一种用于钙钛矿太阳能电池低损伤膜层的溅射装置及设备制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种用于钙钛矿太阳能电池低损伤膜层的溅射装置及设备。溅射装置位于溅射设备中，基片位于溅射设备中进行直线式运动，当经过溅射装置时，可对基片进行溅射镀膜；溅射装置包括靶座，靶座内部设有两个溅射阴极，两个溅射阴极相对称设置；两个溅射阴极表面设有靶材，且每个溅射阴极均具有垂直于靶材的平面；溅射阴极倾斜朝向开口设置，且两个平面之间的夹角设置为A,且A为钝角。本发明专利技术通过倾斜设置两个溅射阴极，能够降低溅射阴极工作时产生的粒子对基片上钙钛矿吸光层的损伤，保证整个基片镀钙钛矿吸光层的合格率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及溅射镀膜，特别是涉及一种用于钙钛矿太阳能电池低损伤膜层的溅射装置及设备。

技术介绍

1、现有的钙钛矿太阳能电池（perovskite solar cells, psc）的结构通常由多层功能材料组成，旨在高效吸收光能并转化为电能。钙钛矿太阳能电池具体包括透明导电基底（ito/fto）、空穴传输层（htl，p型）、钙钛矿吸光层（perovskite，下文简称pvk）、电子传输层（etl，n型）和顶部电极（金属或透明电极）等组成。

2、在钙钛矿太阳能电池（psc）中，原子层沉积（ald）、反应等离子体沉积（rpd）和溅射（sputtering）是制备电子传输层（etl）的重要技术，各有优缺点，如下：

3、1）：优点：超薄、致密、无损伤，适合高效实验室器件（如>25% psc），低温工艺兼容 柔性衬底。缺点：沉积慢、成本高，难量产。

4、适用场景：研究级高精度器件、叠层电池顶层etl。

5、2）:优点：低温低损伤，直接沉积于钙钛矿上，适合柔性/刚性器件，薄膜质量接近ald，速率优于ald。缺点：设本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种用于钙钛矿太阳能电池低损伤膜层的溅射装置，应用于溅射设备中，对基片进行溅射镀膜，其特征在于，包括靶座，所述靶座具有开口，所述基片位于所述靶座外侧，且可正对所述开口设置；

2.根据权利要求1所述的溅射装置，其特征在于，所述A的取值范围为120°-150°。

3.根据权利要求1所述的溅射装置，其特征在于，所述开口在所述基片的投影为第一投影，在所述基片长度方向上，所述第一投影的长度为L1；

4.根据权利要求3所述的溅射装置，其特征在于，所述靶座远离所述基片的内侧壁设置有辅助阳极。

5.根据权利要求4所述的溅射装置，其特征在于，所述辅助阳极...

【技术特征摘要】

1.一种用于钙钛矿太阳能电池低损伤膜层的溅射装置，应用于溅射设备中，对基片进行溅射镀膜，其特征在于，包括靶座，所述靶座具有开口，所述基片位于所述靶座外侧，且可正对所述开口设置；

2.根据权利要求1所述的溅射装置，其特征在于，所述a的取值范围为120°-150°。

3.根据权利要求1所述的溅射装置，其特征在于，所述开口在所述基片的投影为第一投影，在所述基片长度方向上，所述第一投影的长度为l1；

4.根据权利要求3所述的溅射装置，其特征在于，所述靶座远离所述基片的内侧壁设置有辅助阳极。

5.根据权利要求4所述的溅射装置，其特征在于，所述辅助阳极设置为两个，两个所述辅助阳极关于两个所述溅射阴极的对称平面相对称设置...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭家俊，赵泽鑫，宋光耀，龙启凡，
申请(专利权)人：杭州鼎能光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：