太阳能电池的制造方法技术

一种太阳能电池的制造方法，包括在硅片的受光面形成ＰＮ结，所述形成ＰＮ结的过程包括：在硅片受光面形成粗糙的多晶硅层；对具有所述粗糙的多晶硅层的硅片的受光面进行离子扩散。所述太阳能电池的制造方法降低了太阳能电池对光的反射率，提高了太阳能电池的光利用率。并且，相对于现有技术酸或碱蚀刻形成绒面的工艺，上述太阳能电池的制造方法更易控制工艺的质量及稳定性。

【技术实现步骤摘要】
太阳能电池的制造方法
本专利技术涉及太阳能电池领域，特别涉及太阳能电池的制造方法。
技术介绍
环境保护是目前世界各国面临的重要课题之一。采用清洁能源代替传统能源，可以改善居住环境，提高环境质量，是一项重要的环保措施。太阳能电池直接利用光能转化成电能，在能量转化的过程中不产生污染物，是一种新型的清洁能源。而结合不断发展的半导体制造技术，也出现了基于硅制造太阳能电池的技术。例如，在中国专利95104877.5中就提供了一种太阳能电池的制造方法，其基于P型半导体衬底制造太阳能电池。在太阳能电池制造技术的发展过程中，为了降低太阳能电池对光的反射以提高太阳能电池的光利用率，在制造太阳能电池的工艺中已加入形成抗反射层的步骤。例如，现有技术的一种太阳能电池的制造方法，其制造过程主要包括酸或碱蚀刻形成绒面、硅片清洗、离子扩散、形成抗反射层、丝网印刷上浆、高温烧结等步骤。其中，酸或碱蚀刻逊尼光程绒面的步骤是为了形成粗糙的表面以提高太阳能电池的光利用率，离子扩散的步骤是为了在硅片中形成PN结，而形成抗反射层的步骤如前所述是为了降低太阳能电池对光的反射率。上述举例的现有技术太阳能电池的制造方法通过形成抗反本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种太阳能电池的制造方法，包括在硅片的受光面形成ＰＮ结，其特征在于，所述形成ＰＮ结的过程包括：在硅片受光面形成粗糙的多晶硅层；对具有所述粗糙的多晶硅层的硅片的受光面进行离子扩散。

【技术特征摘要】
1.一种太阳能电池的制造方法，包括：在硅片的受光面形成PN结，其特征在于，通过沉积工艺在硅片表面形成粗糙的薄膜，以替代绒面工艺；将通过沉积工艺在硅片表面形成粗糙的薄膜的工艺，与离子扩散工艺整合，从而既形成可以降低反射率的粗糙电池表面，又同时形成PN结；在所述形成PN结之后，在粗糙的多晶硅层表面形成抗反射层；所述形成PN结的过程包括：首先，在硅片受光面形成粗糙的多晶硅层，通过沉积工艺在硅片表面形成粗糙的薄膜，以替代绒面工艺；然后，在形成粗糙的多晶硅层之后，对具有所述粗糙的多晶硅层的硅片的受光面进行离子扩散。2.如权利要求1所述的太阳能电池的制造方法，其特征在于，形成粗糙的多晶硅层采用化学气相沉积的方法，采用SiH4作为反应气体，反应的温度为500～620℃。3.如权利要求2所述的太阳能电池的制造方法，其特征在于，所述反应的温度为568±2℃。4.如权利要求1所述的太阳能电池的制造方法，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：沈忆华，朱虹，涂火金，李亮，张复雄，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]