够的杀菌作用，紫外线消毒装置必须产生一定的紫外线剂量，以J/m2 表示。剂量通过辐照度(W/m2)乘以细菌在装置中的停留时间(s)来给定。所述停留时间 通过水的流动路径来确定，而辐照度水平通过应用的紫外线源的类型来确定。从例如EP 1837309获知在水消毒装置中使用流动矫正构件。已知的流动矫正构 件包括提供有多个穿孔薄片的圆柱形元件，其中每个薄片包括薄层网格和星形开口。基础 薄片经历穿孔过程形成穿孔薄片，并且使获得的穿孔薄片经历拉伸过程。薄层和开口以规 则样本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种装置（１、２、３），包括发射紫外线光的源（２０）、使流体流入所述装置（１、２、３）的入口（３０）、使流体流出所述装置（１、２、３）的出口（４０）以及对流过所述装置（１、２、３）的流体执行矫正动作的构件（５１、５２），其中所述流动矫正构件被布置在从所述入口（３０）到所述出口（４０）的流体路径中，并且其中所述流动矫正构件包括具有使流体在一侧（Ａ）流入的入口开口（５６）和使流体在另一侧（Ｂ）流出的出口开口（５７）的至少一个元件（５１、５２），其中每个入口开口（５６）与多个出口开口（５７）相通，其中所述元件（５１、５２）包括随机布置的、相互连通的孔洞的迷宫，以实现通过所述元件（５１、５２）的多个随...

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：PC杜尼维尔德，E蒙特，HJ泰克玛，WS维杰玛，M帕斯图尔斯，WHM布鲁吉恩克，
申请(专利权)人：皇家飞利浦电子股份有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]