洗涤剂化妆品组合物及其应用制造技术

本发明专利技术涉及新的洗涤和调理组合物，其中在适用于化妆品的载体中含有：至少一种阴离子表面活性剂，至少一种两性表面活性剂，至少一种水不溶性羧酸酯选自：如果不含不饱和键，酯中的碳原子总数不超过２７，如果含至少一个不饱和键，酯中碳原子总数不超过５０，酯浓度高于１％，阴离子表面活性剂／两性表面活性剂的重量比小于或等于３。本发明专利技术还涉及在头发和皮肤的清洁和护理中的应用。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及具有改进特性的化妆品组合物，其可同时用于清洁和调理角质物如头发，其中在适用于化妆品的含水载体中含有至少一种阴离子表面活性剂、至少一种两性表面活性剂和至少一种特定的羧酸酯，阴离子表面活性剂/两性表面活性剂的重量比小于或等于3。本专利技术还涉及所述组合物在上述化妆应用中的用途。洗涤剂组合物(如香波)主要基于常规的表面活性剂，特别是阴离子、非离子和/或两性类型，更特别是阴离子型，这类组合物一般用于清洁和/或清洗角质物，如头发。可将这类组合物涂敷于湿发上，用手按摩或摩擦发泡，用水漂洗后可令头发或皮肤上原本存在的各类污垢清除。这些基础组合物当然具有良好的清洗力，但相关的内在化妆特性较差，特别是由于这类清洁护理的相对损害特性，长期使用会或多或少地令发丝纤维受损，特别与发丝纤维表面上或表面内存在的脂类或蛋白被逐渐去除有关。结果，为改善上述洗涤剂组合物的美容特性，更具体是被用于敏感头发(即头发经两性成分和/或头发处理，如烫发、染发或漂白后会发现头发受损或变脆)时的特性，目前常在后者中加入称为调理剂的附加化妆品成分，主要用于修复或限制因发丝纤维或多或少重复受到的不同处理或侵害而引起的有害或不良后果。这些调理剂当然也会改善天然头发的美发特性。为此业已提出应用不溶性调理剂。这些不溶性化合物表现出难于在介质中保持均匀分散体形式的缺点。为保持其悬浮，业已提出采用含长链(分散剂)的酯或醚类衍生物或多糖如黄原胶(胶凝剂)。但分散剂存在结晶的问题，这有时会造成组合物随时间而粘度发生变化(粘度增加)；胶凝剂也有缺点，一方面含多糖的洗涤剂组合物难于发泡(发泡差)，另一方面，组合物的结构不光滑并会呈波状流动，用户对此不大满意。此外，由这些不同成分难于制得透明或澄清的组合物。本专利技术的目的是提供没有上述缺陷的组合物。根据应用情况、柔软性、光泽和防缠结性，调理剂还必须被传递在处理的角质物上以提供给角质物。因此，通过对该问题的大量研究，目前本申请人发现，采用特定的洗涤基质、至少一种特定的羧酸酯可制得具有优异化妆特性的稳定的洗涤剂组合物，特别是对所护理头发的防缠结性和光滑性方面，并且在使用中具有良好特性，如良好的内在洗涤力和良好的发泡性。其工业实施极其简单且该香波的化妆特性优异。所得的组合物贮存稳定，无需加入令本专利技术中酯类分散和/或悬浮用试剂。所得的本专利技术组合物由于不含其他不溶性化合物，其还是透明的。组合物中还含有大量羧酸酯，在保持良好透明度的同时还具有良好的化妆特性。