瓷器内雕制造技术

技术编号:4921594 阅读:175 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术的目的是解决现有技术中瓷器的仅通过外表来表达优美所存在的问题,创造一种在瓷器结构内部进行雕刻。本实用新型专利技术制作瓷器内雕,包括瓷器,在瓷器的胎的内层面上有雕刻。所述的雕刻为在瓷器的内表面形成高低不平的痕迹。所述的雕刻痕迹为图案或文字。当将在器物内部雕刻好后,经高温烧制氧化后,使器物成为半透明的瓷器。本实用新型专利技术的优点是从外部看无任何效果,而当在内部增加一定的照明度时在外部能见到内部雕刻产生的奇特效果。(*该技术在2019年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种瓷器,特别是一种在瓷器结构内部雕刻的瓷器。
技术介绍
目前瓷器所包含的创作点均在瓷器的外表及整体造型上,主要是在瓷器的表面进 行雕刻,然后在瓷器的表面上进行涂釉,经烧制后来表现瓷器的优美,然而这样的表现手段 已经过上千年,会产生审美疲劳,无法再吸引更多的青年人喜爱瓷器。那么是否可以更进一 步发展瓷器的表现手段,用新的制作工艺来创作新的艺术瓷器是亟待瓷器艺术家解决的问 题。
技术实现思路
本技术的目的是解决现有技术中瓷器的仅通过外表来表达优美所存在的问 题,创造一种在瓷器结构内部进行雕刻。本技术制作瓷器内雕,包括瓷器,其特征在于 在瓷器的胎的内层面上有雕刻。其特征在于所述的雕刻为在瓷器的内表面形成高低不平 的痕迹。其特征在于所述的雕刻痕迹为图案或文字。当将在器物内部雕刻好后,经高温烧 制氧化后,使器物成为半透明的瓷器。本技术的优点是从外部看无任何效果,而当在内 部增加一定的照明度时在外部能见到内部雕刻产生的奇特效果。附图说明 附图为本技术的结构剖面示意图, 以下结合附图和施工实例对本技术作详细使用说明。具体实施方式 图中包括瓷器l,其特征在于在瓷器l的胎的内层面2上有雕刻3。其特征在于 所述的雕刻3为在瓷器1内部的内层面形成高低不平的雕刻痕迹3。其特征在于所述的 雕刻痕迹3为图案或文字。当将在器物内部雕刻好后,经高温烧制氧化后,使器物成为半透 明的瓷器。 具体制作为选用高岭土作为制作材质,将高岭土制作成需要的器物形状,即瓷器1 的坯,现将需雕刻的瓷器1的坯进行加温80(TC 士10(TC,实施素烧,使高岭土胎质的器物1 增加一定的硬度。在增加了胎质硬度的器物1的内层面2上进行雕刻。选用金属或非金属 中有一定硬度的材质磨削器物作为雕刻工具,对上述瓷器1的内层面2进行雕刻,使瓷器1 的内层面2上形成凹凸的雕刻痕迹3,使瓷器1的内层面2上呈凹凸形态的雕刻痕迹3成为 设计制作者需要的图案、图形、文字、数字。然后对上述瓷器1的表面进行施釉,最后放入窑 中高温烧制,使瓷器1在氧化后达到表面光亮胎质半透明的状态。 在成为成品后,在瓷器1内放置照明源,当瓷器1内放置的照明源达到一定亮度 时,在瓷器1的外表上就能看到瓷器1的内层面上所雕刻痕迹3所展现的图案、图形、文字、数字,给人们以新的艺术惊喜。权利要求瓷器内雕,包括瓷器,其特征在于在瓷器的胎的内层面上有雕刻。2. 按权利要求1所述的瓷器内雕,其特征在于所述的雕刻为在瓷器的内表面形成高 低不平的痕迹。3. 按权利要求l所述的瓷器内雕,其特征在于所述的雕刻痕迹为图案、文字,图形或数字。专利摘要本技术的目的是解决现有技术中瓷器的仅通过外表来表达优美所存在的问题,创造一种在瓷器结构内部进行雕刻。本技术制作瓷器内雕,包括瓷器,在瓷器的胎的内层面上有雕刻。所述的雕刻为在瓷器的内表面形成高低不平的痕迹。所述的雕刻痕迹为图案或文字。当将在器物内部雕刻好后,经高温烧制氧化后,使器物成为半透明的瓷器。本技术的优点是从外部看无任何效果,而当在内部增加一定的照明度时在外部能见到内部雕刻产生的奇特效果。文档编号B44C1/22GK201456877SQ20092007568公开日2010年5月12日 申请日期2009年7月31日 优先权日2009年7月31日专利技术者徐善平 申请人:上海隽本艺术设计制作有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
瓷器内雕,包括瓷器,其特征在于:在瓷器的胎的内层面上有雕刻。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:徐善平
申请(专利权)人:上海隽本艺术设计制作有限公司
类型:实用新型
国别省市:31[中国|上海]

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