一种陶瓷平面雕刻活动板模制造技术

本实用新型专利技术公开的一种陶瓷平面雕刻活动板模，涉及饮料加工设备技术领域；是由模底板1、四个正面定位角块2、凸板5、两条横向框架梁6、两条竖向框架梁7和四个背面定位角块8构成；横向框架梁6与竖向框架梁7的两端部分别开有啮合用的凹槽，构成井字框架4；具有省时、省工，能提高陶瓷平面雕刻泥板成品率等特点，适用于制作陶瓷平面雕刻泥板或陶瓷平面裸雕刻泥板。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及陶瓷生产
，特别是一种陶瓷平面雕刻活动板模。
技术介绍
现有技术中，出于文化艺术的需要，常常会制作一些带有雕刻图案的陶瓷平面板。 这种陶瓷平面板在制作陶瓷平面雕刻泥板的过程中，由于陶瓷平面雕刻泥板上各处的厚度不一，使得其在烘制在烧制过程中，会因传热不均匀导致开裂或分层脱落。因而，通常在完成陶瓷平面雕刻泥板的雕刻后，需要在其背面采用手工进行开槽和减薄，并完成修边工作，以便保证其规格一致。这种开槽、减薄和修边工作，既费工又费时，工效低；并且，在陶瓷平面雕刻泥板的雕刻完成后翻动开槽时，还容易断折和开裂，使得陶瓷平面雕刻泥板的成品率降低。
技术实现思路
针对现有技术所存在的不足，本技术的目的在于提供一种省时、省工，能提高陶瓷平面雕刻泥板成品率的板模。为解决上述技术问题，本技术所采用的技术方案是设计一种陶瓷平面雕刻活动板模是由模底板I和井字框架4构成，井字框架4装置在模底板I上；A、在所述模底板正面3的四角部位，分别装置有正面定位角块2 ；B、在所述模底板正面3的中部部位，装置有一块以上的凸板5，该凸板5的侧面带有斜坡。在所述模底板背面9的四角部位，也装置有背面定位角块8。所述的井字框架4是由两条横向框架梁6和两条竖向框架梁7构成，在横向框架梁6和竖向框架梁7的两端部，分别开有啮合用的凹槽。本技术的陶瓷平面雕刻活动板模，与现有技术相比，具有以下优点一是结构简单，仅由模底板和井字框架构成，易装、易拆、易保管；二是效率高，在模底板正面的中部部位装有凸板，在填压陶瓷泥料、创作陶瓷平面雕刻泥板后，脱模时底部会自动生成凹槽，免去人工翻动进行开槽和修边的工作环节，省时、省工，提高了劳动效率；三是成品率高，由于免去了人工翻动进行开槽的工作环节，避免了雕刻后雕件的多次翻转，可防止雕件折断和开拆，确保雕件安全，从而提高了雕件的成品率；四是一模两用，在模底板正面的中部部位装有凸板，可用于制作陶瓷平面雕刻泥板；模底板背面为平面，可用于制作裸雕件；五是节约陶瓷泥料，由于采用了井字框架，能事先控制泥板的厚度和规格大小，可减少使用陶瓷泥料。附图说明图I是本技术的主视示意图；图2是本技术的俯视示意图；图3是本技术的后视示意图；图4是本技术的沿A——A轴线的剖视示意图；图5是本技术的沿B——B轴线的剖视示意图。图中I是模底板，2是正面定位角块，3是模底板正面，4是井字框架，5是凸板，6是横向框架梁，7是竖向框架梁，8是背面定位角块，9是模底板背面。具体实施方式以下结合附图和实施例，对本技术作进一步的说明。下面的说明是采用例举的方式，但本技术的保护范围不应局限于此。本实施例是由模底板I、四个正面定位角块2、凸板5、两条横向框架梁6、两条竖向框架梁7和四个背面定位角块8构成。横向框架梁6与竖向框架梁7的两端部分别开有啮合用的凹槽，构成井字框架4。模底板I是一矩形板，其正面是模底板正面3，其背面是模底板背面9。四个正面定位角块2(可由一个直角块组成，也可由三个直角块组成,本例采用由三个直角块组成)装置在模底板正面3的四角部位；凸板5(可为方形锥台或圆形锥台或其它形状的锥台，使得其侧面带有斜坡)的高度低于横向框架梁6与竖向框架梁7构成的井字框架4，凸板5装置在模底板正面3的中部部位，凸板5的数量依照井字框架4的大小，可为一个或二个或三个或四个或五个或六个或更多个(本例采用六个，分两排、三列布置)。