本专利技术的组合物可令头发，特别是经漂洗后的头发具有显著的调理效果，具体表现为易防缠结性和光滑特性、柔软性和柔顺性，无油腻感。由此，本专利技术的一个主题是一种新的洗涤和调理化妆品组合物，其特征在于其中在适用于化妆品的含水载体中含有(A)含至少一种阴离子表面活性剂和至少一种两性表面活性剂的洗涤基质，(B)至少一种水不溶性羧酸酯，其选自(1)-饱和或不饱和、直链或支链单羧酸与饱和或不饱和、直链或支链一元醇形成的单酯，(2)-饱和或不饱和、直链或支链二羧酸或三羧酸与饱和或不饱和、直链或支链一元醇形成的二酯或三酯，(3)-饱和或不饱和、直链或支链二羧酸或三羧酸与饱和或不饱和、直链或支链二醇形成的单酯、二酯或三酯，(4)-饱和或不饱和、直链或支链单羧酸与饱和或不饱和、直链或支链二醇形成的单酯，(5)-饱和或不饱和、直链或支链单羧酸与任何类不饱和二醇或与含高于4个碳原子的饱和二醇形成的二酯或三酯，(6)-饱和或不饱和、直链或支链单羧酸与饱和三醇形成的单酯或二酯，(7)-饱和或不饱和、直链或支链单羧酸与含高于3个碳原子的饱和三醇形成的三酯，(8)-饱和或不饱和、直链或支链单羧酸与不饱和三醇形成的单酯、二酯或三酯，(9)-饱和或不饱和、直链或支链二羧酸或三羧酸与饱和或不饱和、直链或支链三醇形成的单酯、二酯和三酯，如果不含不饱和键，则酯中的碳原子总数不超过27，如果含至少一个不饱和键，则酯中碳原子总数不超过50，酯浓度高于1％，组合物中不含阳离子表面活性剂，并且阴离子表面活性剂/两性表面活性剂的重量比小于或等于3。本专利技术组合物中如存在阳离子表面活性剂则会造成所述组合物的化妆品特性劣化。本专利技术的另一主题是上述组合物在清洁和/或卸妆和/或调理角质物如头发和皮肤中的用途。术语“不含阳离子表面活性剂”是指组合物中阳离子表面活性剂的含量低于组合物总量的0.3％重量，优选低于0.1％重量，特别地是阳离子表面活性剂的浓度为0。术语“阳离子表面活性剂”不指阳离子表面活性聚合物。表面活性聚合物并不被本专利技术组合物排除。A-洗涤基质洗涤基质包含一种或多种阴离子表面活性剂和一种或多种两性表面活性剂。(i)阴离子表面活性剂它们的性质在本专利技术中并不认为是真正关键的特征。由此，本专利技术提及的适用的阴离子表面活性剂的实例(可单用或为混合物形式)有以下化合物的盐(特别是碱金属盐尤其是钠盐、钾盐，铵盐，胺盐，氨基醇盐或镁盐)(非限定性列举)烷基硫酸盐、烷基醚硫酸盐、烷基酰氨基醚硫酸盐、烷芳基聚醚硫酸盐或单甘酯硫酸盐；烷基磺酸盐，烷基磷酸盐，烷基酰胺磺酸盐，烷芳基磺酸盐，α-烯烃磺酸盐或石蜡烃磺酸盐；烷基磺基琥珀酸盐，烷基醚磺基琥珀酸盐或烷基酰氨基磺基琥珀酸盐；烷基磺基琥珀酸盐；烷基磺基乙酸盐；烷基醚磷酸盐；酰基肌氨酸盐；酰基羟乙基磺酸盐和N-酰基牛磺酸盐，这些不同化合物的烷基或酰基优选含12-20个碳原子，芳基优选为苯基和苄基。其他可采用的阴离子表面活性剂可提及脂肪酸盐，如油酸盐、蓖麻油酸盐、棕榈酸盐或硬脂酸盐，或椰油酸盐或氢化椰油酸盐；或酰基乳酸盐，其中酰基含8-20个碳原子。