一种OPP无版缝镭射冷转移膜制造技术

技术编号:4797054 阅读:763 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本实用新型专利技术公开了一种OPP无版缝镭射冷转移膜,其特点是基膜上模压镭射层,镭射层为无版缝模压制作的可使版辊周长拼缝不可见的镭射图案。本实用新型专利技术与现有技术相比不仅保持了通常OPP镭射转移产品的各种优良性能,更具有无可视版缝、可多次重复使用的特性,不影响凹印、套印,解决了因拼版缝而跳标,从而影响后道印刷工序连续使用的问题,降低了后道印刷成本,提高了生产效益。(*该技术在2020年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及镭射模压转移膜
,具体地说是一种OPP无版缝镭射冷转 移膜。
技术介绍
目前,市场上供应的OPP镭射转移膜大多都是采用单版模压工艺技术制得,虽然 具有转移产品的各种理化和环保性能,包括镭射装饰及防伪性能。但是现有的模压技术,因 版辊周长而致的拼版缝,使得镭射图案不能连续,影响卷筒凹印的套印,增加了凹印避版缝 的成本,不可避免会存在因拼版缝而跳标的问题,严重影响后道印刷工序的连续使用。
技术实现思路
本技术的目的是针对现有技术的不足而提供的一种OPP无版缝镭射冷转移 膜,它不但具有镭射装饰及防伪性能,解决了因拼版缝而跳标,从而影响后道印刷工序连续 使用的问题,使后道凹印工序避版缝材料的损失大大降低,提高了生产效益。实现本技术目的的技术方案是一种OPP无版缝镭射冷转移膜,其特点是基 膜上模压镭射层,模压层为双版二次模压制作的可使版辊周长拼缝不可见的镭射图案。本技术设计新颖,制作方便,与现有技术相比不仅保持了通常OPP镭射转移 产品的各种优良性能,更具有无可视版缝、可多次重复使用的特性,不影响凹印、套印,解决 了因拼版缝而跳标,从而影响后道印刷工序连续使用的问题,降低了后道印刷成本,提高了 生产效益。附图说明图1为本技术结构示意图具体实施方式参阅附图1,本技术由基膜1、镭射层2组成,镭射层2为双版二次模压制作的 可使版辊周长拼缝不可见的镭射图案,本技术具有无可视版缝、可多次重复使用的特 性,降低了印刷成本。权利要求一种OPP无版缝镭射冷转移膜,包括基膜(1)、镭射层(2),其特征在于基膜(1)上模压镭射层(2),镭射层(2)为双版二次模压制作的可使版辊周长拼缝不可见的镭射图案。专利摘要本技术公开了一种OPP无版缝镭射冷转移膜,其特点是基膜上模压镭射层,镭射层为无版缝模压制作的可使版辊周长拼缝不可见的镭射图案。本技术与现有技术相比不仅保持了通常OPP镭射转移产品的各种优良性能,更具有无可视版缝、可多次重复使用的特性,不影响凹印、套印,解决了因拼版缝而跳标,从而影响后道印刷工序连续使用的问题,降低了后道印刷成本,提高了生产效益。文档编号B44B5/00GK201646204SQ20102013359公开日2010年11月24日 申请日期2010年3月17日 优先权日2010年3月17日专利技术者夏晓谦, 蒋传亚, 袁晨, 金晶 申请人:上海绿新包装材料科技股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种OPP无版缝镭射冷转移膜,包括基膜(1)、镭射层(2),其特征在于基膜(1)上模压镭射层(2),镭射层(2)为双版二次模压制作的可使版辊周长拼缝不可见的镭射图案。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:袁晨蒋传亚夏晓谦金晶
申请(专利权)人:上海绿新包装材料科技股份有限公司
类型:实用新型
国别省市:31[]

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