一种细小文字的超精细雕刻方法技术

本发明专利技术涉及一种细小文字的超精细雕刻方法，包括：将电雕机图案在拼版时作分雕处理；调整雕刻机雕刻头，设定Ｐ卡上交流信号；退回滑脚，使电流维持在平衡范围内，进行试雕；检测高光槽的宽度与正常高光值是否相同，且电流维持在平衡范围内，若是，则进行雕刻；雕刻完成后，退回至试雕位再试雕一次，测量高光槽宽度是否变化，若否，则雕刻完成。本发明专利技术使用原有雕刻电流的直流控制信号来进行雕刻，它在铜层上所雕刻图形是由长短不同的槽组成，而不是以往的网点，边缘整齐，原有网墙的空间也被雕刻为含墨槽，所以相同文字的含墨量为原有的两倍，同时耐印率也可以达到正常雕刻的近二倍，含墨量是正常的两倍，并且文字印刷效果清晰、实在。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及雕刻法，特别是涉及。
技术介绍
现在的电雕机雕刻的文字边缘有大小不一的小网点存在，使线条及文字发虚。当 文字线条小到一定程度(小于0. 2mm)时，文字的笔画将大部分都为非实地网点组成，文字 的印刷效果将很差。若承印物为纸张，将几乎无法识别出所印刷的文字，产生这种现象的原 因是由于我们所使用的电雕机的工作机理所决定的。通常我们的解决办法是尽量采用高线 数工艺来保证文字边缘效果，但随之带来的是文字的含墨量减少，文字笔画印不实，因此我 们只能在兼顾边缘效果和笔画实在程度之间找一个折中方案。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题就是为了克服上述现有技术存在的缺陷而提供一种 细小文字的超精细雕刻方法。本专利技术的目的可以通过以下技术方案来实现， 其特征在于，包括以下步骤1)将电雕机图案在拼版时作分雕处理；2)调整雕刻机雕刻头，设定P卡上交流信号；3)退回滑脚，使电流维持在平衡范围内，进行试雕；4)检测高光槽的宽度与正常高光值是否相同，且电流维持在平衡范围内，若是，则 进行雕刻；5)雕刻完成后，退回至试雕位再试雕一次，测量高光槽宽度是否变化，若否，则雕 刻完成。与现有技术相本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种细小文字的超精细雕刻方法，其特征在于，包括以下步骤：１）将电雕机图案在拼版时作分雕处理；２）调整雕刻机雕刻头，设定Ｐ卡上交流信号；３）退回滑脚，使电流维持在平衡范围内，进行试雕；４）检测高光槽的宽度与正常高光值是否相同，且电流维持在平衡范围内，若是，则进行雕刻；５）雕刻完成后，退回至试雕位再试雕一次，测量高光槽宽度是否变化，若否，则雕刻完成。

【技术特征摘要】
一种细小文字的超精细雕刻方法，其特征在于，包括以下步骤1)将电雕机图案在拼版时作分雕处理；2)调整雕刻机雕刻头，设定P卡上交流信号；3)退回滑脚，使电流维持在平衡范围内，进...

【专利技术属性】
技术研发人员：卫永新，
申请(专利权)人：上海运安制版有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]