还可采用弱阴离子表面活性剂，如烷基D-半乳糖苷糖醛酸及其盐，以及聚氧化亚烷基(C6-C24)烷基醚羧酸，聚氧化亚烷基(C6-C24)烷芳基醚羧酸，聚氧化亚烷基(C6-C24)烷基酰氨基醚羧酸及其盐，具体是含2-50个氧化乙烯基团的那些，及其混合物。优选采用选自以下的阴离子表面活性剂(C12-C14)烷基硫酸钠、(C12-C14)烷基硫酸三乙醇胺或(C12-C14)烷基硫酸铵，经2.2mol氧化乙烯氧乙烯化的(C12-C14)烷基醚硫酸钠，椰油基羟乙磺酸钠和α-(C14-C16)烯烃磺酸盐。阴离子表面活性剂中，本专利技术优选采用烷基硫酸盐和烷基醚硫酸盐，及其混合物。(ii)两性表面活性剂两性表面活性剂的性质在本专利技术中并不认为是关键特征，其具体可以是(非限定性列举)两性伯胺或叔胺的衍生物，其中两性基团是含8-22个碳原子的直链或支链，并含至少一个水溶性阴离子基团(例如羧酸根、磺酸根、硫酸根、磷酸根或膦酸根)；可提及的还有(C8-C20)烷基甜菜碱，磺基甜菜碱，(C8-C20)烷基酰氨基(C1-C6)烷基甜菜碱或(C8-C20)烷基酰氨基(C1-C6)烷基磺基甜菜碱。胺衍生物中可提及的有以商品名Miranol销售的产品，见于专利US2528378和US2781354，其结构如下R2-CONHCH2CH2-N(R3)(R4)(CH2COO-) (2)其中R2为衍生自水解的椰油中存在的酸R2-COOH的烷基，或庚基、壬基或十一烷基，R3为β-羟乙基，R4为羧甲基；以及R2-CONHCH2CH2-N(B)(C)(3)其中B为-CH2CH2OX′，C为-(CH2)本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种洗涤和调理化妆品组合物，其特征在于其中在适用于化妆品的含水载体中含有：（Ａ）含至少一种阴离子表面活性剂和至少一种两性表面活性剂的洗涤基质，（Ｂ）至少一种水不溶性羧酸酯，其选自： （１）－饱和或不饱和、直链或支链单羧酸与饱和或不饱和、直链或支链一元醇形成的单酯， （２）－饱和或不饱和、直链或支链二羧酸或三羧酸与饱和或不饱和、直链或支链一元醇形成的二酯或三酯， （３）－饱和或不饱和、直链或支链二羧酸或三羧酸与饱和或不饱和、直链或支链二醇形成的单酯、二酯或三酯， （４）－饱和或不饱和、直链或支链单羧酸与饱和或不饱和、直链或支链二醇形成的单酯， （５）－饱和或不饱和、直链或支链单羧酸与任何类不饱和二醇或与含高于４个碳原子的饱和二醇形成的二酯或三酯， （６）－饱和或不饱和、直链或支链单羧酸与饱和三醇形成的单酯或二酯， （７）－饱和或不饱和、直链或支链单羧酸与含高于３个碳原子的饱和三醇形成的三酯， （８）－饱和或不饱和、直链或支链单羧酸与不饱和三醇形成的单酯、二酯或三酯， （９）－饱和或不饱和、直链或支链二羧酸和或三羧酸与饱和或不饱和、直链或支链三醇形成的单酯、二酯和三酯， 如果不含不饱和键，其中的碳原子总数不超过２７，如果含至少一个不饱和键，其中碳原子总数不超过５０，酯浓度高于１％，组合物中不含阳离子表面活性剂，并且阴离子表面活性剂／两性表面活性剂的重量比小于或等于３。...