四个背面定位角块8 (可由一个直角块组成，也可由三个直角块组成，本例采用由三个直角块组成)装置在模底板背面9的四角部位。使用时，当需要制作陶瓷平面雕刻泥板时，将模底板I置于工作台上，并让模底板正面3向上；然后，将横向框架梁6的凹槽向上,分别横向置于模底板正面3的上、下部位的正面定位角块2的内侧，再将竖向框架梁7凹槽向下，分别竖向置于模底板正面3的左、右部位的正面定位角块2的内侧，让两者的凹槽啮合，组成井字框架4 ;至此，即可将陶瓷泥料，装入井字框架4的内腔中，填实压紧；稍干，即可开始雕刻；完成雕刻后，稍干脱模；由于在模底板正面3的中部部位装置有凸板5，因而，脱模后不再需要在其背面开槽，加之井字框架4的限制，也不再需要采用修边的方式来达到规格一致；其后，即可按照常规方法，进行入窑烧制、或绘画上釉后入窑烧制。当需要制作裸雕件时，将模底板I置于工作台上，并让模底板背面9向上；然后，将横向框架梁6的凹槽向上，分别横向置于模底板背面9的上、下部位的背面定位角块8的内侦牝再将竖向框架梁7凹槽向下，分别竖向置于模底板背面9的左、右部位的背面定位角块8的内侧，让两者的凹槽啮合，组成井字框架4 ;至此，即可将陶瓷泥料，装入井字框架4的内腔中，填实压紧；稍干，即可脱模；由于模底板背面9为平面，因而，脱模后，所得的泥板为两面均为平面的裸雕件；同样，由于井字框架4的限制，也不再需要采用修边的方式来达到规格一致；其后，即可按照常规方法，进行入窑烧制、或绘画上釉后入窑烧制。本技术的陶瓷平面雕刻活动板模，适用于制作陶瓷平面雕刻泥板或陶瓷平面裸雕刻泥板。权利要求1.一种陶瓷平面雕刻活动板模，是由模底板(I)和井字框架(4)构成，井字框架(4)装置在模底板(I)上；其特征在于 A、在所述模底板正面(3)的四角部位，分别装置有正面定位角块(2); B、在所述模底板正面(3)的中部部位，装置有一块以上的凸板(5)，该凸板(5)的侧面带有斜坡。2.根据权利要求I所述的陶瓷平面雕刻活动板模，其特征在于在所述模底板背面(9)的四角部位，也装置有背面定位角块(8)。3.根据权利要求I或2所述的陶瓷平面雕刻活动板模，其特征在于所述的井字框架 (4)是由两条横向框架梁(6)和两条竖向框架梁(7)构成，在横向框架梁(6)和竖向框架梁(7)的两端部，分别开有啮合用的凹槽。专利摘要本技术公开的一种陶瓷平面雕刻活动板模，涉及饮料加工设备
；是由模底板1、四个正面定位角块2、凸板5、两条横向框架梁6、两条竖向框架梁7和四个背面定位角块8构成；横向框架梁6与竖向框架梁7的两端部分别开有啮合用的凹槽，构成井字框架4；具有省时、省工，能提高陶瓷平面雕刻泥板成品率等特点，适用于制作陶瓷平面雕刻泥板或陶瓷平面裸雕刻泥板。文档编号B44B3/06GK202782419SQ20122049888公开日2013年3月13日 申请日期2012年9月25日 优先权日2012年9月25日专利技术者吴小平 申请人:吴小平本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种陶瓷平面雕刻活动板模，是由模底板(1)和井字框架(4)构成，井字框架(4)装置在模底板(1)上；其特征在于：A、在所述模底板正面(3)的四角部位，分别装置有正面定位角块(2)；B、在所述模底板正面(3)的中部部位，装置有一块以上的凸板(5)，该凸板(5)的侧面带有斜坡。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴小平，
申请(专利权)人：吴小平，
类型：实用新型
国别省市：