【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及光学膜及其制造方法、防眩膜、具有光学层的偏光片以及显示装置。具体地，本专利技术涉及在诸如液晶显示装置的显示装置的显示表面使用的防眩膜。
技术介绍
在诸如液晶显示装置的显示装置(显示器)中，采用了这样的技术，在显示表面侧 设置防眩膜以利用该膜使光漫射，从而赋予防眩性并且减少由于表面反射导致的反射。在 传统的防眩膜中，防眩性是通过设置在表面上的凹凸形状赋予的。图1示出了传统防眩膜101的结构。如图1所示，防眩膜101包括基材111和设 置在基材111上的防眩层112。防眩层112包含微粒113。这些微粒113从防眩层112的 表面突起，从而在表面上形成凹凸形状。通过将含有诸如凹凸形状的二氧化硅微粒或有机 微粒的微粒113的涂覆材料涂布到基材111上并将该涂覆材料干燥来形成防眩膜101。根 据具有上述结构的防眩膜，从防眩层112突起的微粒113将入射到防眩层112上的光散射， 由此，由表面反射所导致的反射减少。迄今为止，已对用于有效赋予防眩膜的防眩性的凹凸形状进行了研究。例如， 日本专利第3，821，956号提出了凹凸形状的中心线平均粗糙度和平均峰谷间隔...
【技术保护点】
一种光学膜，包括：基材；以及光学层，设置在所述基材上；其中所述光学层在其表面上具有凹凸形状；所述凹凸形状通过以下过程来获得：将含有微粒和树脂的涂覆材料涂布到所述基材上，利用所述涂覆材料中出现的对流将所述微粒在一些部分密集地分布而在其它部分稀疏地分布，并固化所述涂覆材料；所述树脂包含以重量计３％以上２０％以下的聚合物；所述微粒的平均粒径为２．４μｍ以上８μｍ以下；并且所述光学层的平均膜厚为６．４μｍ以上１８μｍ以下。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】JP 2008-6-9 2008-151140;JP 2008-8-13 2008-208796一种光学膜，包括基材；以及光学层，设置在所述基材上；其中所述光学层在其表面上具有凹凸形状；所述凹凸形状通过以下过程来获得将含有微粒和树脂的涂覆材料涂布到所述基材上，利用所述涂覆材料中出现的对流将所述微粒在一些部分密集地分布而在其它部分稀疏地分布，并固化所述涂覆材料；所述树脂包含以重量计3％以上20％以下的聚合物；所述微粒的平均粒径为2.4μm以上8μm以下；并且所述光学层的平均膜厚为6.4μm以上18μm以下。2.根据权利要求1所述的光学膜，其中，当所述光学层的平均膜厚用T表示、并且所述 微粒的平均粒径用D表示时，比率R( = (D/T) X 100)为30%以上70%以下。3.根据权利要求1所述的光学膜，其中，所述微粒包含作为主要成分的丙烯酸酯类/苯 乙烯共聚物。4.根据权利要求1所述的光学膜，其中，所述微粒的折射率为1.50以上1. 56以下。5.根据权利要求1所述的光学膜，其中，所述光学层的表面的粗糙度轮廓的算术平均 粗糙度03 4 111以上0. 15 μ m以下，并且其平方根斜率RAq为0.01以上0. 03以下。6.根据权利要求1所述的光学膜，其中，所述树脂包含以重量计3%以上20%以下的聚 合物以及以重量计80%以上97%以下的低聚物和/或单体。7.根据权利要求6所述的光学膜，其中，所述树脂包含以重量计3%以上20%以下的聚 合物以及以重量计80%以上97%以下的低聚物。8.一种用于制造光学膜的方法，包括以下步骤 将含有微粒和树脂的涂覆材料涂布到基材上；干燥所述涂覆材料以在所述涂覆材料中产生对流，并利用所述对流将所述微粒在一些 部分密集地分布而在其它部分稀疏地分布；以及将其中所述微粒在一些部分密集地分布而在其它部分稀疏地分布的所述涂覆材料固 化，以形成光学层；其中，所述树脂包含以重量计3%以上20%以下的聚合物； 所述微粒的平均粒径为2. 4 μ m以上8 μ m以下；并且 所述光学层的平均膜厚为6. 4 μ m以上18 μ m以下。9.一种防眩膜，包括 基材；以及防眩层，设置在所述基材上； 其中，所述防眩层在其表面上具有凹凸形状；所述凹凸形状通过以下过程来获得将含有微粒和树脂的涂覆材料涂布到所述基材 上，利用在所述涂覆材料中出现的对流将所述微粒在一些部分密集地分布而在其它部分稀 疏地分布，并固化所述涂覆材料；所述树脂包含以重量计3%以上20%以下...
【专利技术属性】
技术研发人员：芳贺友美，长浜勉，松村伸一，
申请(专利权)人：索尼公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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