【技术特征摘要】
FR 1999-2-5 99/013861.一种洗涤和调理化妆品组合物，其特征在于其中在适用于化妆品的含水载体中含有(A)含至少一种阴离子表面活性剂和至少一种两性表面活性剂的洗涤基质，(B)至少一种水不溶性羧酸酯，其选自(1)-饱和或不饱和、直链或支链单羧酸与饱和或不饱和、直链或支链一元醇形成的单酯，(2)-饱和或不饱和、直链或支链二羧酸或三羧酸与饱和或不饱和、直链或支链一元醇形成的二酯或三酯，(3)-饱和或不饱和、直链或支链二羧酸或三羧酸与饱和或不饱和、直链或支链二醇形成的单酯、二酯或三酯，(4)-饱和或不饱和、直链或支链单羧酸与饱和或不饱和、直链或支链二醇形成的单酯，(5)-饱和或不饱和、直链或支链单羧酸与任何类不饱和二醇或与含高于4个碳原子的饱和二醇形成的二酯或三酯，(6)-饱和或不饱和、直链或支链单羧酸与饱和三醇形成的单酯或二酯，(7)-饱和或不饱和、直链或支链单羧酸与含高于3个碳原子的饱和三醇形成的三酯，(8)-饱和或不饱和、直链或支链单羧酸与不饱和三醇形成的单酯、二酯或三酯，(9)-饱和或不饱和、直链或支链二羧酸和或三羧酸与饱和或不饱和、直链或支链三醇形成的单酯、二酯和三酯，如果不含不饱和键，其中的碳原子总数不超过27，如果含至少一个不饱和键，其中碳原子总数不超过50，酯浓度高于1％，组合物中不含阳离子表面活性剂，并且阴离子表面活性剂/两性表面活性剂的重量比小于或等于3。2.权利要求1的组合物，其特征在于所述洗涤基质的含量占组合物总重量的4-50％重量，优选为6-35％重量，更优选为8-25％重量。3.权利要求1或2的组合物，其特征在于阴离子表面活性剂的浓度占组合物总重量的3-30％重量，优选为5-20％重量。4.权利要求1-3中任一权利要求的组合物，其特征在于两性表面活性剂的浓度占组合物总重量的1-20％重量，优选为1.5-15％重量。5.权利要求1-4中任一权利要求的组合物，其特征在于阴离子表面活性剂/两性表面活性剂的重量比为0.2-3，更特别为0.4-2.5。6.权利要求1-5中任一权利要求的组合物，其特征在于所述的酯选自(1)-饱和或不饱和、直链或支链C1-C49，优选C3-C30单羧酸与饱和或不饱和、直链或支链C1-C49，优选C2-C30一元醇形成的单酯，(2)-饱和或不饱和、直链或支链C2-C48、优选C3-C30二羧酸或三羧酸与饱和或不饱和、直链或支链C1-C49一元醇、优选C2-C30一元醇形成的二酯或三酯，(3)-饱和或不饱和、直链或支链C2-C49、优选C3-C30二羧酸和三羧酸与饱和或不饱和、直链或支链C1-C49、优选C2-C30二醇形成的单酯、二酯或三酯，(4)-饱和或不饱和、直链或支链C1-C48、优选C3-C30单羧酸与饱和或不饱和、直链或支链C2-C49、优选C3-C30二醇形成的单酯，(5)-饱和或不饱和、直链或支链C1-C46、优选C3-C30单羧酸与不饱和C2-C48、优选C4-C30二醇、或与含4个以上碳原子的饱和二醇并优选C5-C48二醇、更特别是C5-C30二醇形成的二酯或三酯，(6)-饱和或不饱和、直链或支链C1-C47、优选C3-C30单羧酸与饱和C3-C49、优选C3-C30三醇形成的单酯或二酯，(7)-饱和或不饱和、直链或支链C1-C46、优选C3-C30单羧酸与含3个以上碳原子的饱和三醇、优选C4-C47三醇、更特别是C4-C30三醇形成的三酯，(8)-饱和或不饱和、直链或支链C1-C47、优选C3-C30单羧酸与不饱和C3-C49、优选C3-C30三醇形成的单酯、二酯或三酯，(9)-饱和或不饱和、直链或支链C2-C47、优选C3-C30二羧酸或三羧酸与饱和或不饱和、直链或支链C3-C48、优选C3-C30三醇形成...

【专利技术属性】
技术研发人员：S雷斯特勒，N加尼尔，
申请(专利权)人：莱雅公司，
类型：发明
国别省市：FR[法国]